采用闭合场非平衡磁控溅射离子镀技术于不同本底真空度下制备了Cr/C镀层.利用TEM、划痕仪分析了不同真空度下镀层微观截面形貌与结合强度的变化.结果表明,随本底真空度的降低,Cr/C镀层中物理混合界面层和Cr金属打底层的厚度显著减小;镀层结合强度随本底真空度的降低显著下降,物理混合界面层、Cr金属打底层厚度的减小以及镀层表面孔洞等缺陷增多、致密度变差等共同导致了其结合强度的下降.
本底真空度 物理混合界面层 Cr金属打底层 结合强度