研制出了适合于磁性电子元器件表面平坦化加工用的抛光剂,该抛光剂磨料选用超细α-Al2O3微粉.通过对磨料化学纯度的处理、表面包裹处理、抗静电处理、分散剂等方面研究试验,对抛光剂悬浮性、酸碱性、润滑性、可擦性等方面进行检测,结果表明:该抛光剂具有高浓度、低粘度和高分散稳定性,抛光效率高,具有良好的抗静电性和可擦性.抛光剂pH=6～8,抛光效率≥1.2μm/s,工件表面粗糙度Ra≤0.04μm.
磁性电子元器件 超细α-Al2O3微粉 抛光剂 精加工