提出一种改进的金属辅助化学蚀刻技术(metal-assisted electroless etching,MAEE)来制备硅基微纳米(silicon micropillar/nanowire,MP/NW)复合结构,技术结合了传统MAEE及旋涂法,实验腐蚀液由KMnO4/AgNO3/HF组成,探究了腐蚀温度、旋涂速度及腐蚀时间对复合结构的表面形貌特征的影响,并分析了制备条件对反射率与吸收率的影响规律.结果表明,腐蚀温度改变时,复合结构的高度差、MP的直径和NW的长度都随着温度的增加而减少,而反射率随之增大,吸收率随之减小;当旋涂速度改变时,旋涂速度的增加会导致复合结构的高差、MP直径和NW长度减小,反射率随速度增加而增大,吸收率随之减小;腐蚀时间延长时,复合结构的高度差、MP的直径、吸收率随之减小,而NW高度与其反射率随之增加.
金属辅助化学刻蚀 旋涂法 微纳米复合结构