为制备加速器生产64Cu辐照用Ni靶,采用电沉积法研究了电沉积过程中影响Ni靶层质量和质量厚度的主要因素,确定了Ni靶制备工艺条件和参数,为Ni浓度40～50 g/L,盐酸浓度0.05～0.5 mol/L,电沉积温度20～50℃,搅拌器旋转速度150～350 r/min,电流密度10～35 mA/cm2.在此工艺条件下制备出的Ni靶件表面光滑、平整,靶层致密、牢固,可应用于回旋加速器生产64Cu.
64Cu Ni靶 电沉积法 加速器