Intel hat gestern erste standardformatige Masken für die EUV-Lithografie angekündigt und sieht darin einen wichtigen Schritt auf dem Weg zur Marktreife des Verfahrens .
1	Intel	Intel	PROPN	NE	Case=Nom|Number=Sing|Person=3	10	nsubj	_	_
2	hat	haben	AUX	VAFIN	Mood=Ind|Number=Sing|Person=3|Tense=Pres|VerbForm=Fin	10	aux	_	_
3	gestern	gestern	ADV	ADV	_	10	advmod	_	_
4	erste	NULL	ADJ	ADJA	Degree=Sup|Number=Plur	6	amod	_	_
5	standardformatige	standardformatige	ADJ	ADJA	_	6	amod	_	_
6	Masken	Maske	NOUN	NN	Gender=Fem|Number=Plur|Person=3	10	obj	_	_
7	für	für	ADP	APPR	AdpType=Prep|Case=Acc	9	case	_	_
8	die	die	DET	ART	Case=Acc|Number=Plur|PronType=Art	9	det	_	_
9	EUV-Lithografie	unknown	NOUN	NN	Person=3	6	nmod	_	_
10	angekündigt	ankündigen	VERB	VVPP	Aspect=Perf|VerbForm=Part	0	root	_	_
11	und	und	CCONJ	KON	_	12	cc	_	_
12	sieht	sehen	VERB	VVFIN	Mood=Ind|Number=Sing|Person=3|Tense=Pres|VerbForm=Fin	10	conj	_	_
13	darin	darin	ADV	PROAV	_	12	advmod	_	_
14	einen	einen	DET	ART	Case=Acc|Gender=Masc|Number=Sing|PronType=Art	16	det	_	_
15	wichtigen	wichtig	ADJ	ADJA	Case=Acc|Degree=Pos|Gender=Masc|Number=Sing	16	amod	_	_
16	Schritt	Schritt	NOUN	NN	Gender=Masc|Number=Sing|Person=3	12	obj	_	_
17	auf	auf	ADP	APPR	AdpType=Prep|Case=Dat	19	case	_	_
18	dem	dem	DET	ART	Case=Dat|Gender=Masc|Number=Sing|PronType=Art	19	det	_	_
19	Weg	Weg	NOUN	NN	Gender=Masc|Number=Sing|Person=3	16	nmod	_	_
20-21	zur	_	_	_	_	_	_	_	_
20	zu	zu	ADP	APPR	AdpType=Prep|Case=Dat	22	case	_	_
21	der	der	DET	ART	Case=Dat|Definite=Def|Gender=Fem|Number=Sing|PronType=Art	22	det	_	_
22	Marktreife	unknown	NOUN	NN	Person=3	19	nmod	_	_
23	des	des	DET	ART	Case=Gen|Gender=Neut|Number=Sing|PronType=Art	24	det	_	_
24	Verfahrens	Verfahren	NOUN	NN	Case=Gen|Gender=Neut|Number=Sing|Person=3	22	nmod	_	_
25	.	.	PUNCT	$.	PunctType=Peri	10	punct	_	_
