超薄显示技术已成为市场的一种主流趋势.本文利用刻蚀后清洗的间歇式工艺研究了显示屏半成品的化学减薄.在光刻胶和边框胶保护下,调整氢氟酸浓度,加入一定量的硝酸、浓硫酸和盐酸,并添加超声辅助条件,刻蚀速率明显提高.通过交替的清洗工艺有效地降低了表面粗糙度,并减少了表面白色附着物的沉淀.显示屏厚度从0.8 mm减薄到0.3 mm,基板表面粗糙度为11.32 nm,厚度均匀性为4.76％.设计的间歇式减薄工艺可以应用到现有的显示屏生产工艺中,为制作超薄液晶显示屏和超薄有机发光显示屏提供了一条可行的方案.
显示屏 化学减薄 间歇式工艺 刻蚀