Plasmonic nanolithography
প্লাজমোনিক ন্যানোলিথোগ্রাফি (প্লাজমোনিক লিথোগ্রাফি বা প্লাজমোনিক ফটোলিথোগ্রাফি নামেও পরিচিত) একটি ন্যানোলিথোগ্রাফিক প্রক্রিয়া যা ন্যানোস্কেল কাঠামো তৈরি করতে পৃষ্ঠ প্লাজমন পোলারিটন (এসপিপি)-এর মতো পৃষ্ঠ প্লাজমন উত্তেজনা ব্যবহার করে। এস. পি. পি, যা পৃষ্ঠ তরঙ্গ যা অপটিক্যাল ব্যবস্থায় প্ল্যানার ডাইলেক্ট্রিক-ধাতব স্তরগুলির মধ্যে ছড়িয়ে পড়ে, অপটিক্যাল রেজোলিউশনের বিচ্ছুরণ সীমাকে বাইপাস করতে পারে যা প্রচলিত ফটোলিথোগ্রাফির জন্য একটি বাধা হিসাবে কাজ করে। তাত্ত্বিকভাবে ভূপৃষ্ঠের প্লাজমন পোলারিটন হল পৃষ্ঠের তড়িৎচুম্বকীয় তরঙ্গ যা চিহ্ন-পরিবর্তনশীল পারমিটটিভিটি সহ দুটি পৃষ্ঠের মধ্যে ছড়িয়ে পড়ে। এগুলি ফোটনের সাথে প্লাজমা দোলনগুলির সংযোগ থেকে উদ্ভূত হয়, যা প্লাজমন হিসাবে পরিমাপ করা হয়। এস. পি. পি-র ফলে বিবর্তিত ক্ষেত্রগুলি যেখানে প্রসারণ ঘটে সেখানে ইন্টারফেসের লম্বভাবে ক্ষয় হয়। এস. পি. পি-গুলির জন্য বিচ্ছুরণ সম্পর্ক অভ্যন্তরীণ আলোর মুক্ত-স্থান তরঙ্গদৈর্ঘ্যের চেয়ে ছোট তরঙ্গদৈর্ঘ্যের উত্তেজনার অনুমতি দেয়, অতিরিক্তভাবে উপ-তরঙ্গদৈর্ঘ্য ক্ষেত্রের সীমাবদ্ধতা নিশ্চিত করে। তা সত্ত্বেও, এস. পি. পি-গুলির উত্তেজনার জন্য গতিবেগ অসামঞ্জস্যের প্রয়োজন হয়; প্রিজম এবং গ্র্যাটিং কাপলিং পদ্ধতিগুলি সাধারণ। প্লাজমোনিক ন্যানোলিথোগ্রাফি প্রক্রিয়ার জন্য, এটি পৃষ্ঠের রুক্ষতা এবং ছিদ্রের মাধ্যমে অর্জন করা হয়। পদ্ধতি প্লাজমোনিক কন্টাক্ট লিথোগ্রাফি, একটি ধাতব ফটোমাস্ক ব্যবহার করে, যার উপর এস. পি. পি-রা উত্তেজিত হয়। সাধারণ ফোটোলিথোগ্রাফিক প্রক্রিয়ার মতো, ফটোরেসিস্ট এস. পি. পি-র সংস্পর্শে আসে যা মাস্ক থেকে ছড়িয়ে পড়ে। ছিদ্রযুক্ত ফটোমাস্কগুলি এস. পি. পি-র গ্র্যাটিং কাপলিং সক্ষম করে; ক্ষেত্রগুলি শুধুমাত্র ন্যানোমিটারের জন্য প্রসারিত হয়। শ্রীতুরাবানিচ এবং অন্যান্যরা। 2ডি সিলভার হোল অ্যারে মাস্ক দিয়ে লিথোগ্রাফিক প্রক্রিয়াটি পরীক্ষামূলকভাবে প্রদর্শন করেছে; 90 এনএম হোল অ্যারে 365 এনএম তরঙ্গদৈর্ঘ্যে উত্পাদিত হয়েছিল, যা বিচ্ছুরণ সীমার বাইরে। জায়াতস এবং স্মোলিয়ানিনভ উপ-তরঙ্গদৈর্ঘ্যের ছিদ্র বাড়ানোর জন্য একটি বহু-স্তরযুক্ত ধাতব ফিল্ম মাস্ক ব্যবহার করেছিলেন; এই ধরনের কাঠামো পাতলা ফিল্ম জমা করার পদ্ধতি দ্বারা উপলব্ধি করা যেতে পারে। বিকল্প ছিদ্র হিসাবে বাউটি ছিদ্র এবং ন্যানোগ্যাপেরও পরামর্শ দেওয়া হয়েছিল। পদ্ধতির একটি সংস্করণ, যা লিউ এট আল দ্বারা সারফেস প্লাজমন ইন্টারফেরেন্স ন্যানোলিথোগ্রাফি নামে পরিচিত, এসপিপি ইন্টারফেরেন্স প্যাটার্ন ব্যবহার করে। উচ্চ রেজোলিউশন এবং থ্রুপুট প্রদান করা সত্ত্বেও, প্লাজমোনিক কন্টাক্ট লিথোগ্রাফি একটি ব্যয়বহুল এবং জটিল পদ্ধতি হিসাবে বিবেচিত হয়; যোগাযোগের কারণে দূষণও একটি সীমাবদ্ধ কারণ। প্ল্যানার লেন্স ইমেজিং ন্যানোলিথোগ্রাফি প্লাজমোনিক লেন্স বা নেতিবাচক-সূচক সুপারলেন্স ব্যবহার করে, যা প্রথম জন পেন্ড্রি দ্বারা প্রস্তাবিত হয়েছিল। অনেক সুপারলেন্স ডিজাইন, যেমন পেন্ড্রির থিন সিলভার ফিল্ম বা ফ্যাং এট আল। সুপারলেন্স, আগত আলোর ফুরিয়ার উপাদানগুলিকে বিচ্ছুরণ সীমার বাইরে ফোকাস করতে প্লাজমোনিক উত্তেজনা থেকে উপকৃত হয়। চতুর্বেদী ও অন্যান্যরা। শি এবং অন্যান্যরা 380 এনএম-এ সিলভার সুপারলেন্স ফোটোলিথোগ্রাফির মাধ্যমে 30 এনএম ক্রোমিয়াম গ্র্যাটিংয়ের চিত্র প্রদর্শন করেছেন। একটি অ্যালুমিনিয়াম সুপারলেন্সের সাথে 193 এনএম তরঙ্গদৈর্ঘ্যে একটি 20 এনএম লিথোগ্রাফি রেজোলিউশন সিমুলেটেড। শ্রীতুরাবানিচ এবং অন্যান্যরা। মাস্কলেস নিয়ার-ফিল্ড ন্যানোলিথোগ্রাফির জন্য একটি যান্ত্রিকভাবে সামঞ্জস্যযোগ্য, হোভারিং প্লাজমোনিক লেন্স তৈরি করেছে, যেখানে প্যান এট আল দ্বারা আরেকটি মাস্কলেস পদ্ধতি। প্রগতিশীল সংযোগের জন্য একটি "মাল্টি-স্টেজ প্লাজমোনিক লেন্স" ব্যবহার করে। প্লাজমোনিক ডাইরেক্ট রাইটিং হল ফটোলিথোগ্রাফির একটি মুখোশহীন রূপ যা স্ক্যানিং প্রোব লিথোগ্রাফির উপর ভিত্তি করে; পদ্ধতিটি ফটোরেসিস্টকে প্রকাশ করতে এমবেডেড প্লাজমোনিক স্ক্যানিং প্রোব থেকে স্থানীয় পৃষ্ঠ প্লাজমন (এলএসপি) বর্ধন ব্যবহার করে। ওয়াং এবং অন্যান্য। এই পদ্ধতিতে পরীক্ষামূলকভাবে 100 এনএম ক্ষেত্রের বন্দিদশা প্রদর্শন করা হয়েছে। কিম এবং অন্যান্য। ~ 10 মিমি/সেকেন্ডের প্যাটার্ন গতি সহ একটি ~ 50 এনএম রেজোলিউশন স্ক্যানিং প্রোব তৈরি করেছে। সোনার ন্যানো পার্টিকেল এবং অন্যান্য প্লাজমোনিক ন্যানোস্ট্রাকচার যেমন ন্যানোগ্যাপগুলি লিথোগ্রাফির জন্য মাস্ক হিসাবে ব্যবহার করা হয়েছে; এই ক্ষেত্রে খোদাই ফটোমাস্কিং নীতি বা এলএসপি অনুরণনের কারণে ন্যানোস্ট্রাকচারের আশেপাশে স্থানীয় উত্তাপের মাধ্যমে অর্জন করা যেতে পারে। লিন এবং অন্যান্য। "অপ্টোথার্মোপ্লাজমোনিক ন্যানোলিথোগ্রাফি" নামে পরিচিত একটি প্রক্রিয়ায় প্যাটার্নযুক্ত গ্রাফিন এবং মলিবডেনাম ডাইসালফাইড মনোলেয়ারের মতো দ্বি-মাত্রিক কাঠামো তৈরি করতে সোনার ন্যানোপার্টিকেলে স্থানীয় তাপীয় উত্তেজনাও ব্যবহার করা হয়। এলএসপি অনুরণনের আলোক রাসায়নিক প্রভাবগুলি লিথোগ্রাফিক প্রক্রিয়াগুলিতে অনুঘটক হিসাবেও ব্যবহৃত হয়েছিলঃ সাইটো এট আল। প্লাজমন-প্ররোচিত চার্জ পৃথকীকরণের মাধ্যমে টাইটানিয়াম ডাই অক্সাইড স্তরের উপর সিলভার ন্যানোক্যুবের নির্বাচিত খোদাই প্রদর্শন করা হয়েছে। আরও দেখুন ইলেক্ট্রন-বিম লিথোগ্রাফি ন্যানোইম্প্রিন্ট লিথোগ্রাফি ন্যানোস্ফিয়ার লিথোগ্রাফি প্লাজমোনিক মেটামেটেরিয়াল রেফারেন্স লিথোগ্রাফি (মাইক্রোফ্যাব্রিকেশন) প্লাজমনিকস