采用电荷分布多位络合模型模拟（CD-MUSIC）、XPS、FTIR和Zeta电位分析的方法研究了三氯化铁去除As(Ⅴ)、Cd(Ⅱ)的机理。结果表明：在pH 3～7范围内，砷、镉通过竞争铁氧化物表面的有效作用位点而相互抑制；而在pH 7～10范围内，Cd(Ⅱ)主要以Cd(OH)2沉淀的方式得以去除，并通过共沉淀作用促进砷的去除。根据CD-MUSIC 模拟结果，As(Ⅴ)主要形成单齿单核质子化（ FeOAsO3H1.5-、FeOAsO(H2O)20.5-）的表面配合物，结合常数分别为63.04、66.50；而 Cd(Ⅱ)则以 FeOHCd1.5+形态结合在铁氧化物的表面，结合常数为31.05，其含量随着pH的升高逐渐减少。
三氯化铁 砷 镉去除机理 电荷分布多位络合模型