以草酸为电解液，采用二次阳极氧化法制备出了纳米多孔氧化铝薄膜，经不同退火温度和退火气氛处理氧化铝薄膜后，通过分析其光致发光光谱得出：相同的退火气氛中，退火温度 T≤600℃时， T＝500℃具有最大的光致发光强度；退火温度 T≥700℃时，随着退火温度的升高，样品的发光强度增大。在不同的退火气氛中，多孔氧化铝薄膜随着退火温度的升高，发光峰位改变不同，即在空气中退火处理后，随着退火温度的升高，发光峰位蓝移，而在真空中退火处理后，发光峰位并不随退火温度的升高而变化；通过对1100℃高温退火处理后的氧化铝薄膜的光致发光曲线的高斯拟合，可以看出，经退火处理后的多孔氧化铝，主要存在三个发光中心，发光曲线在350～600 nm范围内对应三个发射峰，发射波长分别为387，410，439 nm。相同的退火温度下，空气中退火得到的氧化铝薄膜的光致发光强度大于真空中退火处理后的氧化铝薄膜。基于实验结果，结合X射线色散能谱（EDS ）、红外反射光谱等表征手段，探讨了多孔氧化铝薄膜的发光机制，并对经过不同退火条件得到的多孔氧化铝薄膜的光致发光特性的改变做出了合理的解释。
纳米多孔氧化铝薄膜 光致发光 发光中心 退火 光谱分析