采用分子印记技术,以山奈素为模板分子,4-乙烯基吡啶(4-VP)为功能单体,乙二醇二甲基丙烯酸酯(EDMA)为交联剂,偶氮二异丁氰(AIBN)为引发剂,在CHCl3-DMF(体积比3∶1)的溶剂体系中合成了含碱性功能基团的分子印记聚合物.通过红外光谱及扫描电镜( SEM)时聚合物进行表征,并研究印记聚合物对山奈素的吸附性能及机理.静态吸附实验结果表明:该分子印记聚合物对山奈素具备良好的吸附能力,经Scatchard模型分析印记聚合物存在对模板分子均一的结合位点,其最大表观吸附量(Qmax)为3938 μg/g,平衡解离常数(KD)9.074 mg/L.选择性实验表明,分子印记聚合物在山奈素-芦丁体系中的分离因子达到3.24.
分子印记聚合物 山奈素 特异识别 吸附性能