Plasma mirror
પ્લાઝ્મા મિરર એ એક ઓપ્ટિકલ મિકેનિઝમ છે જેનો ઉપયોગ ઉચ્ચ તીવ્રતાના અલ્ટ્રાફાસ્ટ લેસર બીમને અનુમાનિત રીતે પ્રતિબિંબિત કરવા માટે થઈ શકે છે જ્યાં બિનરેખીય ઓપ્ટિકલ અસરો પરંપરાગત અરીસાઓના ઉપયોગને અટકાવે છે અને લેસર ટેમ્પોરલ કોન્ટ્રાસ્ટમાં સુધારો કરે છે. જો પૂરતી તીવ્રતા સુધી પહોંચી શકાય, તો સબસ્ટ્રેટ (જેમ કે ફ્યુઝ્ડ સિલિકા) પર લેસર બીમની ઘટના સબસ્ટ્રેટને આયનીકૃત કરશે અને પરિણામી પ્લાઝ્મા સામાન્ય અરીસાના ગુણો સાથે આવતા બીમને પ્રતિબિંબિત કરશે. એક જ પ્લાઝ્મા અરીસાનો ઉપયોગ માત્ર એક જ વાર કરી શકાય છે, કારણ કે ક્રિયાપ્રતિક્રિયા દરમિયાન બીમ સબટ્રેટને આયનીકરણ કરે છે અને તેનો નાશ કરે છે. સ્પેક્યુલર રિફ્લેક્શન હાંસલ કરવા માટે, બીમ સાથેની ક્રિયાપ્રતિક્રિયા દરમિયાન પ્લાઝમાની સપાટી સપાટ રહેવી પડે છે. જેમ જેમ ઉચ્ચ તીવ્રતાના અલ્ટ્રાફાસ્ટ લેસરો પ્લાઝમાની રચના માટે જરૂરી કરતાં ઘણી વધારે તીવ્રતા સુધી પહોંચે છે-અને મુખ્ય પલ્સની પહેલાના પ્રિપલ્સ દરમિયાન પ્લાઝમાની રચના અને વિસ્તરણને રોકવા માટે-લેસર ટેમ્પોરલ કોન્ટ્રાસ્ટ (પ્રિપલ્સની તીવ્રતાના મુખ્ય પલ્સના ગુણોત્તર) નીચા મૂલ્ય પર જાળવવું પડે છે, જેથી પ્રિપલ્સની તીવ્રતા આયનીકરણ થ્રેશોલ્ડની નીચે હોય. જેમ જેમ ઉચ્ચ તીવ્રતાના પ્રકાશ સબસ્ટ્રેટને આયનીકૃત કરે છે અને પ્રતિબિંબિત થાય છે પરંતુ ઓછી તીવ્રતાના પ્રિપલ્સ, જે વિસ્તૃત સ્વયંસ્ફુરિત ઉત્સર્જન દ્વારા ઉત્પન્ન થાય છે અને સામાન્ય રીતે અનિચ્છનીય હોય છે, તે પ્રસારિત થાય છે, પ્લાઝ્મા મિરરનો ઉપયોગ સ્વયં-પ્રેરિત પ્લાઝ્મા શટર તરીકે ઓળખાતી પ્રક્રિયામાં બીમની તીવ્રતાના વિપરીતતાને વધારવા માટે થઈ શકે છે. આ અસર ઉપયોગી છે, કારણ કે ઘણા લેસર-ઘન પ્રયોગો તીવ્ર પ્રિપલ્સની હાજરી દ્વારા અવરોધિત થાય છે. કેટલાક સેટઅપ્સમાં, વિરોધાભાસ સુધારવા માટે બે પ્લાઝ્મા મિરર્સનો ઉપયોગ કરવામાં આવે છે. પ્લાઝમા અરીસાઓ ઉચ્ચ હાર્મોનિક પેઢી દર્શાવે છે અને તેનો ઉપયોગ એટોસેકન્ડ આત્યંતિક અલ્ટ્રા-વાયોલેટ કઠોળ બનાવવા માટે કરવામાં આવે છે. વધુ ઉપયોગોમાં ઇલેક્ટ્રોન પ્રવેગ અને અવકાશી ફેઝ પ્લેટ ડિઝાઇનનો ઉપયોગ કરીને પ્રકાશ કક્ષીય કોણીય વેગ પેદા કરવાનો સમાવેશ થાય છે. સંદર્ભો ફોટોનિક્સ પ્લાઝમા ભૌતિકશાસ્ત્ર લેસર વિજ્ઞાન