采用水溶液自由基聚合法,引入一种新型烯丙基型季铵盐阳离子——三羟乙基烯丙基季铵盐,与丙烯酰胺、2-丙烯酰胺-2-甲基丙磺酸(AMPS)在氧化-还原引发剂体系下合成一种两性三元共聚物.在静态条件下考察最佳合成条件:单体配比n(季铵盐阳离子):n(丙烯酰胺):n(AMPS)为1:2:1,聚合温度为60℃、反应时间为4 h、引发剂质量分数为4.5％时,合成的聚合物阻垢性能最好.性能评价结果表明,阻垢剂质量浓度为120 mg/L时,对硅垢的阻垢率可达到78.2％.通过加入阻垢剂前后垢样的电镜扫描图可知,加入阻垢剂的垢样疏松分散.
烯丙基型季铵盐 两性聚合物 硅垢 阻垢剂