研究激光烧蚀水面下的块体锗靶.研究结果表明,激光烧蚀锗的产量（烧蚀率）随锗基板表面水层厚度变化而变化.对单个激光脉冲为60 mJ能量时,烧蚀出的锗溶液浓度在水层为1.2 mm时最高.它揭示在水约束条件下存在一个最优水层厚度,诱导出的等离子体具有最强的冲击力,这种高压、高温等离子体导致最高的烧蚀率.对各水层厚度下烧蚀的锗颗粒粒径做了分析,得到锗纳米粒径随水层厚度增加而单调减少.XRD表明立方单晶锗经激光烧蚀后成为面心立方多晶锗,且含有亚稳相GeO.
激光 烧蚀 锗纳米 最优水层