Inverse lithography
સેમિકન્ડક્ટર ઉપકરણ બનાવટમાં, ઇન્વર્સ લિથોગ્રાફી ટેકનોલોજી (આઇ. એલ. ટી.) એ ફોટોમાસ્ક ડિઝાઇનનો અભિગમ છે. આ મૂળભૂત રીતે ઇન્વર્સ ઇમેજિંગ સમસ્યાને ઉકેલવાનો એક અભિગમ છેઃ ફોટોમાસ્ક ("સ્રોત") માં મુખના આકારોની ગણતરી કરવી જેથી પસાર થતો પ્રકાશ પ્રકાશિત સામગ્રી પર ઇચ્છિત પેટર્ન ("લક્ષ્ય") નો સારો અંદાજ ઉત્પન્ન કરે, સામાન્ય રીતે ફોટોરેસિસ્ટ. જેમ કે, તેને એક ખાસ પ્રકારની ગાણિતિક ઓપ્ટિમાઇઝેશન સમસ્યા તરીકે ગણવામાં આવે છે, કારણ કે સામાન્ય રીતે વિશ્લેષણાત્મક ઉકેલ અસ્તિત્વમાં નથી. ઓપ્ટિકલ પ્રોક્સિમિટી કરેક્શન (ઓ. પી. સી.) તરીકે ઓળખાતા પરંપરાગત અભિગમોમાં, ચિત્રમાં બતાવ્યા પ્રમાણે, "સ્રોત" માટે "મેનહટન આકાર" ઉત્પન્ન કરવા માટે કાળજીપૂર્વક ટ્યુન કરેલા લંબચોરસ સાથે "લક્ષ્ય" આકાર વધારવામાં આવે છે. આઇ. એલ. ટી. અભિગમ "સ્રોત" માટે વક્રરેખીય આકારો પેદા કરે છે, જે "લક્ષ્ય" માટે વધુ સારા અંદાજો આપે છે. આઇ. એલ. ટી. ની દરખાસ્ત 1980ના દાયકામાં કરવામાં આવી હતી, જોકે તે સમયે તે વિશાળ જરૂરી કોમ્પ્યુટેશનલ શક્તિ અને જટિલ "સ્રોત" આકારોને કારણે અવ્યવહારુ હતી, જેણે ચકાસણી (ડિઝાઇન નિયમ તપાસ) અને ઉત્પાદન માટે મુશ્કેલીઓ રજૂ કરી હતી. જો કે 2000 ના દાયકાના અંતમાં વિકાસકર્તાઓએ ગણતરીની શક્તિમાં નોંધપાત્ર વધારાને કારણે આઇ. એલ. ટી. પર પુનર્વિચાર કરવાનું શરૂ કર્યું. સંદર્ભો લિથોગ્રાફી (માઇક્રોફેબ્રિકેશન) ઊલટી સમસ્યાઓ