45 nm process
سیمی کنڈکٹرز کے لیے بین الاقوامی ٹیکنالوجی روڈ میپ کے مطابق، 45 این ایم عمل ایک ایم او ایس ایف ای ٹی ٹیکنالوجی نوڈ ہے جو تقریبا 2007-2008 ٹائم فریم پر تیار کردہ میموری سیل کے اوسط نصف پچ کا حوالہ دیتا ہے۔ متسوشیتا اور انٹیل نے 2007 کے آخر میں 45 این ایم چپس کی بڑے پیمانے پر تیاری شروع کی، اور اے ایم ڈی نے 2008 کے آخر میں 45 این ایم چپس کی تیاری شروع کی، جبکہ آئی بی ایم، انفینون، سیمسنگ، اور چارٹرڈ سیمی کنڈکٹر نے پہلے ہی ایک مشترکہ 45 این ایم پروسیس پلیٹ فارم مکمل کر لیا ہے۔ 2008 کے آخر میں، ایس ایم آئی سی چین میں قائم پہلی سیمی کنڈکٹر کمپنی تھی جو 45 این ایم پر منتقل ہوئی، جس نے آئی بی ایم سے بلک 45 این ایم عمل کا لائسنس حاصل کیا تھا۔ 2008 میں، ٹی ایس ایم سی 40 این ایم کے عمل کی طرف بڑھا۔ بہت سے اہم خصوصیت کے سائز لیتھوگرافی کے لیے استعمال ہونے والی روشنی کی طول موج سے چھوٹے ہوتے ہیں (یعنی 193 این ایم اور 248 این ایم)۔ ذیلی طول موج کی خصوصیات بنانے کے لیے مختلف قسم کی تکنیکیں، جیسے بڑے لینس استعمال کیے جاتے ہیں۔ خصوصیات کے درمیان فاصلے کو کم کرنے میں مدد کے لیے ڈبل پیٹرننگ بھی متعارف کرائی گئی ہے، خاص طور پر اگر خشک لیتھوگرافی کا استعمال کیا جاتا ہے۔ یہ توقع کی جاتی ہے کہ 45 این ایم نوڈ پر 193 این ایم طول موج کے ساتھ مزید تہوں کو نمونہ بنایا جائے گا۔ پہلے کی ڈھیلی تہوں (جیسے میٹل 4 اور میٹل 5) کو 248 این ایم سے 193 این ایم طول موج تک منتقل کرنا جاری رہنے کی توقع ہے، جو ممکنہ طور پر 193 این ایم فوٹوریسسٹس کے ساتھ مشکلات کی وجہ سے لاگت کو مزید بڑھائے گا۔ ہائی-κ ڈائی الیکٹرک چپ میکرز نے ابتدائی طور پر رساو موجودہ کثافت کو کم کرنے کے مقصد سے گیٹ اسٹیک میں نئے ہائی-κ مواد کو متعارف کرانے کے بارے میں خدشات کا اظہار کیا ہے۔ تاہم، 2007 تک، آئی بی ایم اور انٹیل دونوں نے اعلان کیا ہے کہ ان کے پاس ہائی-κ ڈائی الیکٹرک اور میٹل گیٹ حل ہیں، جسے انٹیل ٹرانجسٹر ڈیزائن میں ایک بنیادی تبدیلی سمجھتا ہے۔ این ای سی نے پیداوار میں اعلی κ مواد بھی ڈالا ہے۔ ٹیکنالوجی ڈیمو 2004 میں، ٹی ایس ایم سی نے ایک 0.296-square-micrometre 45 این ایم ایس آر اے ایم سیل کا مظاہرہ کیا۔ 2008 میں، ٹی ایس ایم سی 40 این ایم کے عمل کی طرف بڑھا۔ جنوری 2006 میں، انٹیل نے ایک 0.346-square-micrometre 45 nm نوڈ SRAM سیل کا مظاہرہ کیا۔ اپریل 2006 میں، اے ایم ڈی نے ایک 0.370-square-micrometre 45 این ایم ایس آر اے ایم سیل کا مظاہرہ کیا۔ جون 2006 میں، ٹیکساس انسٹرومینٹس نے وسرجن لیتھوگرافی کی مدد سے ایک 0.24-square-micrometre 45 این ایم ایس آر اے ایم سیل کا آغاز کیا۔ نومبر 2006 میں، یو ایم سی نے اعلان کیا کہ اس نے وسرجن لیتھوگرافی اور لو-κ ڈائی الیکٹرکس کا استعمال کرتے ہوئے 0.25-square-micrometre سے کم سیل سائز کے ساتھ 45 این ایم ایس آر اے ایم چپ تیار کی ہے۔ 2006 میں سام سنگ نے ایک 40 این ایم عمل تیار کیا۔ 45 این ایم ٹیکنالوجی کے جانشین 32 این ایم، 22 این ایم، اور پھر 14 این ایم ٹیکنالوجیز ہیں۔ تجارتی تعارف متسوشیتا الیکٹرک انڈسٹریل کمپنی نے جون 2007 میں 45 این ایم پروسیس ٹیکنالوجی پر مبنی ڈیجیٹل کنزیومر آلات کے لیے سسٹم آن اے چپ (ایس او سی) آئی سی کی بڑے پیمانے پر پیداوار شروع کی۔ انٹیل نے نومبر 2007 میں اپنا پہلا 45 این ایم پروسیسر، زیون 5400 سیریز بھیج دیا۔ پینرین کے بارے میں بہت سی تفصیلات اپریل 2007 کے انٹیل ڈویلپر فورم میں شائع ہوئیں۔ اس کے جانشین کو نہالم کہا جاتا ہے۔ اہم پیشرفتوں میں نئی ہدایات کا اضافہ (بشمول ایس ایس ای 4، جسے پینرین نیو انسٹرکشنز بھی کہا جاتا ہے) اور نیا من گھڑت مواد (خاص طور پر ایک ہفنیم پر مبنی ڈائی الیکٹرک) شامل ہیں۔ اے ایم ڈی نے 2008 کے آخر میں 45 این ایم پروسیس ٹیکنالوجی کا استعمال کرتے ہوئے اپنے سیمپرن II، ایتھلون II، ٹوریئن II اور فینوم II (عام طور پر کارکردگی کی بڑھتی ہوئی ترتیب میں) کے ساتھ ساتھ شانگھائی اوپٹرون پروسیسرز کو بھی جاری کیا۔ ایکس بکس 360 ایس، جو 2010 میں جاری کیا گیا تھا، میں زینون پروسیسر ہے جو 45 این ایم کے عمل میں تیار کیا گیا ہے۔ پلے اسٹیشن 3 سلم ماڈل نے سیل براڈ بینڈ انجن کو 45 این ایم کے عمل میں متعارف کرایا۔ مثال: انٹیل کا 45 این ایم عمل آئی ای ڈی ایم 2007 میں، انٹیل کے 45 این ایم عمل کی مزید تکنیکی تفصیلات سامنے آئیں۔ چونکہ یہاں وسرجن لیتھوگرافی کا استعمال نہیں کیا جاتا ہے، لیتھوگرافک پیٹرننگ زیادہ مشکل ہے۔ لہذا، اس 45 این ایم عمل کے لیے واضح طور پر لائن کٹنگ ڈبل پیٹرننگ کا طریقہ استعمال کیا جاتا ہے۔ اس کے علاوہ، گیٹ کے رساو کے مسائل کو حل کرنے کے لیے پہلی بار ہائی-κ ڈائی الیکٹرک ڈائی الیکٹرکس کا استعمال متعارف کرایا گیا ہے۔ 32 این ایم نوڈ کے لیے، انٹیل کے ذریعے وسرجن لیتھوگرافی کا استعمال شروع ہو جائے گا۔ 160 این ایم گیٹ پچ (65 این ایم جنریشن کا 73 فیصد) 200 این ایم آئسولیشن پچ (65 این ایم جنریشن کا 91 فیصد) ٹرانجسٹروں کے درمیان آئسولیشن فاصلے کی اسکیلنگ کو سست کرنے کی نشاندہی کرتا ہے۔ ڈمی کاپر میٹل اور ڈمی گیٹس کا وسیع استعمال 35 این ایم گیٹ کی لمبائی (65 این ایم جنریشن کے برابر) 1 این ایم مساوی آکسائڈ موٹائی، 0.7 این ایم ٹرانزیشن پرت کے ساتھ گیٹ کا آخری عمل ڈمی پولیسیلیکن اور ڈیماسین میٹل گیٹ کا استعمال کرتے ہوئے گیٹ کا مربع دوسرے فوٹووریسسٹ کوٹنگ کا استعمال کرتے ہوئے ختم ہوتا ہے۔ کاربن ڈوپڈ آکسائڈ اور سی یو انٹر کنیکٹ کی 9 پرتیں، آخری موٹی "دوبارہ تقسیم" پرت رابطے ہیں جو مقامی انٹر کنیکٹس لیڈ فری پیکیجنگ کے لیے حلقوں کے مقابلے میں مستطیل کی شکل کے ہوتے ہیں۔ زیادہ تر خندق کے رابطے پھسلن کو ڈھکنے والے دروازوں کے متوازی مختصر لائنیں تھیں، جبکہ گیٹ کے رابطے جہاں چھوٹی لائنیں بھی دروازوں پر عمودی ہوتی تھیں۔ حال ہی میں یہ انکشاف ہوا تھا کہ نہالم اور ایٹم مائکرو پروسیسرز دونوں نے وولٹیج اسکیلنگ کو بہتر طریقے سے ایڈجسٹ کرنے کے لیے روایتی چھ کے بجائے آٹھ ٹرانجسٹروں پر مشتمل ایس آر اے ایم خلیوں کا استعمال کیا۔ اس کے نتیجے میں 30 فیصد سے زیادہ کا ایریا جرمانہ عائد کیا گیا۔ 45 این ایم ٹیکنالوجی استعمال کرنے والے پروسیسرز متسوشیتا نے 2007 میں 45 این ایم یونیفائر جاری کیا۔ وولفڈیل، وولفڈیل-3 ایم، یارک فیلڈ، یارک فیلڈ ایکس ای اور پینرین انٹیل پروسیسرز کور 2 برانڈ کے تحت فروخت کیے گئے۔ پہلی نسل کے انٹیل کور آئی 3، آئی 5 اور آئی 7 سیریز پروسیسرز جیسے کلارک فیلڈ، بلوم فیلڈ اور لن فیلڈ۔ ڈائمنڈ ویل، پائن ویو انٹیل کور ہیں جو ہائپر تھریڈنگ کے ساتھ انٹیل ایٹم برانڈ کے تحت فروخت ہوتے ہیں۔ اے ایم ڈی تھوبن (فینوم II)، کالسٹو، ہیکا، پروپس، ڈینیب، زوسما (فینوم II) اور شانگھائی (اوپٹرون) کواڈ کور پروسیسرز، ریگور (ایتھلون II) ڈوئل کور پروسیسرز، کیسپین (ٹوریئن II) موبائل ڈوئل کور پروسیسرز۔ ایکس بکس 360 ایس ماڈل میں زینون پروسیسر۔ سونی/توشیبا سیل براڈ بینڈ انجن پلے اسٹیشن 3 سلم ماڈل میں-ستمبر 2009۔ سام سنگ S5PC110، جسے ہمنگ برڈ کے نام سے جانا جاتا ہے۔ ٹیکساس انسٹرومینٹس OMAP 3 اور 4 سیریز۔ آئی بی ایم پاور 7 اور زیڈ 196 فوجیسو ایس پی اے آر سی 64 VIII ایف ایکس سیریز وائی یو ایسپریسو آئی بی ایم سی پی یو۔ حوالہ جات بیرونی روابط پیناسونک نے 45-این ایم جنریشن ایس او سی کی بڑے پیمانے پر پیداوار شروع کی انٹیل 45 این ایم عمل انٹیل کو توقع سے جلد 45 این ایم کی طرف لے جانے کے لیے اچھا ہے؟ چپ میکرز مینوفیکچرنگ رکاوٹوں کے لیے تیار انٹیل 45 این ایم نوڈ ایس آر اے ایم سیل ایک اے ایم ڈی اپ ڈیٹ سلیش ڈاٹ بحث 45 این ایم عمل کا نام رکھنے والی انٹیل انٹیل 45 این ایم ٹیکنالوجی سے آئی ای ڈی ایم 00045 تائیوان کی ایجادات میں