BEPCⅡ是一粒子工厂型的正负电子对撞机,为北京正负电子对撞机(BEPC)的改造、升级工程.它对直线注入器的基本要求是40mA,1.89GeV的正电子束流,发射度1.6μm,能散度好于士0.5%,保证储存环的注入速率≥50mA/min,实现TOP OFF注入方式.因为正电子流强与打靶电子束流功率成正比,采用一把新的10A电子枪来提高打靶电流,采用新加速结构和65MW速调管SLAC5045把目前140MeV的打靶能量提高到240MeV.正电子源本身也是一非常关键、极其复杂的系统,它包括正电子转换靶室、12kA"磁号"脉冲电源、7m长聚焦节、大功率直流电源和支架等.目前,正电子产生加速器,从电子枪直到正电子源,已经安装到了BEPC直线加速器隧道.本文将着重介绍正电子源系统的设计、加工和测试.
正电子源 磁通压缩器 转换靶 脉冲电源