Inverse lithography
سیمی کنڈکٹر ڈیوائس فیبریکیشن میں، انورس لیتھوگرافی ٹیکنالوجی (آئی ایل ٹی) فوٹو ماسک ڈیزائن کے لیے ایک نقطہ نظر ہے۔ یہ بنیادی طور پر الٹا امیجنگ کے مسئلے کو حل کرنے کا ایک طریقہ ہے: فوٹو ماسک ("ماخذ") میں کھلنے کی شکلوں کا حساب لگانا تاکہ گزرنے والی روشنی روشن مواد پر مطلوبہ نمونے ("ہدف") کا ایک اچھا تخمینہ پیدا کرے، عام طور پر ایک فوٹووریسسٹ۔ اس طرح، اسے ایک خاص قسم کے ریاضیاتی اصلاح کے مسئلے کے طور پر سمجھا جاتا ہے، کیونکہ عام طور پر کوئی تجزیاتی حل موجود نہیں ہوتا ہے۔ روایتی طریقوں میں جسے آپٹیکل پراکسیمیٹی کریکشن (او پی سی) کے نام سے جانا جاتا ہے، ایک "ہدف" کی شکل کو "ماخذ" کے لیے "مین ہیٹن شکل" تیار کرنے کے لیے احتیاط سے ٹیون کیے گئے مستطیلوں کے ساتھ بڑھایا جاتا ہے، جیسا کہ مثال میں دکھایا گیا ہے۔ آئی ایل ٹی نقطہ نظر "ماخذ" کے لیے منحنی شکلیں پیدا کرتا ہے، جو "ہدف" کے لیے بہتر تخمینہ فراہم کرتا ہے۔ آئی ایل ٹی کی تجویز 1980 کی دہائی میں پیش کی گئی تھی، تاہم اس وقت یہ بہت زیادہ مطلوبہ کمپیوٹیشنل طاقت اور پیچیدہ "ماخذ" شکلوں کی وجہ سے ناقابل عمل تھا، جس نے تصدیق (ڈیزائن رول چیکنگ) اور مینوفیکچرنگ کے لیے مشکلات پیش کیں۔ تاہم 2000 کی دہائی کے آخر میں ڈویلپرز نے کمپیوٹیشنل طاقت میں نمایاں اضافے کی وجہ سے آئی ایل ٹی پر دوبارہ غور کرنا شروع کر دیا۔ حوالہ جات لیتھوگرافی (مائیکرو فیبریکیشن) الٹا مسائل