لیتوگرافی اشعه ایکس
لیتوگرافی اشعه ایکس بعنوان کاندید برای لیتوگرافی نسل بعدی برای صنعت نیمه هادی ها با دسته هایی از ریزپردازنده ها با موفقیت معرفی شده است. داشتن طول موج کوتاه (زیر 1 نانومتر) اشعه ایکس، بر محدودیت‌های پراش لیتوگرافی نوری غلبه میکند و امکان ایجاد اندازه‌های کوچک‌تر را فراهم میکند. اگر منبع اشعه ایکس همسو و هم جهت نباشد، مانند تابش سنکروترون، از آینه‌های تقلیل‌دهنده اولیه یا عدسی‌های پراش به جای عدسی‌های انکساری مورد استفاده در اپتیک استفاده می‌شود تا اشعه ها را متمرکز تر و با بازدهی بیشتر ساتع نماید. اشعه ایکس ماسکی را که در مجاورت یک ویفر با پوشش مقاوم قرار داده شده است، روشن می نماید. پرتوهای اشعه ایکس دارای باندی پهن میباشند، که معمولاً از یک منبع تشعشع سنکروترون فشرده و امکان قرار گرفتن در معرض سریع را فراهم میکنند. لیتوگرافی اشعه ایکس عمیق (DXRL) از طول موج های کوتاه تر مثلا در حد 0.1 نانومتر و روش های اصلاح شده مانند فرآیند (LIGA) برای ساخت ساختارهای عمیق و حتی بعضا سه بعدی استفاده می کند.
بسامد
نور مرئی یک موج الکترومغناطیس است، که شامل میدان‌های الکتریکی و مغناطیسی است که در فضا حرکت می‌کنند. فرکانس موج تعیین‌کننده رنگ آن است: 400 THz یا  Hz برابر نور قرمز و 800 THz یا () برابر نور بنفش است، و بین این‌ها (در محدوده 400–800 THz) همه رنگ‌های دیگر طیف مرئی قرار دارد. یک موج الکترومغناطیسی با فرکانس کمتر از برای چشم انسان غیرقابل مرئی است؛ به این موج‌ها تابش فروسرخ (IR) گفته می‌شود. در فرکانس‌های کمتر، به این موج ریزموج گفته می‌شود، و در فرکانس‌های هنوز کمتر به آن موج رادیویی گفته می‌شود. به صورت مشابه، امواج الکترومغناطیسی با فرکانس بالاتر از نیز برای چشم انسان غیرمرئی است؛ به این موج‌ها تابش فرابنفش (UV) گفته می‌شود. موج‌های با فرکانس بالاتر پرتو ایکس نام دارند، و هنوز بالاتر پرتو گاما هستند.