为了改善微反射镜存在的驱动电压高、驱动力小的缺点,基于双金属效应,制得可调焦微光学自适应阵列.以硅为基底,先后经过热氧化、光刻显影、HF酸刻蚀、KOH湿法刻蚀,溅射铝膜等微加工工艺,制得的4×4阵列,基底厚50/μm,硅表面铝膜厚100nm.利用激光数字波面干涉仪对可调焦微反射镜的动态性能进行了测试.实验表明,在0～11V电压范围内,可产生最大7.91μm的连续变形.
自适应光学 微反射镜 微光机电系统 微光学