为了增大MEMS超级电容器电极结构的表面积,提高MEMS超级电容器的电荷存储能力,研究了利用SU-8胶制备高深宽比三维电极微结构.经过基片清洗、涂胶、前烘、曝光、后烘、显影、坚膜等过程,制备了深宽比为6的微结构.分析讨论了微结构制备过程中基底洁净度和升降温速度及曝光、显影时间等因素对结构制备的影响.实验结果表明,用SU-8胶制备高深宽三维电极微结构,能在相同底面积的基础上有效增加电板结构的表面积,提高单位底面积的电容器储能密度.
三维微结构 SU-8光刻胶 高深宽比 超级电容器 MEMS