利用一种宽波段伪装网和超光谱成像仪进行了光谱成像伪装干扰试验,基于实施干扰前后光谱图像数据光谱特性的变化,利用光谱相似性度量指标,提出了一种用于评估光谱成像干扰效果的光谱距离准则,结合光谱成像伪装干扰试验结果,对该准则的适用性进行了验证分析.结果表明,在试验条件下,有效伪装区光谱图像像元在伪装前后光谱向量之间的光谱距离可达0.14～0.5,具体幅值大小因伪装前的目标特性、伪装网层数、超光谱成像仪增益等因素而异,而非伪装区和无效伪装区光谱图像像元的光谱距离都在0.05以下,可见在对目标实施有效的伪装干扰前后,伪装区像元的光谱距离通常会显著大于非伪装区,而且伪装效果越显著,光谱距离就越大.因此,光谱距离可以定量反映干扰对像元光谱特性的影响,并能鉴别不同干扰效果之间的细微差别,所以可用于定量、客观评估光谱成像干扰效果.
光谱成像 干扰效果评估 光谱相似性 光谱距离 伪装