采用直流磁控溅射工艺于200℃的玻璃基板制备了大面积AZO透明导电薄膜.重点研究了样品晶体结构、方阻、可见光透过率、样品形貌等随其位置变化的情况.研究表明,大面积AZO薄膜的晶体结构、可见光透过率、样品形貌等随样品位置变化比较小,大面积AZO样品均按C轴取向生长,表面平整,晶粒尺寸为20 nm左右.在本实验条件下获得的大面积AZO薄膜方阻在86～110 Ω/□范围内,方阻线性变动率为28%,样品电阻率为6.34～7.26×10-4 Ω·cm,可见光平均透过率均高于87%.
薄膜太阳能电池 大面积镀膜 掺铝氧化锌 磁控溅射