Inverse lithography
अर्धचालक उपकरण निर्माण में, व्युत्क्रम लिथोग्राफी प्रौद्योगिकी (आई. एल. टी.) फोटोमास्क डिजाइन के लिए एक दृष्टिकोण है। यह मूल रूप से एक व्युत्क्रम इमेजिंग समस्या को हल करने का एक तरीका हैः एक फोटोमास्क ("स्रोत") में उद्घाटन की आकृतियों की गणना करने के लिए ताकि गुजरने वाला प्रकाश प्रकाशित सामग्री पर वांछित पैटर्न ("लक्ष्य") का एक अच्छा अनुमान उत्पन्न करे, आमतौर पर एक फोटोरेसिस्ट। इस प्रकार, इसे एक विशेष प्रकार की गणितीय अनुकूलन समस्या के रूप में माना जाता है, क्योंकि आमतौर पर एक विश्लेषणात्मक समाधान मौजूद नहीं होता है। पारंपरिक दृष्टिकोण में जिसे ऑप्टिकल निकटता सुधार (ओ. पी. सी.) के रूप में जाना जाता है, एक "लक्ष्य" आकार को "स्रोत" के लिए "मैनहट्टन आकार" का उत्पादन करने के लिए सावधानीपूर्वक ट्यून किए गए आयतों के साथ संवर्धित किया जाता है, जैसा कि चित्रण में दिखाया गया है। आई. एल. टी. दृष्टिकोण "स्रोत" के लिए वक्ररेखीय आकार उत्पन्न करता है, जो "लक्ष्य" के लिए बेहतर अनुमान प्रदान करता है। आई. एल. टी. को 1980 के दशक में प्रस्तावित किया गया था, हालांकि उस समय यह विशाल आवश्यक कम्प्यूटेशनल शक्ति और जटिल "स्रोत" आकारों के कारण अव्यावहारिक था, जो सत्यापन (डिजाइन नियम जांच) और निर्माण के लिए कठिनाइयों को प्रस्तुत करते थे। हालाँकि 2000 के दशक के अंत में विकासकर्ताओं ने कम्प्यूटेशनल शक्ति में महत्वपूर्ण वृद्धि के कारण आई. एल. टी. पर पुनर्विचार करना शुरू कर दिया। संदर्भ लिथोग्राफी (माइक्रोफैब्रिकेशन) विपरीत समस्याएं