Electrostatic spray-assisted vapour deposition
ઇલેક્ટ્રોસ્ટેટિક સ્પ્રે-આસિસ્ટેડ વેપર ડિપોઝિશન (ઇએસએવીડી) એ એક તકનીક છે (આઇએમપીટી નામની કંપની દ્વારા વિકસાવવામાં આવી છે) જે કોટિંગના પાતળા અને જાડા બંને સ્તરોને વિવિધ સબસ્ટ્રેટ્સ પર જમા કરે છે. સરળ શબ્દોમાં કહીએ તો રાસાયણિક અગ્રદૂતોનો વિદ્યુતસ્થૈતિક ક્ષેત્રમાં ગરમ સબસ્ટ્રેટ તરફ છંટકાવ કરવામાં આવે છે, રસાયણો નિયંત્રિત રાસાયણિક પ્રતિક્રિયામાંથી પસાર થાય છે અને જરૂરી કોટિંગ તરીકે સબસ્ટ્રેટ પર જમા થાય છે. વિદ્યુતસ્થૈતિક છંટકાવની તકનીકો 1950 ના દાયકામાં ચાર્જ અથવા ગરમ સબસ્ટ્રેટ્સ પર આયનીકૃત કણોના છંટકાવ માટે વિકસાવવામાં આવી હતી. ઇ. એસ. એ. વી. ડી. (આઈ. એમ. પી. ટી. દ્વારા લેયાટેક તરીકે બ્રાન્ડેડ) નો ઉપયોગ ઘણા બજારોમાં ઘણા કાર્યક્રમો માટે થાય છે જેમાં નીચેનાનો સમાવેશ થાય છેઃ જેટ એન્જિન ટર્બાઇન બ્લેડ માટે થર્મલ બેરિયર કોટિંગ્સ ફ્લેટ પેનલ ડિસ્પ્લે અને ફોટોવોલ્ટેઇક પેનલ્સ, સી. આઈ. જી. એસ. અને સી. ઝેડ. ટી. એસ. આધારિત થિન-ફિલ્મ સોલર સેલના ઉત્પાદનમાં વિવિધ પાતળા સ્તરો. ઇલેક્ટ્રોનિક ઘટકો બાયોમેડિકલ કોટિંગ્સ ગ્લાસ કોટિંગ્સ (જેમ કે સ્વ-સફાઈ) કાટ સુરક્ષા કોટિંગ્સ આ પ્રક્રિયામાં સ્તર જમા (પ્લાઝ્મા, ઇલેક્ટ્રોન-બીમ) માટે અન્ય તકનીકો કરતાં ફાયદા છે જેમાં તેને કોઈપણ વેક્યૂમ, ઇલેક્ટ્રોન બીમ અથવા પ્લાઝમાના ઉપયોગની જરૂર નથી તેથી ઉત્પાદન ખર્ચમાં ઘટાડો થાય છે. તે ઓછી શક્તિ અને કાચા માલનો પણ ઉપયોગ કરે છે જે તેને વધુ પર્યાવરણને અનુકૂળ બનાવે છે. ઇલેક્ટ્રોસ્ટેટિક ક્ષેત્રના ઉપયોગનો અર્થ એ પણ છે કે પ્રક્રિયા જટિલ 3D ભાગોને સરળતાથી ઢાંકી શકે છે. વધુ વાંચન સંદર્ભો "ક્વાંગ-લેઓંગ ચોય-તેને જાડા અને પાતળા પર મૂકવું". સામગ્રી વિશ્વ. જૂન 2003. ઇલેક્ટ્રોસ્ટેટિક સ્પ્રે-આસિસ્ટેડ વેપર ડિપોઝિશન (ઇ. એસ. એ. વી. ડી.), જે સૌપ્રથમ માર્ચ 1998માં મટિરીયલ્સ વર્લ્ડમાં નોંધવામાં આવ્યું હતું, તે ફિલ્મો અને નેનોક્રિસ્ટલાઇન પાઉડર બનાવવાની એક પદ્ધતિ છે. શોધક ચાલુ પ્રગતિનું વર્ણન કરે છે. ચોય, કે. એલ., "પ્રક્રિયા સિદ્ધાંતો અને નવીન અને ખર્ચ-અસરકારક ઇએસએવીડી આધારિત પદ્ધતિઓના ઉપયોગો", ફિલ્મ્સ અને નેનોક્રિસ્ટલાઇન પાઉડરની નવીન પ્રક્રિયામાં, કે. એલ. ચોય. એડ. (વર્લ્ડ સાયન્ટિફિક પબ્લિશિંગ કંપની). 2002. pp. 15-69. . ચોય, કે. એલ., "પ્રક્રિયા પદ્ધતિઓમાં પ્રગતિની સમીક્ષાઃ ફિલ્મો અને નેનોક્રિસ્ટલાઇન પાઉડર", ફિલ્મ્સ અને નેનોક્રિસ્ટલાઇન પાઉડરની નવીન પ્રક્રિયામાં, ચોય, કે. એલ. એડ. (ઇમ્પીરિયલ કોલેજ પ્રેસ), 2002,1-14. ચોય, કે. એલ., સામગ્રી વિજ્ઞાનમાં પ્રગતિ, 48,57 (2003). ચોય, કે. એલ., "નેનોસ્ટ્રક્ચર્ડ મટિરિયલ્સની વરાળ પ્રક્રિયા", હેન્ડબુક ઓફ નેનોસ્ટ્રક્ચર્ડ મટિરિયલ્સ એન્ડ નેનોટેકનોલોજી, નલવા, એચ. એસ. એડ. (એકેડેમિક પ્રેસ) 2000,533.. ચોય, કે. એલ., ફીસ્ટ, જે. પી., હેયસ, એ. એલ. અને સુ, બી., જે. મેટર. રે. 14 (1999) 3111. ચોય, કે. એલ., "ઇએસએવીડી પદ્ધતિનો ઉપયોગ કરીને કોટિંગ્સની નવીન અને ખર્ચ-અસરકારક જુબાની", સરફેસ એન્જિનિયરિંગ, 16 (2000) 465. આર. ચંદ્રશેખર અને કે. એલ. ચોય, "ઇલેક્ટ્રોસ્ટેટિક સ્પ્રે આસિસ્ટેડ વેપર ડિપોઝિશન ઓફ ફ્લોરિન ડોપ્ડ ટીન ઓક્સાઇડ", જર્નલ ઓફ ક્રિસ્ટલ ગ્રોથ, 331 (1-2) (2001) 215. પાતળા ફિલ્મ ડિપોઝિશન સેમિકન્ડક્ટર ઉપકરણ બનાવટ મેટલવર્કિંગ કોટિંગ્સ