基于严格的矢量耦合波理论,优化设计了用于13.4 nm软X射线干涉光刻的透射型双光栅掩模版.采用电子柬光刻技术,在国内首次成功制作了周期为100 nm的大面积金属型透射光栅.光栅面积为1.5 mm×1.5 mm,Cr浮雕厚度为50 nm,Gap/period为0.6,衬底Si,N4厚度为100 nm.此光栅将用于上海光源软X射线干涉光刻实验站.利用其1级衍射光和2级衍射光将可以经济高效地制作周期为50和25 nm的大面积周期结构.最后,测量了该光栅对波长为13.4 nm同步辐射光的衍射光强度,并且推算得出该光栅的1级和2级衍射效率分别为4.41%和0.49%,与理论设计值比较符合.实验结果与理论模拟结果的对比表明该光栅侧壁陡直,Gap/period的控制也与设计值符合.
软X射线金属型透射光栅 严格耦合波方法 衍射效率 软X射线干涉光刻