用游离磨料对圆光栅玻璃表面进行了研磨抛光实验,讨论了磨粒尺寸、磨料质量分数、加工时间、研磨盘转速、加载压力、抛光垫材料对试件表面粗糙度和材料去除率的影响。研究表明,硬质抛光垫能更好地保持试件的平面度。获得的优化工艺参数组合为：研磨盘转速75 r/min；磨料质量分数10%；研磨液流量10 mL/min；5μm 的 Al2 O 3加载压力0.019 MPa,粗研20 min；1μm 的 Al2 O 3加载压力0.015 MPa,精研20 min；30 nm 的 CeO 2加载压力0.012 MPa,精抛10 min。在该工艺组合下,获得了表面粗糙度值Ra 为3.3 nm、平面度为5μm 的圆光栅玻璃。
圆光栅玻璃 研磨 抛光 表面粗糙度 平面度