利用等离子体发射光谱监测系统(PEM)控制钒的等离子强度,在石英基底上磁控溅射制备了VO2薄膜。采用 XRD、XPS、SEM、紫外-可见-近红外分光光度计及傅立叶红外分光光度计研究薄膜的结构、光学及相变特性。结果表明,所制备的 VO2薄膜具有(011)取向,VO2薄膜的热滞回线宽度为25℃,可见光透过率和太阳光调节率分别可达T lum,l=34.1%、T lum,h=35.3%和ΔT sol=6.8%,相变前后,红外光区的反射率变化最大值可达44.4%。
VO2薄膜 PEM 光学性能