Die neuen Lithografie-Verfahren werden für die Produktion höher integrierter Mikrochips benötigt , deren Strukturdichte inzwischen an die Grenzen des mit fotolithografischen Verfahren Machbaren stößt .
1	Die	Die	DET	ART	Case=Nom|Number=Plur|PronType=Art	3	det	_	_
2	neuen	neu	ADJ	ADJA	Degree=Pos|Number=Plur	3	amod	_	_
3	Lithografie-Verfahren	Verfahren	NOUN	NN	Gender=Neut|Number=Plur|Person=3	11	nsubj:pass	_	_
4	werden	werden	AUX	VAFIN	Mood=Ind|Number=Plur|Person=3|Tense=Pres|VerbForm=Fin	11	aux:pass	_	_
5	für	für	ADP	APPR	AdpType=Prep|Case=Acc	7	case	_	_
6	die	die	DET	ART	Case=Acc|Gender=Fem|Number=Sing|PronType=Art	7	det	_	_
7	Produktion	Produktion	NOUN	NN	Gender=Fem|Number=Sing|Person=3	11	obl	_	_
8	höher	hoch	ADJ	ADJD	Degree=Cmp|Variant=Short	9	advmod	_	_
9	integrierter	integrieren	ADJ	ADJA	Case=Gen|Degree=Pos|Number=Plur	10	amod	_	_
10	Mikrochips	Chip	NOUN	NN	Gender=Masc|Number=Plur|Person=3	7	nmod	_	_
11	benötigt	benötigen	VERB	VVPP	Aspect=Perf|VerbForm=Part	0	root	_	_
12	,	,	PUNCT	$,	PunctType=Comm	24	punct	_	_
13	deren	deren	DET	PRELAT	PronType=Rel	14	det	_	_
14	Strukturdichte	Dichte	NOUN	NN	Gender=Fem|Number=Sing|Person=3	24	nsubj	_	_
15	inzwischen	inzwischen	ADV	ADV	_	24	advmod	_	_
16	an	an	ADP	APPR	AdpType=Prep|Case=Acc	18	case	_	_
17	die	die	DET	ART	Case=Acc|Number=Plur|PronType=Art	18	det	_	_
18	Grenzen	Grenze	NOUN	NN	Gender=Fem|Number=Plur|Person=3	24	obl	_	_
19	des	des	DET	ART	Case=Gen|Gender=Masc|Number=Sing|PronType=Art	23	det	_	_
20	mit	mit	ADP	APPR	AdpType=Prep|Case=Dat	22	case	_	_
21	fotolithografischen	fotolithografischen	ADJ	ADJA	_	22	amod	_	_
22	Verfahren	Verfahren	NOUN	NN	Gender=Neut|Number=Sing|Person=3	23	obl	_	_
23	Machbaren	machbar	ADJ	ADJA	Degree=Pos|Number=Sing	18	nmod	_	_
24	stößt	stoßen	VERB	VVFIN	Mood=Ind|Number=Sing|Person=3|Tense=Pres|VerbForm=Fin	10	acl	_	_
25	.	.	PUNCT	$.	PunctType=Peri	11	punct	_	_
