采用电化学沉积法在FTO玻璃上制备了具有纳米多孔网状结构的氧化铜/钒酸铋薄膜.利用X射线衍射(XRD)、拉曼光谱(Raman)、扫描电子显微镜(SEM)、能谱分析(EDS)对薄膜做成分及结构分析,采用线性伏安扫描(LSV)、频率阻抗测试(EIS)对薄膜做光电性能测试.氧化铜的掺入能够提高钒酸铋薄膜的光电性能,在1.23 Vvs.RHE时,40 mmol/L氧化铜/钒酸铋薄膜的光电流密度为1.39 mA/cm2,比纯钒酸铋薄膜的光电流密度(0.7 mA/cm2)增大了1倍左右.结果表明,纳米多孔的网状结构,提高了薄膜对光的利用效率,同时也增加了薄膜和电解液的接触面积.氧化铜和钒酸铋复合形成异质结后,抑制了光生电子-空穴对的复合,从而提高了氧化铜/钒酸铋薄膜的光电流密度.
BiVO4 CuO 电沉积 光电流