将铁电液晶(FLC)的本征电路模型扩展到以FLC为调制层,a-Si∶H为光敏层的光寻址空间光调制器(OASLM),建立了FLC-OASLM的宏模型.用电路方法模拟了控制光强度以及外部激励信号的特征参数对FLC-OASLM响应速度的影响.模拟结果表明,FLC-OASLM的响应速度随写入光强度和激励信号幅度的增大而加快,随擦除光强度和激励信号频率的提高而减慢.同时,激励信号存在一个上界频率,当频率参数取值超过界值时,响应峰值迅速下降.
铁电液晶 光寻址空间光调制器 宏模型 响应速度