Thermochemical nanolithography
تھرمو کیمیکل نینولیتھگرافی (ٹی سی این ایل) یا تھرمو کیمیکل اسکیننگ پروب لیتھوگرافی (ٹی سی-ایس پی ایل) ایک اسکیننگ پروب مائکروسکوپی پر مبنی نینولیتھگرافی تکنیک ہے جو کیمیائی فعالیت یا سطحوں کے مرحلے کو تبدیل کرنے کے لیے تھرمل طور پر فعال کیمیائی رد عمل کو متحرک کرتی ہے۔ کیمیائی تبدیلیاں ریپڈ پروب اسکیننگ کے ذریعے بہت تیزی سے لکھی جا سکتی ہیں، کیونکہ کوئی کمیت نوک سے سطح پر منتقل نہیں ہوتی، اور لکھنے کی رفتار صرف حرارت کی منتقلی کی شرح سے محدود ہوتی ہے۔ ٹی سی این ایل کو 2007 میں جارجیا انسٹی ٹیوٹ آف ٹیکنالوجی کے ایک گروپ نے ایجاد کیا تھا۔ ریڈو اور تعاون کاروں نے مظاہرہ کیا کہ ٹی سی این ایل 1 ملی میٹر/سیکنڈ تک اسکین کی رفتار پر 12 این ایم تک فیچر سائز کے ساتھ مقامی کیمیائی تبدیلیاں پیدا کر سکتا ہے۔ ٹی سی این ایل کو 2013 میں مونا لیزا کی "پینٹ شدہ" نینو پیمانے کی نقل بنانے کے لیے استعمال کیا گیا تھا جس میں مختلف پروب ٹپ درجہ حرارت تھے۔ اسے منی لیزا کہا جاتا ہے، تصویر کی پیمائش اصل کے سائز کے تقریبا 1/25,000 ویں نمبر پر کی گئی۔ تکنیک اے ایف ایم تھرمل کینٹیلیور عام طور پر روایتی بلک اور سرفیس مائیکرو مشینی عمل کا استعمال کرتے ہوئے سلکان ویفر سے بنائے جاتے ہیں۔ اس کے انتہائی ڈوپڈ سلکان پروں کے ذریعے برقی کرنٹ کے اطلاق کے ذریعے، پروب ٹپ کے ارد گرد لائٹ ڈوپنگ زون میں مزاحم حرارتی عمل ہوتا ہے، جہاں گرمی کا سب سے بڑا حصہ ختم ہو جاتا ہے۔ ٹپ اپنے چھوٹے حجم کی وجہ سے اپنے درجہ حرارت کو بہت تیزی سے تبدیل کرنے کے قابل ہے۔ پولی کاربونیٹ کے ساتھ رابطے میں ایک اوسط ٹپ کا وقت مستقل 0.35 ایم ایس ہوتا ہے۔ ٹپس کو ماحول کے درجہ حرارت اور 1100 ڈگری سیلسیس کے درمیان 10 میگاہرٹز تک سائیکل کیا جا سکتا ہے جبکہ سطح اور ٹپ کے درجہ حرارت سے ٹپ کے فاصلے کو آزادانہ طور پر کنٹرول کیا جا سکتا ہے۔ ایپلی کیشنز پروٹینز، نامیاتی سیمی کنڈکٹرز، الیکٹرو لومینسینٹ کنجوگیٹڈ پولیمرز، اور نینوریبن مزاحموں میں تھرمل طور پر فعال رد عمل کو متحرک کیا گیا ہے۔ فنکشنل گروپوں کی تخفیف (بعض اوقات درجہ حرارت کے میلان پر مشتمل)، اور گرافین آکسائڈ کی کمی کا مظاہرہ کیا گیا ہے۔ نینو اسکیل پر پولیمر کی سطح کی نمی میں ترمیم کی گئی ہے، اور پولی (پی-فینیلین ونائلین) (ایک الیکٹرو لومینسینس کنجوگیٹڈ پولیمر) کے نینو اسٹرکچر بنائے گئے ہیں۔ پروٹین اور ڈی این اے جیسے نینو اشیاء کی اسمبلی کے لیے پولیمر فلموں پر نینو اسکیل ٹیمپلیٹس بھی بنائے گئے ہیں اور 213 جی بی/ان 2 تک اسٹوریج ڈینسٹی کے ساتھ فیرو الیکٹرک سیرامکس کی کرسٹلائزیشن تیار کی گئی ہے۔ ایسے مواد کا استعمال جو نمایاں طور پر مختلف درجہ حرارت پر متعدد کیمیائی تعاملات سے گزر سکتا ہے، ایک کثیر ریاستی نظام کا باعث بن سکتا ہے، جس میں مختلف فعالیتوں کو مختلف درجہ حرارت پر حل کیا جا سکتا ہے۔ دیگر لیتھوگرافک تکنیکوں کے ساتھ موازنہ تھرمو مکینیکل اسکیننگ پروب لیتھوگرافی پیٹرننگ کے مقاصد کے لیے انڈینٹیشن بنانے کے لیے حرارت اور قوت کے آرڈر کے اطلاق پر منحصر ہے (یہ بھی دیکھیں: ملیپیڈ میموری)۔ تھرمل اسکیننگ پروب لیتھوگرافی (ٹی-ایس پی ایل) تخلیق شدہ ٹپوگرافی کو کیمیائی طور پر تبدیل کرنے کے ارادے کے بغیر سبسٹریٹ سے مواد کو ہٹانے میں مہارت رکھتی ہے۔ مقامی آکسیڈیشن نینولیتھگرافی پروب ٹپ کے ارد گرد پانی کے مینسکس میں آکسیڈیشن رد عمل پر انحصار کرتی ہے۔ نینولیتھگرافی نینو ٹیکنالوجی اسکیننگ پروب لیتھوگرافی مقامی آکسیڈیشن نینولیتھگرافی ڈپ-پین نینولیتھگرافی اٹامک فورس مائکروسکوپی اسکیننگ پروب مائکروسکوپی حوالہ جات جارجیا انسٹی ٹیوٹ آف ٹیکنالوجی میں بیرونی لنکس پیکو فورس لیبارٹری http://www.picoforcelab.org/thermochemical-nanolithography-tcnl نینو ٹیکنالوجی