荧光发射强度在荧光显微术科学观测中至关重要.理论分析了三大影响荧光发射强度的重要因素:分子吸收激发光光子的能力、荧光量子产量及其荧光饱和与荧光猝灭,指出选择具有大光吸收截面和高量子产量的荧光分子,能有效保证荧光发射强度；确定合理的激发光强度范围,可避免不必要的荧光饱和现象.进一步实验研究了超高真空和大气环境下的荧光猝灭现象,得出超高真空时荧光分子的荧光猝灭现象极不明显,而大气环境可造成荧光光强指数递减的结论.
荧光发射强度 荧光饱和 荧光猝灭 荧光光谱