烯烃复分解反应
常用的催化剂都为卡宾配合物，格拉布催化剂含钌，施罗克催化剂含钼或钨。它们也可催化炔烃复分解反应及相关的聚合反应。
电子束诱导沉积
截至2008年，可用电子束诱导沉积的材料包括Al、Au、无定形碳、钻石、Co、Cr、Cu、Fe、GaAs、GaN、Ge、Mo、Nb、Ni、Os、Pd、Pt、Rh、Ru、Re、Si、SiN、SiO、TiO和W，且还在继续发展。最常用的前体是 Me(CO) 结构的金属羰基配合物或茂金属：虽然它们易于制备，但是由于 CO 配体中的碳原子较多，导致沉积的目标金属含量较低。金属卤化物（例如WF）作为前体的沉积较 Me(CO) 更为干净，但由于它们一般有毒且有腐蚀性，导致沉积的过程较难掌握。化合物的沉积一般会用到一些特别的工艺与气体，例如用 DGaN 来沉积 GaN。 离子束诱导沉积（Ion beam-induced deposition，IBID）与电子束诱导沉积极为类似，只是将电子束替换为离子束（常用30 keV Ga）。两种技术都是借助二次电子来进行沉积。相比于电子束诱导沉积，离子束诱导沉积的沉积速率较快，且沉积纯度较高。然而，离子束诱导沉积有如下缺陷：