لیتوگرافی اشعه ایکس
لیتوگرافی اشعه ایکس بعنوان کاندید برای لیتوگرافی نسل بعدی برای صنعت نیمه هادی ها با دسته هایی از ریزپردازنده ها با موفقیت معرفی شده است. داشتن طول موج کوتاه (زیر 1 نانومتر) اشعه ایکس، بر محدودیت‌های پراش لیتوگرافی نوری غلبه میکند و امکان ایجاد اندازه‌های کوچک‌تر را فراهم میکند. اگر منبع اشعه ایکس همسو و هم جهت نباشد، مانند تابش سنکروترون، از آینه‌های تقلیل‌دهنده اولیه یا عدسی‌های پراش به جای عدسی‌های انکساری مورد استفاده در اپتیک استفاده می‌شود تا اشعه ها را متمرکز تر و با بازدهی بیشتر ساتع نماید. اشعه ایکس ماسکی را که در مجاورت یک ویفر با پوشش مقاوم قرار داده شده است، روشن می نماید. پرتوهای اشعه ایکس دارای باندی پهن میباشند، که معمولاً از یک منبع تشعشع سنکروترون فشرده و امکان قرار گرفتن در معرض سریع را فراهم میکنند. لیتوگرافی اشعه ایکس عمیق (DXRL) از طول موج های کوتاه تر مثلا در حد 0.1 نانومتر و روش های اصلاح شده مانند فرآیند (LIGA) برای ساخت ساختارهای عمیق و حتی بعضا سه بعدی استفاده می کند.
دمای رنگ
تأثیر طول‌ موج‌های مختلف مرئی هم بر میزان بینایی انسان یکسان نیست و طول‌ موج‌های ناحیه زرد-سبز بیشترین و طول‌ موج‌های ناحیه قرمز-آبی کمترین اثر را بر بینایی دارد (قیابکلو، ۴٬۱۳۸۷). بنابراین کاهش عبور نور مریی باید آگاهانه و با توجه به منحنی حساسیت چشم انسان صورت گیرد (قیابکلو، ۲٬۱۳۸۷). شبکیه چشم انسان دارای دو نوع سلول استوانه‌ای و مخروطی است. سلول‌های مخروطی وظیفه شناسایی رنگ‌ها رو به عهده دارند که خود شامل سه نوع هستند که هر دسته از آنها به یکی از رنگ‌های پایه قرمز R، سبز G و آبی B حساس می‌باشند.