Inverse lithography
সেমিকন্ডাক্টর ডিভাইস ফ্যাব্রিকেশনে, ইনভার্স লিথোগ্রাফি প্রযুক্তি (আইএলটি) ফটোমাস্ক ডিজাইনের একটি পদ্ধতি। এটি মূলত একটি বিপরীত ইমেজিং সমস্যা সমাধানের একটি পদ্ধতিঃ একটি ফটোমাস্কে ("উৎস") খোলার আকার গণনা করা যাতে প্রবাহিত আলো আলোকিত উপাদানের উপর পছন্দসই প্যাটার্নের ("লক্ষ্য") একটি ভাল অনুমান তৈরি করে, সাধারণত একটি ফটোরেসিস্ট। এইভাবে, এটি একটি বিশেষ ধরনের গাণিতিক অপ্টিমাইজেশান সমস্যা হিসাবে বিবেচিত হয়, কারণ সাধারণত একটি বিশ্লেষণাত্মক সমাধান বিদ্যমান থাকে না। প্রচলিত পদ্ধতিতে যা অপটিক্যাল প্রক্সিমিটি করেকশন (ওপিসি) নামে পরিচিত, একটি "লক্ষ্য" আকৃতি যত্ন সহকারে সুর করা আয়তক্ষেত্রগুলির সাথে বর্ধিত করা হয় যাতে "উৎস"-এর জন্য একটি "ম্যানহাটন আকৃতি" তৈরি করা যায়, যেমন চিত্রটিতে দেখানো হয়েছে। আই. এল. টি পদ্ধতি "উৎস"-এর জন্য বক্ররেখা আকৃতি তৈরি করে, যা "লক্ষ্য"-এর জন্য আরও ভাল অনুমান প্রদান করে। 1980-এর দশকে আই. এল. টি-র প্রস্তাব করা হয়েছিল, তবে সেই সময়ে এটি বিশাল প্রয়োজনীয় গণনামূলক শক্তি এবং জটিল "উৎস" আকারের কারণে অবাস্তব ছিল, যা যাচাইকরণ (নকশা নিয়ম পরীক্ষা) এবং উৎপাদনের জন্য অসুবিধা তৈরি করেছিল। তবে 2000-এর দশকের শেষের দিকে ডেভেলপাররা গণনামূলক শক্তির উল্লেখযোগ্য বৃদ্ধির কারণে আই. এল. টি পুনর্বিবেচনা করতে শুরু করেন। তথ্যসূত্র লিথোগ্রাফি (মাইক্রোফ্যাব্রিকেশন) বিপরীত সমস্যা