采用单电流阶跃电化学沉积技术,在商业纯钛(CP-Ti)表面构建硅、银、氟离子共修饰羟基磷灰石(Si-Ag-F-HA)纳米复合薄膜.Ag+的持续释放可以提供有效的抗菌性,Si4+作为生物活性元素可以有效地抵消Ag+的潜在细胞毒性.采用电感耦合等离子体质谱法(ICP-MS)测定涂层中硅和银元素的释放规律.采用傅里叶变换红外光谱(FTIR)、扫描电子显微镜(SEM)、能量弥散X射线谱(EDS)、X-射线衍射(XRD)等技术对得到的材料进行了表征.结果表明:Si,Ag和F三种元素均匀地掺杂到了HA的晶体结构中.Si-Ag-F-HA为纳米级的针状晶体结构,薄膜整体致密且均匀.Si-Ag-F-HA纳米生物薄膜可以在一周内很好地诱导类骨磷灰石的形成,具有优异的生物活性.塔菲尔曲线测试结果证实涂层的耐SBF腐蚀性较好.ICP-MS测试结果表明Si-Ag-F-HA纳米生物薄膜可以提供持续的Si和Ag离子释放.FTIR和ICP-MS等光谱技术为开发新型抗菌硬组织修复材料提供了高效快速的检测手段.
FTIR ICP-MS 电化学沉积 生物涂层