用掠入射X射线衍射及X射线反射对磁控溅射制取的等原子比Ni/Ti周期性多层膜晶化热处理后的TiNi形状记忆薄膜室温微结构进行了研究.TiNi形状记忆薄膜在深度方向的相分布和元素分布是不均匀的,都是一种多层结构.室温下其微结构特征为最外层是Ti氧化膜,再下层是Ti3Ni4,B19'马氏体相和少量的B2奥氏体相的三相混合物,靠近基体为主要相成分马氏体,最后是Ni和Si界面反应层.X射线反射率的拟和结果显示薄膜微结构的分析是合理的.薄膜中相深度分布的不均匀性主要是动力学因素决定的.
相深度分布 形状记忆 TiNi 多层膜