等离子体增强化学气相沉积(PECVD)是一种利用高压电场,使含有涂层元素的化合物或单质气体激发成等离子体,加速化学反应,降低沉积温度、提高沉积速率的一种涂层技术,使硬质合金表面性能强化,并保持基体原有抗弯强度.本文主要介绍了一种硬质合金PECVD设备,该设备结构简单,能实现低温条件下的化学气相沉积,等离子体起到增强沉积反应的作用,实验表明该设备能较好地完成TiN-TiCN复合涂层,也为进一步研究提供了参考.
硬质合金 PECVD 等离子体 涂层