采用正交优化法研究了沉淀聚合制备高三尖杉酯碱印迹聚合物的优化合成条件.固定模板分子用量,从3个水平考察了4个因子,即溶剂(乙腈)用量(A)、反应温度(B)、功能单体(甲基丙烯酸,MAA)用量(C)和交联剂(乙二醇二甲基丙烯酸酯,EGDMA)用量(D),对印迹聚合物合成条件进行优化,并研究了因子之间的相互作用对印迹聚合物吸附性能的影响.结果表明:在所考察的4个因子中,功能单体用量对印迹聚合物的吸附量影响最甚,其次是交联剂用量、溶剂用量及合成温度.单从吸附量而言,最优的合成条件是:功能单体(MAA)用量0.12mmol,交联剂(EGDMA)用量0.4mmol,溶剂(乙腈)用量2.5mL,温度65℃.因子间相互作用对分子印迹聚合物吸附量的影响结果与正交实验测试结果相符.
正交优化法 沉淀聚合 高三尖杉酯碱 分子印迹聚合物