提出了一种新颖的阴极微弧电沉积技术(CMED). 利用该技术在FeCrAl合金上制备出厚的钇稳定氧化锆(YSZ)涂层. 研究结果表明, 在试样上预先沉积YSZ薄膜, 施加高压电脉冲时可以导致微弧放电; 在微弧的作用下可以获得厚度达300 (m具有晶态结构的YSZ涂层; 高压电脉冲的电压值和频率决定了沉积涂层的厚度; 电解液中添加硝酸钇时, 发生ZrO2和Y2O3的共沉积, 可使涂层中的t-ZrO2, t'- ZrO2和c-ZrO2稳定到室温; 提高电解液中Y(NO3)3的含量可以降低涂层中m-ZrO2的相对含量. 研究了阴极微弧电沉积YSZ涂层的微观结构, 分析了阴极微弧电沉积的基本过程及机理.
阴极微弧电沉积 氧化物涂层 钇稳定氧化锆