采用分子镀方法研究了异丙醇-硝酸体系中两极间距离、电流密度、加入HNO3的量和分子镀持续时间对镀层性能和电沉积效率的影响,确定了制备Tb,Dy和Ho靶的最佳工艺条件.同时也探索了在异丁醇-硝酸体系中,分子镀持续时间和电流密度对Tb靶电沉积效率的影响.因Tb,Dy和Ho三种元素化学性质相近,故采用了相同的工艺条件:两极间最优距离为15 mm,电流密度为5.7 mA/cm2,加入0.1mol/L HNO3 400 μL,分子镀时间为1h.用分光光度法测得各靶的沉积效率均高于85％;利用扫描电子显微镜(SEM)对部分靶的表面形貌分析后发现靶面结构均匀致密;利用能谱仪(EDS)对靶子进行了定性和半定量分析;利用红外光谱法对靶膜化学成分进行了分析,发现靶膜成分结构复杂,不是由一种化合物组成.目前制得的Tb靶和Ho靶已用于中国科学院近代物理研究所加速器SFC低能核化学终端上,利用19F束流轰击,分别产生了W和Os的短寿命同位素,从而成功完成了Sg(Z=106)和Hs(Z=108)的模型试验.
分子镀 镧系元素靶 沉积效率