采用原子层沉积技术（ALD），以二乙基锌和水为前驱体，在衬底温度分别为110和190℃的条件下制备了致密的氧化锌纳米薄膜。采用X射线光电子能谱，荧光光谱和椭偏仪等表征手段对薄膜的成分和光学性质进行了研究。结果表明，随着沉积温度的增加，氧化锌薄膜内-OH含量降低，说明氧化锌薄膜生长过程中的化学反应更加完全；另外，沉积温度增加后，薄膜在365 nm处的激子发射峰出现了明显的增强，同时可见光区的荧光发射峰消失，表明薄膜内的缺陷态减少。随着成膜质量的提高，氧化锌薄膜的电子迁移率从25提高至32 cm2?（V?S ）-1。椭偏测量的拟合结果表明，在375～800 nm的波长范围内，氧化锌薄膜的折射率逐渐从2.33降至1.9，呈现出明显的色散现象；另外，不同温度下制备的氧化锌薄膜光学带隙均为3.27 eV左右，这说明沉积温度对薄膜的带隙没有明显影响。
原子层沉积 氧化锌薄膜 光学特性