لیتوگرافی اشعه ایکس
لیتوگرافی اشعه ایکس بعنوان کاندید برای لیتوگرافی نسل بعدی برای صنعت نیمه هادی ها با دسته هایی از ریزپردازنده ها با موفقیت معرفی شده است. داشتن طول موج کوتاه (زیر 1 نانومتر) اشعه ایکس، بر محدودیت‌های پراش لیتوگرافی نوری غلبه میکند و امکان ایجاد اندازه‌های کوچک‌تر را فراهم میکند. اگر منبع اشعه ایکس همسو و هم جهت نباشد، مانند تابش سنکروترون، از آینه‌های تقلیل‌دهنده اولیه یا عدسی‌های پراش به جای عدسی‌های انکساری مورد استفاده در اپتیک استفاده می‌شود تا اشعه ها را متمرکز تر و با بازدهی بیشتر ساتع نماید. اشعه ایکس ماسکی را که در مجاورت یک ویفر با پوشش مقاوم قرار داده شده است، روشن می نماید. پرتوهای اشعه ایکس دارای باندی پهن میباشند، که معمولاً از یک منبع تشعشع سنکروترون فشرده و امکان قرار گرفتن در معرض سریع را فراهم میکنند. لیتوگرافی اشعه ایکس عمیق (DXRL) از طول موج های کوتاه تر مثلا در حد 0.1 نانومتر و روش های اصلاح شده مانند فرآیند (LIGA) برای ساخت ساختارهای عمیق و حتی بعضا سه بعدی استفاده می کند.
لیدار
لیزر یک راه حل برای این مشکل فراهم کرده‌است، چگالی پرتو و همدوسی (Coherency) آن بسیار عالی است. به علاوه طول موج‌ها خیلی کوچک‌تر از آن است که به وسیلهٔ سیستم‌های رادیویی قابل دستیابی باشد، در محدودهٔ mm۱۰ تا فرابنفش (۲۵۰nm). امواج در چنین طول موجی، از اجسام کوچک به خوبی بازتابیده می‌شوند. این نوع بازتاب، پخش معکوس امواج رادیویی نامیده می‌شود. انواع مختلف پراکندگی برای کاربردهای مختلف لایدار استفاده می‌شود؛ که معمول آن، تفرق عادی تابش‌ها Raman scattering; mie scattering هم چنین فلوئورسنت است. با توجه به انواع مختلف پخش معکوس امواج رادیویی، لایدار را می‌توان Lidar mie یا Lidar Rayling و raman Lidar و Nalfelk فلوئورسنت لایدار نامید. طول موج‌ها برای اندازه‌گیری دود، مه، و بقیه ذرات هوایی مناسب و ایده‌آل هستند.