采用熔融的KOH溶液腐蚀蓝宝石衬底,获得具有三角形图案的腐蚀坑形貌,并对腐蚀坑的三角形形状给出了理论解释.在不同温度和不同的腐蚀时间进行对比结果分析,发现在280 C下腐蚀60 min左右,显示的位错清晰、准确,且最适合随后的横向外延生长.采用高分辨率双晶XC线衍射(DCXRD)测试分析,结果表明,预处理对蓝宝石衬底的晶体质量和折射率色散关系几乎没影响,所以,预处理获得一定图案的蓝宝石可作为GaN横向外延的衬底,为降低GaN薄膜的位错密度,获得高质量的GaN薄膜提供有利的保障.
蓝宝石衬底 表面处理 GaN 薄膜