20011205 用物理方法使热塑性塑料表面金属化--BeitingerG.Metalloberflache,2001,55(3):40(德文) 提出用PVD替代化学表面金属化的方法,介绍了阴极溅射室的示意图及相应说明,列表说明了所使用的气体类别及在等离子处理的塑料表面上所形成官能团,得出了有关透明晶体聚合物和尼龙66两种塑料的试验结果.结果表明,金属与塑料结合是与刻蚀的气体和刻蚀的时间有关.未金属化的塑料基体的表面能与表面张力是气体刻蚀作用的函数,用铝、铬、钛、钯对塑料表面进行金属化处理,其基本方法也适用于其他金属化处理,并附有5篇参考资料. 20011206 化学气相沉积金刚石膜的质量和可靠性--Ali N.Surface Engineering,2000,16(5):421(英文) 探讨了化学气相沉积金刚石膜的工艺参数,如温度、基体性能、清洁度、甲烷浓度和与基体的结合对其质量和可靠性的影响.以膜层质量和可靠性最大效益为目标,介绍了基体的预处理,不同沉积阶段和后处理系统模拟的工艺处理方法. 20011207 化学气相沉积预置物料的激光脱附--Boise I D.美国专利,6051287.(1997.6.20) 化学气相沉积包括:在气相沉积室设置由预置物料颗粒所组成的工作靶;将热能传递到被选定的靶区以增加其温度,按预定的加热速率引发化学气相沉积预置物料的脱附和避免热能的主要部分被转变为与基体和脱附部位相连接的预置物料颗粒的内能.控制预置物料颗粒定向移动至基体的表面,同时引发被脱附的预置物料颗粒的分解. 20011208 金刚石薄膜--Rakhimov A.美国专利,6042900.(1996.3.12) 用于沉积金刚石薄膜的化学气相沉积方法包括:在丝栅阴极上按选定的距离在基体和阴极之间设置阳极;加热基体;通入H2和H2与含碳气体的混合气;选择气压和以等离子体形态给电;加热格栅阳极至1 100℃以上,使金刚石薄膜达到选定的厚度. 20011209 密闭循环-氧化碳自含镍源羰基化物的沉积处理--Chemical Vapor Deposition Systems Inc.美国专利,6048578.(1998.11.14) 镍气相沉积处理包括:装入工件并向气相沉积室通入镍羰基化物(NC)以沉积镍层,其次从沉积室移出已用过的贫镍混合气体至NC冷凝装置以还原其NC的浓度,冷凝分一,二两个装置,采用冷冻、融化的方式交替进行;经第二个冷凝装置的还原浓度气体再送入内装镍粉的NC反应器,以产生新鲜的含NC和CO的混合气体. 20011210 化学气相沉积多层涂层--Commissariat a L′ EnergieAtomiqaeParis France.美国专利,6040012.(1998.8.12) 在工作介质为氰、钛铝氯化物和还原气体(氮、氨)的条件下,用化学气相沉积方法沉积出有两层或两层以上的氮化钛(或钛铝氮化物)和多层涂层. 20011211 化学气相沉积铜基薄膜--Albany N Y.美国专利,6037001.(1998,9,18) 用下列有机化合物的混合物作铜源,化学气相沉积铜基薄膜.这些化合物为:≥1份配合基稳定化的β双酮基铜(I);≥1份β双酮基铜(Ⅱ),其反应物以气态形式传输,加热被涂覆的基体温度为50～500℃. 20011212 用射频等离子体轰击法向无定形类金刚石碳膜掺氨--Ogun A A.Surface Engineering,2000,16(5):427(英文) 在真空条件下,将氮等离子源形成的低能氮通量用于等离子强化的化学气相沉积的无定形类金刚石碳膜.与其他方法所制备的无定形类金刚石碳膜比较,本法所制得的膜为非键合氮,但具有较高的能级.对制备的无定形类金刚石碳膜进行了X光电子谱和罗曼谱的检测. 20011213 用硬化蒸涂层提高铝铸造模的使用寿命--MittererC.Casting Plant and Technology International,2000,16(2):48(英文) 铝合金模铸时,铸模承受磨蚀、腐蚀、焊合和热疲劳破坏,其结果是在低性能模具表面形成逐层破裂,降低了模具的使用寿命.利用等离子体加速的化学气相蒸镀技术,使形成的过渡金属氮化物薄的硬化层可显著地提高铸模和模芯的工作寿命 (以上彭补之译)