لیتوگرافی اشعه ایکس
لیتوگرافی اشعه ایکس بعنوان کاندید برای لیتوگرافی نسل بعدی برای صنعت نیمه هادی ها با دسته هایی از ریزپردازنده ها با موفقیت معرفی شده است. داشتن طول موج کوتاه (زیر 1 نانومتر) اشعه ایکس، بر محدودیت‌های پراش لیتوگرافی نوری غلبه میکند و امکان ایجاد اندازه‌های کوچک‌تر را فراهم میکند. اگر منبع اشعه ایکس همسو و هم جهت نباشد، مانند تابش سنکروترون، از آینه‌های تقلیل‌دهنده اولیه یا عدسی‌های پراش به جای عدسی‌های انکساری مورد استفاده در اپتیک استفاده می‌شود تا اشعه ها را متمرکز تر و با بازدهی بیشتر ساتع نماید. اشعه ایکس ماسکی را که در مجاورت یک ویفر با پوشش مقاوم قرار داده شده است، روشن می نماید. پرتوهای اشعه ایکس دارای باندی پهن میباشند، که معمولاً از یک منبع تشعشع سنکروترون فشرده و امکان قرار گرفتن در معرض سریع را فراهم میکنند. لیتوگرافی اشعه ایکس عمیق (DXRL) از طول موج های کوتاه تر مثلا در حد 0.1 نانومتر و روش های اصلاح شده مانند فرآیند (LIGA) برای ساخت ساختارهای عمیق و حتی بعضا سه بعدی استفاده می کند.
پرتونگاری پانورامیک
تجهیزات پرتونگاری پانورامیک دندان پزشکی، متشکل از دو بخش است که عبارتند از بازوی افقی چرخانِ نگه دارندهٔ منبع اشعهٔ ایکس و مکانیزم فیلم متحرکی که برعکس یکدیگر قرار گرفته‌اند. جمجمهٔ بیمار در بین مولد اشعهٔ ایکس و فیلم قرار می‌گیرد. منبع اشعهٔ ایکس نیز به موازات فیلم تعبیه می‌شود تا پرتوها پس از عبور از جمجمهٔ بیمار و به هنگام رسیدن به فیلم، شکلی به مانند تیغه‌ای عمودی با پهنای ۴–۷ داشته باشند. البته ارتفاع پرتوها، بخش‌های فک بالایی و پایینی را نیز دربر می‌گیرد. بازو نیز حرکت می‌کند و احتمال دارد که این حرکت به صورت چرخش دور محورِ لحظه ایِ پیش رو در مسیری اختصاصی، تعریف شود.