首先采用低温水相合成法制备了正六棱型MoO3微米柱,然后以抗坏血酸为还原剂一步还原法制备了一种表面氧空位可控的MoO3-x光催化材料.MoO3-x具有较窄的禁带宽度和较大的光吸收范围.以罗丹明B为模拟污染物的光催化降解实验表明,随着氧空位的增加,MoO3-x的催化活性明显增加.对于Mo5+摩尔分数为20.1％的MoO2.799样品,降解90％的初始质量浓度为10 mg/L的罗丹明溶液只需要60 min.本研究为高性能半导体光催化材料的制备提供了一种新思路.
MoO3-x 正六棱型MoO3微米柱 氧空位 光催化