分别用PCMB、NEM、N-AI、NBS等对诺卡氏菌形放线菌β-D-甘露聚糖酶进行化学修饰，证明蛋白上的疏基、酪氨酸残基及色氨酸残基是维持酶活性的必需基团。在加入少量底物后，β-D-甘露聚糖酶的最大荧光发射峰从天然状态下的336 nm处蓝移至332nm，且峰强度有所增大.这表明其色氨酸残基隐藏在蛋白内部的疏水区城.通过对该酶圆二色性扫描光谱的分析，表明蛋白内部有二硫键的存在；通过巯基乙醇化学修饰的研究，表明二硫键是影响该酶热稳定性的一个重要因素.在蛋白的各种二级结构中，α-螺旋、β-折叠、β-转角、自由卷曲的比例分别为16.6％、25.4％、20.5％和37.5％.
β-甘露聚糖酶 诺卡氏菌形放线菌 化学修饰 活性中心