本文利用透射电子显微术研究了铁电PbTiO3薄膜中形成的锯齿状头对头180-荷电畴壁.衬度分析表明薄膜中存在高密度的180-畴.像差校正电镜研究发现180-畴壁处晶格转角呈现顺时针和逆时针交替排布,其极化呈头对头分布,且在180-畴壁处面外晶格受到压缩而面内晶格参数保持不变,进而导致了畴壁处四方度的减小,认为这种畴壁的形成是由表面或界面电荷分布不均匀导致反向c畴在该处形核长大造成.
铁电薄膜 180-畴 像差校正电子显微学 PbTiO3