随着航天器的寿命从5年增加到8年以上，光学薄膜在空间飞行中经受的带电粒子辐照时间更长，光学薄膜更容易受到损伤，因此对光学薄膜抗辐射性能要求也不断提高。开展了光学薄膜带通滤光片电子/质子综合辐照实验，研究电子/质子综合辐照作用下带通滤光片的性能退化规律，借助于XPS和AFM等表面分析技术对带通滤光片微观分析，研究带通滤光片在电子/质子综合辐照下的退化机理。为带通滤光片空间适应性研究提供基础，同时为带通滤光片工艺设计与可靠性提供技术支撑。
带通滤光片 电子/质子辐照 性能退化