采用高级氧化技术-紫外／双氧水（UV／H2 O2）和紫外／过硫酸盐（UV／PS）工艺降解磺胺吡啶（SPY）。研究表明，紫外与氧化剂（H2 O2、PS）联用可显著提高去除率，其反应符合拟一级动力学模型。目标污染物磺胺吡啶的去除率在一定浓度内随着氧化剂H2 O2和PS浓度升高而升高；磺胺吡啶初始浓度越大，反应速率越小；UV／H2 O2工艺降解磺胺吡啶最大去除率发生在pH＝3，而UV／PS工艺降解SPY在pH＝11时去除率最大；NaCl会抑制UV／H2 O2和UV／PS工艺对目标污染物的降解，而适当的NaHCO3可促进降解反应的进行；腐植酸对UV／PS工艺产生抑制作用，低浓度腐植酸（≤1 mmol／L）对UV／H2 O2工艺则有促进作用。
磺胺吡啶 紫外/双氧水 紫外/过硫酸盐 影响因素 反应动力学模型