以纳米氧化铝为磨料对A向蓝宝石进行化学机械抛光,实验中考察了磨料浓度、磨料粒径、抛光时间、抛光压力以及NH4F浓度等因素对A向蓝宝石的材料去除速率和表面粗糙度的影响.利用原子力显微镜(AFM)检测抛光后A向蓝宝石的表面粗糙度,系统分析抛光过程中各影响因素,优化实验条件,结果表明:当抛光液中磨料质量分数为1％、磨料粒度尺寸为50 nm、抛光时间为40 min、抛光压力为16.39 kPa、NH4F质量分数为0.6％、pH=4.0时,抛光后材料去除速率(MRR)为18.2 nm/min,表面粗糙度值Ra22.3 nm,抛光效果最好.
A向蓝宝石 化学机械抛光 氟化铵 材料去除速率 表面粗糙度