针对现有同轴检焦方法如临界角法、博科刀口法、针孔法以及像散法等容易受光强变化的影响,且对系统装调有较高要求的问题,提出一种基于差动调制度解析的同轴检焦方法.通过物理光栅对成像空间进行编码,并采用傅里叶变换解析经基片高度调制后的编码图像调制度分布,结合差动探测系统实现对基片高度的精确测量.理论与实验表明,采用数值孔径为0.9、放大倍率为100的物镜,检焦精度优于10 nm.本文所提的检焦方法无需复杂光学元件,具有结构简单、测试精度高等优点,将为新型光刻技术提供一种新的高精度同轴检焦手段.
测量 同轴检焦 光刻 傅里叶变换 调制度