磁控溅射已经成为沉积薄膜的最重要的方法之一.然而,这种镀膜技术亦存在一些缺点(例如,有限的溅射产额和反应溅射过程中等离子体不稳定等问题),所以它不适宜于在介质膜工业生产中应用.本文介绍了一种新的中频(MF)电源供电的孪生靶磁控溅射.采用这种技术并结合智能化的工艺控制系统(IPCS)特别对于反应沉积化合物镀层开辟了许多新的机遇,它能够在长期内获得高的沉积速率并处于稳定的镀膜状态.因此,大面积镀膜在建筑玻璃、汽车玻璃和显示器方面的应用就有了明显的进展并具有广阔的前景.
大面积镀膜 反应溅射 中频溅射 工艺控制系统