本文建立了金刚石膜抛光装置的实体模型,采用接触分析法计算抛光装置高速旋转时,抛光盘厚度和转速对抛光装置的强度、刚度的影响规律.结果表明:随着金刚石膜抛光盘厚度的增加,同一转速下,von Mises等效应力与径向位移的变化很小,而轴向位移在抛光盘厚度较小时呈直线上升趋势,当抛光盘厚度大于等于8 mm时,轴向位移的变化逐渐趋于平稳.同时,对于同一厚度的金刚石膜抛光装置,随着转速的提高,von Mises等效应力和径向位移呈现相似的上升趋势,轴向位移却先上升后下降.文中得出的结论为金刚石膜超高速抛光机的设计和实际操作,提供了可靠的理论依据.
金刚石膜 抛光装置 有限元法