研制了一台以NiosⅡ嵌入式处理器为核心的非平衡磁控溅射(Unbalanced Magnetron Sputtering,简称UMS)高性能电源.采用片上可编程系统(System on a Programmable Chip,简称SOPC)的解决方案,结合嵌入式系统的优势,加入智能化复合控制策略和高频DPWM多自由度调制方法,以满足等离子体负载特性及工艺需求.测试结果表明,该电源具备高稳流、高离子束电流多自由度输出特性以及优异的电弧管理能力,为UMS先进工艺的探索提供了良好的技术平台.
电源 处理器 电弧管理 非平衡磁控溅射