利用射频溅射方法,制得AZO透明导电膜,并用离子束刻蚀制备绒面,得到绒面AZO透明导电膜.比较刻蚀前后光电性能及表面形貌,发现透过率稍有下降,在可见光波段透过率在80％以上；电阻率略有上升,但仍保持在10-3Ω·cm数量级,最低为2.91× 10-3 Ω·cm;刻蚀后薄膜表面形貌变化较大,大多数薄膜表面呈现“坑状”结构,横向尺寸在0.5～1.0 μm,开口角在120°左右,表面粗糙度从7.29 nm上升到36.64 nm.薄膜具有较好的表面微结构,在作太阳能电池前电板方面有较好的应用前景.
AZO薄膜 绒面结构 太阳能电池 离子束刻蚀