对HClO4/H3PO4/KMnO4氧化插层体系制备的低温可膨胀石墨的膨胀性能进行了研究,采用红外光谱、热失重和X射线衍射对其结构进行了分析,提出了氧化插层过程和机理.研究表明:制备的低温可膨胀石墨在300℃和400℃的膨胀容积分别达240mL/g和350mL/g,其石墨片层间存在H2PO4-、HPO42-、PO43-、ClO4-阴离子插层物和H3PO4、HClO4中性分子插层物,其TGA图谱的60～250℃之间发生约27%的热失重,X射线衍射图谱在2θ=29.5°处出现一个不太强的衍射特征峰.
低温可膨胀石墨 结构 红外光谱 热失重 X射线衍射