利用多靶磁控溅射方法分别镀制了W/C和Mo/Si两种周期性结构多层膜.通过对其相关参数周期数、厚度比以及周期厚度的调整,使薄膜的布拉格衍射峰出现在布儒斯特角附近,两种多层膜的应用能量范围分别落于C的近K边处和Si的L边前.在北京同步辐射装置3W1B光束线的软X射线光学实验站上进行了反射率的测量,得到W/C膜的反射率在214eV时达到4.18%;Mo/Si周期性多层膜的反射率在89eV处达到32.3%.根据测量结果,分析了在同步辐射装置作为偏振元件的可行性.
同步辐射 软X射线 多层膜 偏振元件