Plasma mirror
একটি প্লাজমা আয়না একটি আলোকীয় প্রক্রিয়া যা উচ্চ তীব্রতার আল্ট্রাফাস্ট লেজার রশ্মিগুলিকে অনুমানমূলকভাবে প্রতিফলিত করতে ব্যবহার করা যেতে পারে যেখানে অরৈখিক আলোকীয় প্রভাবগুলি প্রচলিত আয়নাগুলির ব্যবহারকে বাধা দেয় এবং লেজারের সাময়িক বৈসাদৃশ্যকে উন্নত করে। যদি পর্যাপ্ত তীব্রতায় পৌঁছানো যায়, একটি স্তরের উপর একটি লেজার রশ্মির ঘটনা (যেমন ফিউজড সিলিকা) স্তরটিকে আয়নিত করবে এবং ফলস্বরূপ প্লাজমা একটি সাধারণ আয়নার গুণাবলীর সাথে আগত রশ্মির প্রতিফলন ঘটাবে। একটি একক প্লাজমা আয়না শুধুমাত্র একবার ব্যবহার করা যেতে পারে, কারণ মিথস্ক্রিয়া চলাকালীন রশ্মিটি সাবট্রেটকে আয়নিত করে এবং এটিকে ধ্বংস করে দেয়। একটি স্পেকুলার প্রতিফলন অর্জনের জন্য, বিমের সাথে মিথস্ক্রিয়া চলাকালীন প্লাজমা পৃষ্ঠকে সমতল থাকতে হবে। যেহেতু উচ্চ তীব্রতার আল্ট্রাফাস্ট লেজারগুলি প্লাজমা গঠনের জন্য প্রয়োজনীয় তীব্রতার তুলনায় অনেক বেশি তীব্রতায় পৌঁছায়-এবং প্রধান পালসের পূর্ববর্তী প্রপালসের সময় প্লাজমা গঠন এবং সম্প্রসারণ রোধ করার জন্য-লেজার টেম্পোরাল কনট্রাস্ট (প্রধান পালসের সাথে প্রপালসের তীব্রতার অনুপাত) কম মান বজায় রাখতে হবে, যাতে প্রপালসের তীব্রতা আয়নীকরণ সীমার নিচে থাকে। যেহেতু উচ্চ তীব্রতার আলো স্তরটিকে আয়নিত করে এবং প্রতিফলিত হয় কিন্তু কম তীব্রতার প্রিপালস, যা পরিবর্ধিত স্বতঃস্ফূর্ত নির্গমন দ্বারা উত্পন্ন হয় এবং সাধারণত অযাচিত, সঞ্চারিত হয়, তাই প্লাজমা আয়নাটি বিমের তীব্রতার বৈপরীত্য বাড়ানোর জন্য ব্যবহার করা যেতে পারে, যাকে স্ব-প্ররোচিত প্লাজমা শাটারিং বলা হয়। এই প্রভাবটি কার্যকর, কারণ অনেক লেজার-কঠিন পরীক্ষা-নিরীক্ষা তীব্র প্রপালসের উপস্থিতির দ্বারা বাধাগ্রস্ত হয়। কিছু সেটআপে, বৈসাদৃশ্য উন্নত করতে দুটি প্লাজমা আয়না ব্যবহার করা হয়। প্লাজমা আয়নাগুলি উচ্চ সুরেলা প্রজন্ম প্রদর্শন করে এবং অ্যাটোসেকেন্ড চরম অতি-বেগুনি ডাল তৈরি করতে ব্যবহৃত হয়। আরও প্রয়োগের মধ্যে রয়েছে ইলেক্ট্রন ত্বরণ এবং একটি স্থানিক পর্যায় প্লেট নকশা ব্যবহার করে হালকা কক্ষীয় কৌণিক ভরবেগ তৈরি করা। তথ্যসূত্র ফটোনিক্স প্লাজমা পদার্থবিজ্ঞান লেজার বিজ্ঞান