利用AFM对在(100)和与(100)有6°切偏角的SrTiO3基片上用射频溅射方法制备的高温超导Bi2Sr1.6La0.4CuO6+δ(Bi2201)薄膜的生长模式进行了系统地研究.对应以上两类不同切割的基片,实验观察到两种不同的薄膜生长模式.对切偏角小于0.4°的(100)SrTiO3基片,本征的生长模式是梯田岛模式(Volmer-Weber模式),每层的厚度为c/2(1.25nm);在切偏角为6°的衬底上沉积的Bi2201薄膜则以台阶流模式(Step-flow mode)生长.Bi系高温超导体的本征的二维特性决定了薄膜的生长模式.
原子力显微学 Bi2Sr1.6La0.4CuO6+δ薄膜 高温超导体 梯田岛模式 台阶流模式