为了满足市场对显示产品高分辨率的要求，需要从产品的设计和工艺各个方面进行优化，其中过孔尺寸和线宽两个因素对阵列基板分辨率影响最大，本文通过相移掩模技术可以实现对过孔尺寸的精确控制，通过在普通过孔上增加一定厚度和透过率的相移层，并对各种参数下过孔的光透过率进行模拟分析，可以获得不同相移层参数对过孔特性的影响，最后提出一种可以获得稳定微小过孔的方法。结果表明，通过对相移层透过率和宽度的控制，可以获得对曝光光强不敏感的稳定微小过孔，曝光量增大一倍乃至数倍的过程中，过孔尺寸始终保持稳定，提高了工艺容忍度。对于模拟中过孔尺寸可以小于设备的4μm 分辨极限。通过减小过孔尺寸，可以有效提升 TFT 显示产品的开口率，实现产品对高分辨率的要求。
薄膜晶体管液晶显示器 过孔 高分辨率