显微干涉测量方法是一种被广泛使用的高精度表面测量方法,其中相移器的性能直接影响到系统测量的精度.对MEMS测量系统中使用的压电陶瓷相移器的主要误差源,包括迟滞、非线性和蠕变等进行了分析,并对开环条件下的相移器运动进行了标定.实验分别在开环和闭环条件下测量了经过NIST认证的标准44 nm台阶,说明了两种条件下的测量精度,10次测量的平均值分别为41.34 m和43.24 nm,标准偏差分别为2.08 nm和0.41 nm.
微机电系统 显微干涉术 相移器 误差分析