Polysilane
পলিসিলেন হল অর্গানোসিলিকন যৌগ যার সূত্র (R2Si) n। এগুলি ঐতিহ্যবাহী জৈব পলিমারের আত্মীয় তবে তাদের মেরুদণ্ড সিলিকন পরমাণু দ্বারা গঠিত। এগুলি স্বতন্ত্র আলোকীয় এবং বৈদ্যুতিক বৈশিষ্ট্য প্রদর্শন করে। এগুলি মূলত সিলিকন কার্বাইডের অগ্রদূত হিসাবে ব্যবহৃত হয়। সবচেয়ে সহজ পলিসিলেন হবে (সি. আই. এইচ2) এন, যা মূলত তাত্ত্বিক, ব্যবহারিক আগ্রহের নয়। প্রথম পলিসিলেন, পলি (ডাইমিথাইলসিলিলিন), [(সিএইচ3) 2সি] এক্স, 1949 সালে জেনারেল ইলেকট্রিকের চার্লস এ বুরখার্ড (1916-1991) দ্বারা রিপোর্ট করা হয়েছিল। এটি সোডিয়াম ধাতুকে ডাইমিথাইলডিক্লোরোসিলেন দিয়ে গরম করে প্রস্তুত করা হয়েছিলঃ (CH3) 2SiCl2 + 2 Na → [(CH3) 2Si] n + 2 NaCl ডাইক্লোরোসিলেনের পরিবর্তিত ওয়ার্টজ কাপলিং উচ্চ আণবিক ওজন, রৈখিক পলিসিলেন ডেরিভেটিভের একটি কার্যকর এবং সাধারণ পথ হিসাবে রয়ে গেছে। এই বিক্রিয়াটি ক্ষারীয় ধাতুর বিচ্ছুরণ ব্যবহার করে একটি নিষ্ক্রিয় দ্রাবকের উচ্চতর তাপমাত্রায় পরিচালিত হয়। অ্যালকোহল যোগ করার সাথে সাথে পলিমারাইজেশন বন্ধ হয়ে যায়। ওয়ার্টজ-টাইপ পলিমারাইজেশনের প্রধান সীমাবদ্ধতা হল যে বিকল্পগুলিকে অবশ্যই তীব্র প্রতিক্রিয়া পরিস্থিতি সহ্য করতে হবে। মিথাইল, বেনজিল এবং ফিনাইল প্রতিস্থাপনের জন্য প্রতিক্রিয়াটি ভাল কাজ করে। কঠোর পরিস্থিতিতে, পণ্যের ফলন কয়েক শতাংশ থেকে প্রায় 50 শতাংশ পর্যন্ত হয়। একইভাবে, পটাসিয়াম-গ্রাফাইট (কে. সি. 8) প্রচলিত ওয়ার্টজ সংযোগের জন্য প্রয়োজনীয় তাপমাত্রার তুলনায় অনেক কম তাপমাত্রায় ব্যবহার করা যেতে পারে। এই প্রতিক্রিয়া সাধারণত পণ্যগুলির একটি ত্রিমাত্রিক বন্টন তৈরি করেঃ একটি কম আণবিক ওজনের ভগ্নাংশ এবং দুটি উচ্চতর আণবিক ওজনের ভগ্নাংশ। কম আণবিক ওজনের ভগ্নাংশটি পাঁচটি এবং ছয়টি সদস্যের বলয় নিয়ে গঠিত, অর্থাৎ [সি. আর. 2] 5 এবং [সি. আর. 2] 6। এই বলয়গুলির গঠন পলিমারের বৃদ্ধির সঙ্গে প্রতিদ্বন্দ্বিতা করে। পলিসিলেনের সংশ্লেষণের আরেকটি পদ্ধতি হল সিলেনের ডিহাইড্রোজেনেটিভ কাপলিং। বৈশিষ্ট্য বুরখার্ড দ্বারা প্রাপ্ত পণ্যটি কাজ করা কঠিন ছিল কারণ এটি জৈব দ্রাবকগুলিতে অদ্রবণীয় ছিল। 1980-এর দশকের গোড়ার দিকে পলিসিলেনের প্রতি আগ্রহ পুনরায় শুরু হয় যখন জানা যায় যে [(CH3) 2Si] x-কে থার্মোলাইসিসের মাধ্যমে সিলিকন কার্বাইডে রূপান্তরিত করা যেতে পারে। পলিসিলেনগুলি অত্যন্ত স্ফটিক (এবং সাধারণত অদ্রবণীয়) থেকে শুরু করে নিরাকার পদার্থ পর্যন্ত বিস্তৃত, যা জৈব দ্রাবকগুলিতে বেশি দ্রবণীয়। প্রতিসাম্য হ্রাস এবং জৈব বিকল্পগুলির দৈর্ঘ্য বৃদ্ধি স্ফটিকত্বকে হ্রাস করে। অনেক পলিসিলেন রাবারি ইলাস্টোমার। অক্সিডাইজিং এজেন্ট (এসবিএফ5, আয়োডিন, এফইসিএল3, ফেরোসিনিয়াম) দিয়ে ডোপ করা হলে পলিমারগুলি অর্ধপরিবাহীতে পরিণত হয়। বেশিরভাগই প্রায় 300 ডিগ্রি সেলসিয়াস পর্যন্ত স্থিতিশীল এবং পলিসিলিকন হাইড্রাইডের বিপরীতে, স্বাভাবিক তাপমাত্রায় অক্সিজেনের জন্য নিষ্ক্রিয়। এগুলি সহজে হাইড্রোলাইজড হয় না। পলিসিলেনগুলি আলোকপরিবাহীতা প্রদর্শন করে, যদিও অতিবেগুনী আলোর সংস্পর্শে এলে তা হ্রাস পায়। উচ্চ-মাত্রিক পলিসিলিকন হাইড্রাইডের হাইড্রোজেন পরমাণুগুলিকে জৈব পার্শ্ব-গোষ্ঠীর সাথেও প্রতিস্থাপিত করা যেতে পারে যাতে এলোমেলো নেটওয়ার্ক অর্গানোসিলিকন পলিমার দেওয়া যায় তবে এগুলি পলিসিলিন বেস নাম ধরে রাখে, উদাহরণস্বরূপ, পলিমিথাইলসিলাইনের মতো। 29সি এন. এম. আর স্পেকট্রোস্কোপি একটি পলিমারের মাইক্রোস্ট্রাকচার সম্পর্কে অন্তর্দৃষ্টি প্রদান করে। যদি অনুরণনগুলি বিস্তৃত হয়, অলিগোমেরাইজেশন সম্ভবত হয়; যদি সেগুলি তীক্ষ্ণ হয়, তবে সিলিকন মেরুদণ্ডের কোনও ধরণের প্যাটার্ন অনুমান করা যেতে পারে। থার্মোলাইসিস থেকে সিলিকন কার্বাইড ইয়াজিমা এবং সহকর্মীরা আবিষ্কার করেছেন যে [মি2সি] এন-এর পাইরোলাইসিস সি. আই. সি তন্তু গঠনের দিকে পরিচালিত করে। এই রূপান্তরটি পলিসিলেন এবং তাদের ব্যুৎপত্তিগুলির উপর গবেষণার সূত্রপাত করেছে। প্রিসেরামিক পলিমার হিসাবে, পলিকার্বোসিলেনগুলি নিষ্ক্রিয় বায়ুমণ্ডলে পাইরোলাইসিসের মাধ্যমে ঘন সিলিকন কার্বাইড এবং সিলিকন অক্সিকার্বাইড তৈরি করতে ব্যবহার করা যেতে পারে। স্টেরিওলিথোগ্রাফিতে পরিবর্তিত পলিসিলেনের ফটোপলিমারাইজেশন এবং তারপরে সিরামাইজেশন সিরামিকের যোগাত্মক উৎপাদনের দিকে একটি উদীয়মান পথ। স্পেকট্রোস্কোপিক বৈশিষ্ট্য এবং ব্যান্ড কাঠামো পলিসিলেনগুলি σ-ডিলোকালাইজেশন প্রদর্শন করে। এই বৈশিষ্ট্যটি উদাহরণস্বরূপ, সি-সি সিগমা বন্ধনের তুলনায় সি-সি সিগমা বন্ধনে ইলেকট্রনের জন্য কম আয়নীকরণ শক্তি থেকে উদ্ভূত হয়। তদনুসারে, তীব্র σ-σ * বৈদ্যুতিন transitions.6 পলিসিলেনগুলি অতিবেগুনী আলোর উপস্থিতিতে অবনমিত হওয়ার কারণে তারা অতিবেগুনী অঞ্চলে (300-400 nm) দৃঢ়ভাবে শোষণ করে কারণ σ-σ * বৈদ্যুতিন রূপান্তরগুলিকে বন্ধন ভাঙ্গা হিসাবে বিবেচনা করা যেতে পারে, প্রায়শই কিছু প্রয়োগ বাদ দিয়ে। ডায়ালকিল পলিসিলেনের ব্যান্ড ফাঁক প্রায় 4.5 ই. ভি থাকে। প্রতিটি সিলিকোনে একটি অ্যারিল প্রতিস্থাপনের প্রবর্তন ব্যান্ড ফাঁককে প্রায় 3.5 ই. ভি-তে নামিয়ে আনে, যা একটি সীমান্তরেখা অর্ধপরিবাহী তৈরি করে। পলিসিলিন হল অর্গানোসিলিকন যৌগের একটি সম্পর্কিত শ্রেণী যার সূত্র (আরএসআই) এন (আর = অ্যালকাইল)। এগুলি পলিসিলেনের তুলনায় বেশি ক্রস লিঙ্কযুক্ত এবং কম অধ্যয়ন করা হয়েছে। আরও দেখুন পলিসিলিকন হ্যালাইড পলিসিলোক্সেন-সিলিকন পরমাণুর মধ্যে অক্সিজেন যুক্ত রেফারেন্স সিলানস অর্গানোসিলিকন পলিমার জৈব অর্ধপরিবাহী ইলাস্টোমার