positive: 玩家这么少,连英特尔的工艺都难产,7nm究竟为什么这么难呢?芯观察认为主要是以下几个原因:<br>工艺的精度已经趋近于传统光刻机的极限,极紫外光刻机还无法用于大规模量产<br>传统光刻机的波长为193nm,通过浸液的方式可以使波长进一步缩短,再加上多次曝光的辅助,已经走到了14nm。可是到了7nm,这种方法光刻出来的线条误差越来越大,越来越难以控制。我们可以通过下图对比传统光刻机和极紫外光刻机的实际效果图,可以看出,传统光刻的方法误差确实很大。这种情况下,想要良率满足要求是极为困难的。<br>线宽逼近极限带来的电阻电容增大变得不可忽视<br>我们知道同样材质的前提下,越细的导线电阻越大。因此当工艺进入7nm,线上电阻已经变得非常大,Intel不得已采用贵技术钌来解决这个问题。除此之外,由于FinFET的Fin越来越小,控制其流过的电流也越来越困难。因此,不得已采用了增加Fin的高度来增强控制,可是这样又带来晶体管的电容更大从而速度变慢。下图展示了不同工艺的晶体管的各种参数,可以看出随这工艺升级,Fin的宽高比越来越大。<br>EDA工具支持的支持尚不完善<br>虽然每代工艺都会遇到此类问题,但是14nm/7nm工艺恰逢EDA工具尤其是后端设计工具更新换代,两个主流软件厂商均发布了所谓的次世代EDA工具。各种引擎的升级导致工具的bug数直线上升,而工艺带来的的挑战需要工具不断升级并增加性的功能,助长了工具开发和使用方面的挑战。<br>设计上的难度大幅增加<br>各个芯片设计公司希望通过工艺升级获得更高的性能,更低的功耗和更小的芯片面积。可是7nm在设计方面提出了更高的挑战。为了满足工艺厂商的生产规则,在设计阶段增加了大量的硬性规则,给芯片设计尤其是后端设计增加的很大难度。比如使用金属层上,对于底层金属,几乎是只能按照特定的pattern和方向使用,变通性大大降低。
negative: <img><br>云南省位于中国西南部,辖16个地州市,共与三个国家接壤,与缅甸接壤的州市是怒江保山德宏临沧普洱西双版纳与老挝接壤的州市是普洱西双版纳与越南接壤的是红河文山其中普洱同时与缅老越三国接壤西双版纳同时与缅甸和老挝接壤,版纳与老挝接壤,红河州与越南接壤,人口4640万,国土面积39.4万平方公里。