Auf einem Workshop von International Sematech zeigte Motorola bereits den Prototypen einer 100-Nanometer-Maske für EUV-Lithografie .
1	Auf	Auf	ADP	APPR	AdpType=Prep|Case=Dat	3	case	_	_
2	einem	einem	DET	ART	Case=Dat|Gender=Masc|Number=Sing|PronType=Art	3	det	_	_
3	Workshop	Shop	NOUN	NN	Gender=Masc|Number=Sing|Person=3	7	obl	_	_
4	von	von	ADP	APPR	AdpType=Prep|Case=Dat	5	case	_	_
5	International	International	PROPN	NE	Person=3	3	nmod	_	_
6	Sematech	Sematech	PROPN	NE	Person=3	5	flat:name	_	_
7	zeigte	zeigen	VERB	VVFIN	Mood=Ind|Number=Sing|Person=3|Tense=Past|VerbForm=Fin	0	root	_	_
8	Motorola	Motorola	PROPN	NE	Case=Nom|Number=Sing|Person=3	7	nsubj	_	_
9	bereits	bereits	ADV	ADV	_	7	advmod	_	_
10	den	den	DET	ART	Case=Dat|Number=Plur|PronType=Art	11	det	_	_
11	Prototypen	Prototyp	NOUN	NN	Gender=Masc|Number=Plur|Person=3	7	obj	_	_
12	einer	einer	DET	ART	Case=Gen|Gender=Fem|Number=Sing|PronType=Art	13	det	_	_
13	100-Nanometer-Maske	Maske	NOUN	NN	Gender=Fem|Number=Sing|Person=3	11	nmod	_	_
14	für	für	ADP	APPR	AdpType=Prep|Case=Acc	15	case	_	_
15	EUV-Lithografie	unknown	NOUN	NN	Person=3	13	nmod	_	_
16	.	.	PUNCT	$.	PunctType=Peri	7	punct	_	_
