采用连续压入法以及球滚接触疲劳法评定不同界面共混工艺所制Cr-N镀层膜基结合强度，并对两种方法试验结果进行分析对比.试验结果表明，在其它参数相同条件下，随着氮离子轰击能量从10、20keV提高到40keV，动反冲共混界面结合强度则有明显降低的趋势，Pc值测量值分别为650、700、330N.当轰击能量为20、10keV时，Cr-N镀层在Δτrz=442MPa时，循环疲劳周次达到5.0106时，镀层未剥落，表现出很高的动态结合强度,而40keV动反冲共混界面在Δτrz=442MPa时，循环疲劳周次仅为9.0105.较低能量(10、20keV)氮离子动态共混界面具有更理想的膜层--基体结合强度.两种方法测试结果具有一致性.当膜层--基体结合力较高时，压入法评定膜层--基体结合强度更简便、适用.
离子束增强沉积 CrN 膜层--基体结合强度