利用磁控溅射方法在Gd3Fe5O12衬底上制备外延Y3Fe5O12薄膜.在室温300 K时,改变腔内氩气压得到不同气压下制备的Y3 Fe5O12薄膜.样品都在空气中进行后退火处理,退火温度800℃/2 h,退火升温速率是180℃/h,降温速率是120℃/h.通过测试发现薄膜的特性及膜厚等都依赖沉积氩气压PAr,沉积气压为2.394 Pa时,样品的磁特性较好.为了能充分利用Y3Fe5O12纳米结构特性,利用电子束光刻蚀方法成功制备Y3Fe5O12纳米量级结构阵列,分析磁阻尼因子变化.
铁磁 外延薄膜 磁阻尼因子