采用激光化学气相沉积法在Al2O3基底上以49μm·h-1的沉积速率高速制备了c-轴取向的YBa2Cu3O7-δ薄膜,其中,激光功率为133 W,沉积温度1103 K,腔体压强800 Pa.研究了前驱体蒸发温度及薄膜退火温度对薄膜电学性能的影响.研究表明,Ba、Cu、Y前驱体加热温度分别为603、478、459 K时制备的薄膜在经813 K高温热处理12 h后,临界温度可达83 K.
激光化学气相沉积 YBa2Cu3O7-δ薄膜 高速沉积