Electrogalvanization
ইলেক্ট্রোগ্যালভানাইজিং এমন একটি প্রক্রিয়া যেখানে জারণ থেকে রক্ষা পাওয়ার জন্য জিঙ্কের একটি স্তর ইস্পাতের সাথে আবদ্ধ করা হয়। এই প্রক্রিয়ায় একটি দস্তা অ্যানোড এবং ইস্পাত পরিবাহীর সাহায্যে লবণাক্ত/দস্তা দ্রবণের মাধ্যমে বিদ্যুৎ প্রবাহ চালানোর মাধ্যমে তড়িৎপ্রলেপ দেওয়া হয়। এই ধরনের জিঙ্ক ইলেক্ট্রোপ্লেটিং বা জিঙ্ক খাদ ইলেক্ট্রোপ্লেটিং প্রতি বছর ইলেক্ট্রোপ্লেটড টনের উপর ভিত্তি করে অন্যান্য ইলেক্ট্রোপ্লেটিং প্রক্রিয়া বিকল্পগুলির মধ্যে একটি প্রভাবশালী অবস্থান বজায় রাখে। ইন্টারন্যাশনাল জিঙ্ক অ্যাসোসিয়েশনের মতে, হট ডিপ গ্যালভানাইজিং এবং ইলেক্ট্রোপ্লেটিং উভয়ের জন্যই বার্ষিক 5 মিলিয়ন টনেরও বেশি ব্যবহার করা হয়। 20 শতকের শুরুতে দস্তা ধাতুপট্টাবৃতকরণের বিকাশ ঘটে। সেই সময়ে, তড়িৎবিশ্লেষ্যটি সায়ানাইড ভিত্তিক ছিল। 1960-এর দশকে প্রথম অ্যাসিড ক্লোরাইড ভিত্তিক তড়িৎবিশ্লেষ্য প্রবর্তনের মাধ্যমে একটি উল্লেখযোগ্য উদ্ভাবন ঘটে। 1980-এর দশকে সায়ানাইড ব্যবহার না করেই ক্ষারীয় তড়িৎবিশ্লেষ্য পদার্থ ফিরে আসে। সর্বাধিক ব্যবহৃত তড়িৎগালিভেনাইজড ঠান্ডা ঘূর্ণিত ইস্পাত হল এস. ই. সি. সি, যা "ইস্পাত, তড়িৎগালিভেনাইজড, ঠান্ডা ঘূর্ণিত, বাণিজ্যিক গুণমান"-এর সংক্ষিপ্ত রূপ। হট ডিপ গ্যালভানাইজিংয়ের তুলনায়, ইলেক্ট্রোপ্লেটেড দস্তা এই উল্লেখযোগ্য সুবিধাগুলি প্রদান করেঃ তুলনামূলক কর্মক্ষমতা অর্জনের জন্য কম পুরুত্বের আমানত বর্ধিত কর্মক্ষমতা এবং রঙের বিকল্পগুলির জন্য বিস্তৃত রূপান্তর লেপের প্রাপ্যতা উজ্জ্বল, আরও নান্দনিকভাবে আকর্ষণীয়, আমানত ইতিহাস দস্তা প্লেটিং তৈরি করা হয়েছিল এবং সবচেয়ে চ্যালেঞ্জিং জারা সুরক্ষা, তাপমাত্রা এবং পরিধান প্রতিরোধের প্রয়োজনীয়তা পূরণের জন্য বিকশিত হতে থাকে। জিঙ্কের ইলেক্ট্রোপ্লেটিং 1800 সালে উদ্ভাবিত হয়েছিল কিন্তু 1930-এর দশকের গোড়ার দিকে ক্ষারীয় সায়ানাইড ইলেক্ট্রোলাইট দিয়ে প্রথম উজ্জ্বল আমানত পাওয়া যায়নি। অনেক পরে, 1966 সালে, অ্যাসিড ক্লোরাইড স্নানের ব্যবহার উজ্জ্বলতা আরও উন্নত করে। সর্বশেষ আধুনিক বিকাশ ঘটে 1980-এর দশকে, নতুন প্রজন্মের ক্ষারীয়, সায়ানাইড-মুক্ত দস্তা দিয়ে। ইউরোপীয় ইউনিয়নের সাম্প্রতিক নির্দেশাবলী (ইএলভি/রোএইচএস/ডব্লিউইইই) স্বয়ংচালিত, অন্যান্য মূল সরঞ্জাম প্রস্তুতকারক (ওইএম) এবং বৈদ্যুতিক ও বৈদ্যুতিন সরঞ্জাম প্রস্তুতকারকদের হেক্সাভ্যালেন্ট ক্রোমিয়াম (সিআরভিআই) ব্যবহার নিষিদ্ধ করেছে। এই নির্দেশাবলী, ও. ই. এম দ্বারা বর্ধিত কর্মক্ষমতার প্রয়োজনীয়তার সাথে মিলিত হয়ে, ক্ষারীয় দস্তা, দস্তা মিশ্র ধাতু এবং উচ্চ কার্যকারিতা ট্রাইভ্যালেন্ট প্যাসিভেটিং রূপান্তর আবরণের ব্যবহার বৃদ্ধি করেছে। 1980-র দশকে প্রথম ক্ষারীয় Zn/Fe (99.5%/0.5%) আমানত এবং Zn/Ni (94%/6%) আমানত ব্যবহার করা হয়েছিল। সম্প্রতি, প্রধান ইউরোপীয় গাড়ি নির্মাতাদের জারা নির্দিষ্টকরণের শক্তিবৃদ্ধি এবং জীবনের শেষ যানবাহন নির্দেশিকা (হেক্সাভ্যালেন্ট ক্রোমিয়াম রূপান্তর আবরণের ব্যবহার নিষিদ্ধ) 12 থেকে 15 শতাংশ Ni (Zn/Ni 86/14) ধারণকারী ক্ষারীয় Zn/Ni-এর বৃহত্তর ব্যবহারের প্রয়োজন ছিল। শুধুমাত্র Zn/Ni (86 শতাংশ/14 শতাংশ) একটি মিশ্র ধাতু যেখানে লোহা, কোবাল্ট এবং নিকেলের কম উপাদান সহ-সঞ্চয়ের দিকে পরিচালিত করে। অ্যাসিডিক এবং ক্ষারীয় তড়িৎবিশ্লেষ্যগুলিতে Zn/Ni (12-15%) কে Zn-Ni বাইনারি পর্যায় চিত্রের গামা স্ফটিক পর্যায় হিসাবে ধাতুপট্টাবৃত করা হয়। প্রক্রিয়া বৈদ্যুতিন জমা হওয়া দস্তা স্তর দ্বারা ক্ষয় সুরক্ষা প্রাথমিকভাবে দস্তা বনাম লোহার (বেশিরভাগ ক্ষেত্রে স্তর) অ্যানোডিক সম্ভাব্য দ্রবীভূত হওয়ার কারণে হয়। দস্তা লোহা (ইস্পাত) রক্ষার জন্য একটি আত্মত্যাগী অ্যানোড হিসাবে কাজ করে। ইস্পাত ই. এস. সি. ই =-400 এম. ভি-র কাছাকাছি হলেও (সম্ভাব্যতাটি স্ট্যান্ডার্ড স্যাচুরেটেড ক্যালোমেল ইলেক্ট্রোডকে (এস. সি. ই) বোঝায়, মিশ্র গঠনের উপর নির্ভর করে, ইলেক্ট্রোপ্লেটেড দস্তা ই. এস. সি. ই =-980 এম. ভি-এর সাথে অনেক বেশি অ্যানোডিক। ইস্পাতকে ক্যাথোডিক সুরক্ষা দ্বারা ক্ষয় থেকে রক্ষা করা হয়। ক্রোমিয়াম এবং জিঙ্ক হাইড্রক্সাইডের একটি অতিরিক্ত প্রতিরোধকারী স্তর তৈরি করে জারা সুরক্ষা ব্যাপকভাবে বাড়ানোর জন্য রূপান্তর আবরণ (হেক্সাভ্যালেন্ট ক্রোমিয়াম (সিআরভিআই) বা ট্রাইভ্যালেন্ট ক্রোমিয়াম (সিআরআইআই) ও. ই. এম প্রয়োজনীয়তার উপর নির্ভর করে) প্রয়োগ করা হয়। এই অক্সাইড ফিল্মগুলি সবচেয়ে পাতলা নীল/স্বচ্ছ প্যাসিভেটগুলির জন্য 10 এনএম থেকে পুরু কালো ক্রোমেটগুলির জন্য 4 মাইক্রোমিটার পর্যন্ত পুরুত্বের মধ্যে থাকে। উপরন্তু, ইলেক্ট্রোপ্লেটেড দস্তা নিবন্ধগুলি জারা সুরক্ষা এবং ঘর্ষণ কর্মক্ষমতা আরও বাড়ানোর জন্য একটি টপকোট পেতে পারে। আধুনিক তড়িৎবিশ্লেষ্যগুলি ক্ষারীয় এবং অম্লীয় উভয়ইঃ ক্ষারীয় তড়িৎবিশ্লেষ্য সায়ানাইড তড়িৎবিশ্লেষ্যগুলিতে সোডিয়াম সালফেট এবং সোডিয়াম হাইড্রক্সাইড (NaOH) থাকে। তারা সকলেই মালিকানাধীন উজ্জ্বলকরণ এজেন্ট ব্যবহার করে। দস্তা সায়ানাইড জটিল Na2Zn (CN) 4 এবং দস্তা Na2Zn (OH) 4 হিসাবে দ্রবণীয়। এই ধরনের তড়িৎবিশ্লেষ্যের গুণগত মান নিয়ন্ত্রণের জন্য Zn, NaOH এবং NaCN-এর নিয়মিত বিশ্লেষণ প্রয়োজন। স্নানের তাপমাত্রা এবং পছন্দসই জমা উজ্জ্বলতার স্তরের উপর নির্ভর করে NaCN: Zn এর অনুপাত 2 থেকে 3 এর মধ্যে পরিবর্তিত হতে পারে। নিম্নলিখিত চার্টটি ঘরের তাপমাত্রায় প্লেট করার জন্য ব্যবহৃত সাধারণ সায়ানাইড ইলেক্ট্রোলাইট বিকল্পগুলি চিত্রিত করেঃ ক্ষারীয় অ-সায়ানাইড ইলেক্ট্রোলাইট জিঙ্ক এবং সোডিয়াম হাইড্রক্সাইড ধারণ করে। এগুলির বেশিরভাগই সায়ানাইড স্নানের মতো মালিকানাধীন সংযোজন এজেন্ট দ্বারা উজ্জ্বল করা হয়। কোয়াটারনারি অ্যামাইন অ্যাডিটিভগুলির সংযোজন উচ্চ এবং নিম্ন বর্তমান ঘনত্বের মধ্যে উন্নত ধাতব বিতরণে অবদান রাখে। কাঙ্ক্ষিত কর্মক্ষমতার উপর নির্ভর করে, ইলেক্ট্রোপ্লেটার উৎপাদনশীলতা বৃদ্ধির জন্য সর্বোচ্চ দস্তা উপাদান নির্বাচন করতে পারে বা আরও ভাল নিক্ষেপ শক্তির জন্য দস্তা উপাদান কম করতে পারে (নিম্ন বিদ্যুৎ ঘনত্ব এলাকায়)। আদর্শ ধাতব বণ্টনের জন্য, জেডএন ধাতু 120 গ্রাম/এল (16 ওজ/গ্যাল)-এ 6-14 জি/এল (0.8-1.9 ওজ/গ্যাল) এবং নাওএইচ-এর মধ্যে বিবর্তিত হয়। কিন্তু সর্বোচ্চ উৎপাদনশীলতার জন্য Zn ধাতু 14-25 g/L (1.9-3.4 oz/gal) এবং NaOH 120 g/L (16 oz/gal)-এর মধ্যে থাকে। ক্ষারীয় অ-সায়ানাইড দস্তা প্রক্রিয়াতে কম ঘনত্বের দস্তা ধাতুর ঘনত্ব 6-14 g/L (0.8-1.9 oz/gal) বা উচ্চতর দস্তা ধাতুর ঘনত্ব 14-25 g/L (1.9-3.4 oz/gal) থাকে যা ক্লোরাইড ভিত্তিক (নিম্ন অ্যামোনিয়াম ক্লোরাইড, পটাসিয়াম ক্লোরাইড/অ্যামোনিয়াম ক্লোরাইড)-বা (অ-অ্যামোনিয়াম ক্লোরাইড, পটাসিয়াম ক্লোরাইড/বোরিক অ্যাসিড) বা সালফেট স্নানের মতো যে কোনও অ্যাসিডিক স্নানের তুলনায় উচ্চ বিদ্যুৎ ঘনত্ব থেকে নিম্ন বিদ্যুৎ ঘনত্ব বা নিক্ষেপ শক্তি পর্যন্ত উচ্চতর প্লেট বিতরণ প্রদান করে। অ্যাসিডিক তড়িৎবিশ্লেষ্য উচ্চ গতির তড়িৎবিশ্লেষ্য উদ্ভিদগুলিতে উচ্চ গতিতে ধাতুপট্টাবৃত করার জন্য নিবেদিত যেখানে ক্ষুদ্রতম ধাতুপট্টাবৃত করার সময় গুরুত্বপূর্ণ (অর্থাৎ। ইস্পাত কয়েল বা পাইপ যা 200 মিটার/মিনিট পর্যন্ত চলে। স্নানঘরে সর্বোচ্চ দ্রবণীয়তা স্তর পর্যন্ত দস্তা সালফেট এবং ক্লোরাইড থাকে। বোরিক অ্যাসিড পিএইচ বাফার হিসাবে এবং উচ্চ বিদ্যুৎ ঘনত্বে জ্বলন্ত প্রভাব কমাতে ব্যবহার করা যেতে পারে। এই স্নানাগারে খুব কম শস্য শোধনাগার রয়েছে। যদি একটি ব্যবহার করা হয়, এটি সোডিয়াম স্যাকারিন হতে পারে। প্রথাগত তড়িৎবিশ্লেষ্য প্রাথমিকভাবে অ্যামোনিয়াম ক্লোরাইডের উপর ভিত্তি করে, আজকের বিকল্পগুলির মধ্যে রয়েছে অ্যামোনিয়াম, পটাসিয়াম বা মিশ্র অ্যামোনিয়াম/পটাসিয়াম তড়িৎবিশ্লেষ্য। জিঙ্কের নির্বাচিত উপাদান প্রয়োজনীয় উৎপাদনশীলতা এবং অংশ বিন্যাসের উপর নির্ভর করে। উচ্চ দস্তা স্নানের দক্ষতা (ধাতুপট্টাবৃত করার গতি) উন্নত করে, যখন নিম্ন স্তরগুলি স্নানের কম স্রোতের ঘনত্বের মধ্যে নিক্ষেপ করার ক্ষমতা উন্নত করে। সাধারণত, জেডএন ধাতুর স্তর 20 থেকে 50 গ্রাম/লি (2.7-6.7 ওজ/গ্যাল) এর মধ্যে পরিবর্তিত হয়। পিএইচ 4.8 থেকে 5.8 ইউনিটের মধ্যে পরিবর্তিত হয়। নিম্নলিখিত চার্টটি একটি সাধারণ সমস্ত পটাসিয়াম ক্লোরাইড স্নানের গঠন চিত্রিত করেঃ সাধারণ শস্য শোধকগুলির মধ্যে কম দ্রবণীয় কিটোন এবং অ্যালডিহাইড রয়েছে। এই উজ্জ্বল এজেন্টগুলি অবশ্যই অ্যালকোহল বা হাইড্রোট্রোপে দ্রবীভূত হতে হবে। ফলস্বরূপ অণুগুলি জিঙ্কের সাথে সহ-জমা হয় সামান্য সমতল, খুব উজ্জ্বল জমা তৈরি করতে। তবে উজ্জ্বল আমানত ক্রোমেট/প্যাসিভেট গ্রহণযোগ্যতা হ্রাস করতেও দেখানো হয়েছে। ফলস্বরূপ ক্ষয় সুরক্ষা হ্রাস পায়। মিশ্র প্রক্রিয়াগুলি জারা সুরক্ষা মূলত দস্তা বনাম লোহার অ্যানোডিক সম্ভাব্য দ্রবীভূত হওয়ার কারণে হয়। দস্তা লোহা (ইস্পাত) রক্ষার জন্য একটি আত্মত্যাগী অ্যানোড হিসাবে কাজ করে। ইস্পাত-400 এমভি-র কাছাকাছি হলেও, মিশ্র গঠনের উপর নির্ভর করে, ইলেক্ট্রোপ্লেটেড দস্তা-980 এমভি সহ অনেক বেশি অ্যানোডিক। ইস্পাতকে ক্যাথোডিক সুরক্ষা দ্বারা ক্ষয় থেকে রক্ষা করা হয়। 1 শতাংশেরও কম মাত্রায় কোবাল্ট বা নিকেলের সাথে দস্তা মিশ্রিত করার সম্ভাবনার উপর ন্যূনতম প্রভাব ফেলে; তবে উভয় মিশ্র ধাতু রূপান্তর আবরণের মাধ্যমে একটি ক্রোমেট ফিল্ম বিকাশের জন্য দস্তা স্তরের ক্ষমতা উন্নত করে। এটি জারা সুরক্ষা আরও বাড়ায়। অন্যদিকে, Zn/Ni-এর 12 শতাংশ থেকে 15 শতাংশ Ni (Zn/Ni 86/14)-680 mV-এর মধ্যে সম্ভাব্যতা রয়েছে, যা ক্যাডমিয়াম-640 mV-এর কাছাকাছি। ক্ষয়ের সময়, জিঙ্কের আক্রমণকে অগ্রাধিকার দেওয়া হয় এবং ডিজিন্সিফিকেশন ইস্পাতের দিকে সম্ভাবনার ধারাবাহিক বৃদ্ধির দিকে পরিচালিত করে। ক্ষয়ের এই পদ্ধতির জন্য ধন্যবাদ, এই মিশ্র ধাতু অন্যান্য মিশ্র ধাতুগুলির তুলনায় অনেক বেশি সুরক্ষা প্রদান করে। খরচের কারণে, বিদ্যমান বাজারটি ক্ষারীয় Zn/Fe (99.5%/0.5%) এবং ক্ষারীয় Zn/Ni (86%/14%)-এর মধ্যে বিভক্ত। প্রাক্তন ক্ষারীয় এবং অ্যাসিডিক Zn/Co (99.5%/0.5%)-এর ব্যবহার নির্দিষ্টকরণ থেকে অদৃশ্য হয়ে যাচ্ছে কারণ Fe কম পরিবেশগত উদ্বেগের সাথে অনুরূপ ফলাফল দেয়। প্রাক্তন Zn/Ni (94 শতাংশ/6 শতাংশ) যা বিশুদ্ধ দস্তা এবং Zn/Ni (86 শতাংশ/14 শতাংশ)-এর ক্রিস্টালোগ্রাফিক গামা পর্যায়ের মধ্যে একটি মিশ্রণ ছিল, ইউরোপীয় বৈশিষ্ট্য থেকে প্রত্যাহার করা হয়েছিল। ক্ষারীয় Zn/Ni (86 শতাংশ/14 শতাংশ)-এর একটি নির্দিষ্ট সুবিধা হল ধাতুপট্টাবৃত হাইড্রোজেন ভঙ্গুরতার অভাব। এটি প্রমাণিত হয়েছিল যে ইস্পাতের প্রথম নিউক্লিয়েশন বিশুদ্ধ নিকেল দিয়ে শুরু হয় এবং এই স্তরটি Zn-Ni এর আগে 2 এনএম পুরু ধাতুপট্টাবৃত হয়। এই প্রাথমিক স্তরটি হাইড্রোজেনকে ইস্পাতের স্তরের গভীরে প্রবেশ করতে বাধা দেয়, ফলে হাইড্রোজেন ভঙ্গুরতার সাথে সম্পর্কিত গুরুতর সমস্যাগুলি এড়ানো যায়। এই প্রক্রিয়াটির মূল্য এবং দীক্ষা প্রক্রিয়াটি উচ্চ শক্তির ইস্পাত, টুল স্টিল এবং হাইড্রোজেন এমব্রিটেলমেন্টের জন্য সংবেদনশীল অন্যান্য স্তরগুলির জন্য বেশ কার্যকর। একটি নতুন অ্যাসিডিক Zn/Ni (86 শতাংশ/14 শতাংশ) তৈরি করা হয়েছে যা একটি উজ্জ্বল আমানত তৈরি করে তবে ক্ষারীয় ব্যবস্থার তুলনায় কম ধাতব বিতরণ প্রদান করে এবং পূর্বোক্ত নিকেল আন্ডারলেয়ার ছাড়া, হাইড্রোজেন এমব্রিটলেটমেন্টের ক্ষেত্রে একই কর্মক্ষমতা প্রদান করে না। উপরন্তু, সমস্ত দস্তা মিশ্র ধাতু নতুন সিআরভিআই মুক্ত রূপান্তর আবরণ ফিল্ম গ্রহণ করে যা প্রায়শই জারা সুরক্ষা বাড়ানোর জন্য, প্রতিরোধের পরিধান এবং ঘর্ষণের গুণাঙ্ক নিয়ন্ত্রণের জন্য একটি শীর্ষ-কোট দ্বারা অনুসরণ করা হয়। স্নানের রচনাগুলি 0,5 শতাংশ হারে ক্ষারীয় দস্তা-লোহা ধাতুপট্টাবৃত করার জন্য তড়িৎবিশ্লেষ্যের গঠনঃ 0,5 শতাংশ হারে অম্লীয় দস্তা-কোবাল্ট ধাতুপট্টাবৃত করার জন্য তড়িৎবিশ্লেষ্যের গঠন কোঃ নি-তে ক্ষারীয় দস্তা-নিকেল ধাতুপট্টাবৃত করার জন্য তড়িৎবিশ্লেষ্যের গঠনঃ নি-তে 12-15%-এ ক্ষারীয় দস্তা-নিকেল ধাতুপট্টাবৃত করার জন্য তড়িৎবিশ্লেষ্যের গঠনঃ নি-তে 12-15%-এ অম্লীয় দস্তা-নিকেল ধাতুপট্টাবৃত করার জন্য তড়িৎবিশ্লেষ্যের গঠনঃ রেফারেন্স ফুটনোট সূত্র জেজে। ডুপ্রাট (কোভেন্টিয়া), মাইক কেলি (কোভেন্টিয়া), "ডেডিকেটেড প্রসেসস ফর ইলেক্ট্রোপ্লেটিং অন ফাস্টেনার্স", ফাস্টেনার্স টেকনোলজি ইন্টারন্যাশনাল, আগস্ট 2010, পৃ. 56-60 এল. থিয়েরি, এফ. রাউলিনঃ "অ্যাডভান্সস ইন ট্রাইভ্যালেন্ট প্যাসিভেটস অন জিঙ্ক অ্যান্ড জিঙ্ক এলয়", গ্যালভানোটেকনিক 98 (4) (2007) 862-869 মডার্ন ইলেক্ট্রোপ্লেটিং, 5ম সংস্করণ এইচ. গেদুল্ড, "জিঙ্ক প্লেটিং", ফিনিশিং পাবলিকেশনস, 1988 এল হাজ্জামি, এমপি। গিগানডেট, এম. ডি পেট্রিস-ওয়েরি, জে. সি. ক্যাটোনে, জে. জে. ডুপ্রাট, এল. থিয়েরি, এন. পম্মিয়ার, এফ. রাউলিন, বি. স্টার্ক, পি. রেমিঃ "কম কার্বন ইস্পাতে বৈদ্যুতিনভাবে জমা হওয়া পাতলা জেডএন-নি খাদ আবরণের বৈশিষ্ট্য", অ্যাপ্লায়েড সারফেস সায়েন্সেস, 254, (2007) 480-489 এন. পম্মিয়ার, এল. থিয়েরি, এমপি। গিগানডেট, এম. টাচেজঃ "একটি অর্গানোমিনারাল লেপের অবক্ষয়ের বৈদ্যুতিন রাসায়নিক অধ্যয়নঃ মেরুকরণ প্রতিরোধ এবং বৈদ্যুতিন রাসায়নিক প্রতিবন্ধকতা স্পেকট্রোস্কোপি পরিমাপ", অ্যান। চিম। বিজ্ঞান. ম্যাট, 1998,23, কে. ওয়াজজিকোভস্কি, "নিউ ডেভেলপমেন্টস ইন করোশন টেস্টিংঃ থিওরি, মেথডস অ্যান্ড স্ট্যান্ডার্ডস", সার্ফিন প্রসেসিং 2010, গ্র্যান্ড র্যাপিডস, এমআই, সেশন 7 এ. জিমেনেজ, "মেমব্রেন টেকনোলজি ফর ইলেক্ট্রোপ্লেটিং প্রসেস", সার্ফিন প্রসেসিং 2010, গ্র্যান্ড র্যাপিডস, এমআই, সেশন 4 এক্সটার্নাল লিঙ্কস দ্য হাল সেল করোশন প্রিভেনশন মেটাল প্লেটিং জিঙ্ক