基于X-pinch软X射线辐射点源对直径10 μm钨丝单丝以及8 fm钨丝双丝电爆发展过程进行了背光成像研究,实验平台为清华大学电机系研制的脉冲功率装置PPG-1(500 kV/400 kA/100 ns).成像光路安排为:作为X射线源的X-pinch和作为目标物的钨丝分别安装在装置的输出主电极阴阳极之间和回流导电杆处,成像胶片采用高分辨率、高灵敏度的X光胶片.利用自行设计的电流传感器和罗氏线圈对目标物实际流过的电流进行监测,从而计算得8 μm钨丝丝爆过程中电导随时间变化的曲线.为了观测电爆金属丝质量密度分布的演变过程,设计了μm级厚度的阶梯光楔.通过大量成像实验,获取了丝芯膨胀、晕层等离子体形成及其向外扩张等过程的相关物理图像以及基于原始胶片绘制的质量密度分布图.
钨丝 电爆炸 X射线背光照相 X箍缩 质量密度分布