用HC1蒸气对真空蒸发沉积的酞菁氧钛薄膜进行了处理,并用UV-Vis吸收谱、X射线光电子能谱(XPS)和X射线衍射(XRD)进行了分析.吸收谱结果表明HC1与酞菁氧钛蒸气作用后产生一个新的吸收峰,峰值位于820 nm附近.此峰的出现使得酞菁氧钛光吸收带(Q带)加宽进入红外波段.光电子谱分析表明酞菁氧钛薄膜的成分发生了变化,其中Cl和O的含量随HC1蒸气处理时间的增加而增加,而N和Ti的含量随HC1蒸气处理时间的增加而减小,说明HC1蒸气可与真空蒸发沉积的酞菁氧钛薄膜发生作用.XRD测试结果表明,经HC1蒸气处理后的酞菁氧钛薄膜的衍射谱中出现了若干新的衍射峰,表明酞菁氧钛分子的排列结构也发生了变化.
酞菁氧钛 HC1蒸气 吸收带增宽