传统气-固反应工艺制备TiN粉体存在难以逾越的内扩散控制过程,导致制备高纯、正化学计量比的TiN粉体至今存在巨大困难.提出了流态化化学气相沉积工艺(FBCVD)制备高质量TiN粉体,即基于TiCl4-N2-H2体系,在往复运动的TiN种子粉体上沉积新生高质量TiN粉体的新方法.实验发现,当TiN种子粉体粒径大于52.95μm时,即使在1000℃沉积2 h也不会失流,同时在TiN种子粉体上获得了亚微米级的结节状新生TiN颗粒.通过氧氮分析仪和XRD分析发现,新方法显著提升了粉体的氮含量,获得了近化学计量比的TiN0.96,且氧含量下降了约40％.此外,流化床中气相沉积TiN的生长模式为岛状生长模式,为工业中制备高质量TiN粉体提供了一种新的方法.
流化床化学气相沉积 氮化钛 粉体 化学计量比