在半导体制造领域中,IC装备工艺腔室流场的均匀性决定镀膜的质量.本文运用二维激光多普勒测速仪(LDV)对真空腔室进行内流场测量,研究了在不同进气量、不同腔室压强下,腔室各平面流速的分布规律.研究表明,粒子浓度和背景噪声是影响腔室流速测量的两大关键因素,采用四种方法有效地降低了背景噪声对信号的干扰;通过大量实验得出了LDV有效测量腔室流速的压力范围,以及腔室压强、进气量与流速之间的关系;验证了腔室内二级匀气装置具有均匀布气的功能.研究结果能为IC装备的设计提供数据支持.
二维激光多普勒测速仪 真空腔室 粒子浓度 背景噪声 流速测量