Patterning by etching at the nanoscale
નેનોસ્કેલ (પી. ઇ. એન.) પર એચિંગ દ્વારા પેટર્ન બનાવવું એ એક સોફ્ટ લિથોગ્રાફિક તકનીક છે જેમાં પોલીડીમિથાઇલસિલોક્સેન (પી. ડી. એમ. એસ.) મેટ્રિક્સમાંના બોન્ડ્સને નિયંત્રિત રીતે એચિંગ પી. ડી. એમ. એસ. (એટલે કે. સપાટી પર પેટર્નવાળી પી. ડી. એમ. એસ. સ્ટેમ્પ લાગુ કરીને રચાયેલી પી. ડી. એમ. એસ. ચેનલની બહારના ભાગમાં ધીમા દરે વિસર્જન કરો. સ્ટેમ્પની ચેનલને દસ નેનોમીટરથી કેટલાક માઇક્રોમીટરના ક્રમમાં વિસ્તૃત કરી શકાય છે. સપાટીના તાજા વિસ્તારને ખુલ્લી પાડવી કે જેની સાથે પ્રતિક્રિયા કરી શકાય છે. સારાંશ પી. ડી. એમ. એસ. માં સિલિકોન-ઓક્સિજન બંધની પોલિમર સાંકળો હોય છે, આ બંધને ફ્લોરાઇડ ધરાવતી પ્રજાતિઓ દ્વારા તોડી શકાય છે, તે જ રીતે સિલિકોન વેફર્સ હાઇડ્રોફ્લોરિક એસિડ, એમોનિયમ ફ્લોરાઇડ અને સંબંધિત સંયોજનો સાથે કોતરણી કરીને તૈયાર કરવામાં આવે છે. પી. ડી. એમ. એસ. સ્ટેમ્પ મૂકીને જેમાં એક ચેનલ હોય છે જે બાહ્ય રીતે સપાટી પર ભરી શકાય છે, તે સપાટીને ચેનલના વિસ્તારમાં કાર્યરત કરી શકાય છે. ત્યાં સુધીમાં ચેનલ દ્વારા કોતરણીના દ્રાવણને ચલાવતા, પી. ડી. એમ. એસ. નો ભાગ દૂર થઈ જશે. સપાટીના નવા વિસ્તારને ખુલ્લી પાડવી. આ પછી યોગ્ય રસાયણશાસ્ત્ર દ્વારા કાર્યાત્મક કરી શકાય છે. ઉત્પાદિત લક્ષણની પહોળાઈ ઇચેન્ટ અને સમય દ્વારા નિયંત્રિત થાય છે. આ તકનીકને નાના પેટર્નવાળા લક્ષણોના ઉત્પાદન માટે લાગુ કરવા માટે તે જરૂરી છે કે સપાટીને ચેનલ દ્વારા ખુલ્લા વિસ્તારમાં નિષ્ક્રિય કરવા માટે પ્રતિક્રિયા આપી શકાય, ત્યારબાદ કોતરણી દ્વારા અને પછી દૂર પ્રતિક્રિયા આપી શકાય જે ફક્ત નવા ખુલ્લા વિસ્તારમાં જ થશે. સંદર્ભો પેરીંગ એમ., મિશેલ, એમ., કેનિસ પી. જે. એ., બોડેન એન. બી., કેમ. મેટ 2007 19 (11), 2903 નેનોઇલેક્ટ્રોનિક્સ