لیتوگرافی اشعه ایکس
لیتوگرافی اشعه ایکس بعنوان کاندید برای لیتوگرافی نسل بعدی برای صنعت نیمه هادی ها با دسته هایی از ریزپردازنده ها با موفقیت معرفی شده است. داشتن طول موج کوتاه (زیر 1 نانومتر) اشعه ایکس، بر محدودیت‌های پراش لیتوگرافی نوری غلبه میکند و امکان ایجاد اندازه‌های کوچک‌تر را فراهم میکند. اگر منبع اشعه ایکس همسو و هم جهت نباشد، مانند تابش سنکروترون، از آینه‌های تقلیل‌دهنده اولیه یا عدسی‌های پراش به جای عدسی‌های انکساری مورد استفاده در اپتیک استفاده می‌شود تا اشعه ها را متمرکز تر و با بازدهی بیشتر ساتع نماید. اشعه ایکس ماسکی را که در مجاورت یک ویفر با پوشش مقاوم قرار داده شده است، روشن می نماید. پرتوهای اشعه ایکس دارای باندی پهن میباشند، که معمولاً از یک منبع تشعشع سنکروترون فشرده و امکان قرار گرفتن در معرض سریع را فراهم میکنند. لیتوگرافی اشعه ایکس عمیق (DXRL) از طول موج های کوتاه تر مثلا در حد 0.1 نانومتر و روش های اصلاح شده مانند فرآیند (LIGA) برای ساخت ساختارهای عمیق و حتی بعضا سه بعدی استفاده می کند.
انبرک نوری
در ابتدا وقتی RNA را توسط دسته‌ها کشیده می‌شوند، نیرو به آرامی متناسب با طول RNA افزایش می‌یابد، کاملاً به شکل نیروی فنر. این منحنی در شکل زیر دیده می‌شود. اما در نیروی ۱۴٫۵ پیکونیوتن یک ناپیوستگی ناگهانی در نمودار نیرو برحسب طول مشاهده می‌شود. تغییرات طول در این پدیده (۲۰ نانومتر) مطابق با طول پیش‌بینی شدهٔ بخش‌های گره‌مو مانند RNA می‌باشد. بدین شکل می‌توان تخمینی از ابعاد هر ساختار در RNA بدست آورد که روشی بسیار خلاقانه و زیبا می‌باشد. معمولاً در دیدگاه فیزیکی، این پدیده را با یک سیستم دو حالته مدل‌سازی می‌کنند. در پراکندگی ریلی ابعاد ذرات خیلی کوچکتر از طول موج نور است، که این پراکندگی در اتمسفر منجر به آبی و قرمز دیده شدن رنگ آسمان می‌شود که ناشی از جدایی طول موج‌های مختلف نور پس از پراکندگی است. در پراکندگی می ابعاد ذرات بزرگتر از طول موج نور است، رنگ سفید ابرها نیز ناشی از این پدیده است. آشکین پیشنهاد داد که می‌توان با در نظر گرفتن دو دیدگاه به تحلیل این تئوری پرداخت: دیدگاه اپتیک هندسی برای پراکندگی می، و دیدگاه دوقطبی الکتریکی برای پراکندگی ریلی.