采用紫外-可见光谱法研究了甲基橙在聚吡咯/纳米SiO2复合材料(PPy/n-SiO2)上的氧化性能.结果表明:在弱酸性介质中,PPy/n-SiO2对甲基橙的氧化性能明显优于聚吡咯;反应5～40 min时,甲基橙氧化反应符合表观一级反应动力学;反应60 min时,甲基橙的降解率可达到94.7％;PPy/n-SiO2经二次回收再生后,反应60 min时甲基橙降解率为96.5％.
甲基橙 聚吡咯 氧化 二氧化硅 紫外-可见光谱法