对靶非平衡磁控溅射系统由两个相对磁控溅射靶和一个磁镜场约束系统构成,通过调整电磁线圈的激励电流可以控制磁镜场的空间分布状态,测量了合成磁场的空间分布状态.采用平面探针方法,在两靶中间位置测量了收集电流密度.结果表明,探针的收集电流密度随磁镜场的激励电流增加显著增大,在偏压150 V、工作气体Ar、压力0.2 Pa和磁控溅射靶工作电流3 A时,收集的电流密度可以达到5.77 mA/cm2.
非平衡磁控溅射 薄膜 等离子体