为了减小纳米压印光刻胶与模板间的接触黏附力,合成了一种无氟抗粘巯基-烯纳米压印光刻胶.以Α,Α,Α′-三(4-羟苯基)-1-乙基-4-异丙苯(TPA)和溴丙烯为原料,采用相转移催化法制备了一种功能性单体Α,Α,Α′-三(4-丙烯基苯基醚)-1-乙基-4-异丙苯(TPAE),并将其按特定配比与三羟甲基丙烷三(3-巯基丙酸酯)和光引发剂配制成纳米压印光刻胶.实时傅里叶红外光谱(FT-IR)分析表明,当辐射剂量为200 mJ/cm2时,双键的转化率为78.0％,巯基的转化率为78.1％.胶膜的去离子水接触角为90°.纳米压印光刻胶脱模后的图形结构规整,保真度高,具有良好的脱模性能.
紫外纳米压印 光刻胶 巯基-烯反应 无氟抗粘 脱模