将氨氯吡咪选择性地嵌入ds-DNA中单链断裂损伤所形成的缺口位点,并通过氢键与缺口位点处的碱基结合从而导致氨氯吡咪荧光猝灭,据此建立了荧光检测DNA单链断裂损伤的新方法.氨氯吡咪荧光的猝灭程度与缺口位点处碱基类型相关,当缺口位点处的碱基为T碱基时,荧光猝灭程度最大.荧光滴定实验表明氨氯吡咪和存在缺口位点的ds-DNA是1∶1结合,结合常数为105mol/L数量级.在正常ds-DNA和存在单链断裂损伤的ds-DNA的溶液中加入氨氯吡咪,在紫外灯照射下通过目视法即可分辨出二者荧光强度的不同.
荧光 DNA单链断裂损伤 氨氯吡咪 氢键 识别