لیتوگرافی اشعه ایکس
لیتوگرافی اشعه ایکس بعنوان کاندید برای لیتوگرافی نسل بعدی برای صنعت نیمه هادی ها با دسته هایی از ریزپردازنده ها با موفقیت معرفی شده است. داشتن طول موج کوتاه (زیر 1 نانومتر) اشعه ایکس، بر محدودیت‌های پراش لیتوگرافی نوری غلبه میکند و امکان ایجاد اندازه‌های کوچک‌تر را فراهم میکند. اگر منبع اشعه ایکس همسو و هم جهت نباشد، مانند تابش سنکروترون، از آینه‌های تقلیل‌دهنده اولیه یا عدسی‌های پراش به جای عدسی‌های انکساری مورد استفاده در اپتیک استفاده می‌شود تا اشعه ها را متمرکز تر و با بازدهی بیشتر ساتع نماید. اشعه ایکس ماسکی را که در مجاورت یک ویفر با پوشش مقاوم قرار داده شده است، روشن می نماید. پرتوهای اشعه ایکس دارای باندی پهن میباشند، که معمولاً از یک منبع تشعشع سنکروترون فشرده و امکان قرار گرفتن در معرض سریع را فراهم میکنند. لیتوگرافی اشعه ایکس عمیق (DXRL) از طول موج های کوتاه تر مثلا در حد 0.1 نانومتر و روش های اصلاح شده مانند فرآیند (LIGA) برای ساخت ساختارهای عمیق و حتی بعضا سه بعدی استفاده می کند.
فهرست تلسکوپ‌های فضایی
این تلسکوپ‌ها فوتون‌های دارای انرژی بالا موسوم به اشعه ایکس را اندازه‌گیری می‌کنند. چون اشعه ایکس، نمی‌تواند مسافت‌های طولانی را درون جو زمین طی کند، به‌همین علت، تنها می‌توان آن را در بخش‌های بالایی یا در خارج از جو مشاهده کرد. چندین نوع جسم نجومی از خود اشعه ایکس منتشر می‌کنند، از خوشه‌های کهکشان و سیاه‌چاله‌های موجود در هسته‌های کهکشانی فعال گرفته تا اجسام کهکشانی مانند بقایای ابرنواختر، ستاره‌ها و ستارهای دوتایی حاوی یک کوتوله سفید (ستاره‌های متغیر انفجاری)، ستاره نوترونی یا سیاه چاله (دوتایی اشعه ایکس). برخی از اجسام منظومه شمسی، از خود اشعه ایکس ساطع می‌کنند که قابل توجه‌ترین آنها ماه است، با این‌حال بیشتر تابش اشعه ایکس ناشی از ماه، در واقع بازتاب اشعه ایکس خورشیدی است. تصور می‌شود ترکیبی از بسیاری از منابع اشعه ایکس شناخته نشده، عامل ایجاد "اشعه ایکس پس زمینه" است.