以正硅酸乙酯(TEOS)为前驱体,乙醇为溶剂,氨水为催化剂,制备二氧化硅(SiO2)前驱体溶胶,并采用氢氟酸(HF)对溶胶中的球形SiO2粒子进行刻蚀改性,通过浸渍提拉法镀膜制备多孔SiO2膜层材料.研究结果表明,HF刻蚀后,多孔SiO2膜层材料的折射率明显降低,当HF的质量分数为3％时,膜层的折射率降低至1.101,膜层的静态接触角降低为3°,并且膜层的防雾性能得到显著提高.
低折射率 溶胶-凝胶法 超亲水 防雾性 氢氟酸 SiO2粒子刻蚀