لیتوگرافی اشعه ایکس
لیتوگرافی اشعه ایکس بعنوان کاندید برای لیتوگرافی نسل بعدی برای صنعت نیمه هادی ها با دسته هایی از ریزپردازنده ها با موفقیت معرفی شده است. داشتن طول موج کوتاه (زیر 1 نانومتر) اشعه ایکس، بر محدودیت‌های پراش لیتوگرافی نوری غلبه میکند و امکان ایجاد اندازه‌های کوچک‌تر را فراهم میکند. اگر منبع اشعه ایکس همسو و هم جهت نباشد، مانند تابش سنکروترون، از آینه‌های تقلیل‌دهنده اولیه یا عدسی‌های پراش به جای عدسی‌های انکساری مورد استفاده در اپتیک استفاده می‌شود تا اشعه ها را متمرکز تر و با بازدهی بیشتر ساتع نماید. اشعه ایکس ماسکی را که در مجاورت یک ویفر با پوشش مقاوم قرار داده شده است، روشن می نماید. پرتوهای اشعه ایکس دارای باندی پهن میباشند، که معمولاً از یک منبع تشعشع سنکروترون فشرده و امکان قرار گرفتن در معرض سریع را فراهم میکنند. لیتوگرافی اشعه ایکس عمیق (DXRL) از طول موج های کوتاه تر مثلا در حد 0.1 نانومتر و روش های اصلاح شده مانند فرآیند (LIGA) برای ساخت ساختارهای عمیق و حتی بعضا سه بعدی استفاده می کند.
رصدخانه موج گرانشی با تداخل‌سنج لیزری
هر آشکارساز به شکل یک L خیلی بزرگ است، با دو بازو به طول ۴ کیلومتر.نور لیزر درون هر بازو به طور مرتب بازتاب می‌شود. یک ساعت اتمی بسیار دقیق، مدت زمانی که طول می‌کشد نور به انتهای بازو برود و برگردد را اندازه می‌گیرد. در حالت عادی، هر دو بازو به یک طول هستند، و بنابراین نور یک زمان مشخص طول می‌کشد که از آنها عبور کند. به همین دلیل، زمانی که دو پرتو از بازوها بازتاب می‌شوند، یک شکل یکسان دارند و می‌توان آنها را روی هم انداخت تا هم دیگر را خنثی کنند (تداخل ویرانگر). اگر یک موج گرانشی از میان آن عبور کند، هر چند طول بازوها تغییر می‌کند، اما این موج در یک جهت است و بنابراین، بازوها دیگر طول برابر ندارند.