应用中国原子能科学研究院HI-13串列加速器产生的重离子32S和79Br轰击聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)薄膜,再对薄膜进行化学蚀刻处理使由重离子辐照损伤产生的潜径迹形成微孔,制备出孔径为100～900 nm的重离子微孔膜.为增加径迹蚀刻速率与体蚀刻速率之比,化学蚀刻前采用紫外光辐照薄膜.蚀刻过程中采用电导蚀刻法监测膜孔径生长过程.对32S和79Br辐照制备的重离子微孔膜进行了比较,79Br离子辐照制备的微孔膜与32S离子辐照制备的微孔膜相比,孔型圆整,锥角更小；在制备纳米微孔膜方面79Br离子优于32S离子.
重离子 纳米微孔膜 聚对苯二甲酸乙二醇酯 电导蚀刻法