لیتوگرافی اشعه ایکس
لیتوگرافی اشعه ایکس بعنوان کاندید برای لیتوگرافی نسل بعدی برای صنعت نیمه هادی ها با دسته هایی از ریزپردازنده ها با موفقیت معرفی شده است. داشتن طول موج کوتاه (زیر 1 نانومتر) اشعه ایکس، بر محدودیت‌های پراش لیتوگرافی نوری غلبه میکند و امکان ایجاد اندازه‌های کوچک‌تر را فراهم میکند. اگر منبع اشعه ایکس همسو و هم جهت نباشد، مانند تابش سنکروترون، از آینه‌های تقلیل‌دهنده اولیه یا عدسی‌های پراش به جای عدسی‌های انکساری مورد استفاده در اپتیک استفاده می‌شود تا اشعه ها را متمرکز تر و با بازدهی بیشتر ساتع نماید. اشعه ایکس ماسکی را که در مجاورت یک ویفر با پوشش مقاوم قرار داده شده است، روشن می نماید. پرتوهای اشعه ایکس دارای باندی پهن میباشند، که معمولاً از یک منبع تشعشع سنکروترون فشرده و امکان قرار گرفتن در معرض سریع را فراهم میکنند. لیتوگرافی اشعه ایکس عمیق (DXRL) از طول موج های کوتاه تر مثلا در حد 0.1 نانومتر و روش های اصلاح شده مانند فرآیند (LIGA) برای ساخت ساختارهای عمیق و حتی بعضا سه بعدی استفاده می کند.
شعاع اتمی
شعاع اتمی یک عنصر شیمیایی معیاری برای اندازه‌گیری اندازهٔ اتم است که عموماً فاصلهٔ میانگین هسته تا مرز ابر الکترونی در نظر گرفته می‌شود. الکترون‌ها در محدوده‌هایی حرکت می‌کنند که شبیه ابر به نظر می‌رسد. همین نشان دهندهٔ دشواری اندازه‌گیری شعاع اتمی خواهد بود، زیرا این مرز مشخص نیست. از این رو تعاریف متفاوتی از شعاع اتمی وجود دارد که سه مورد پراستفادهٔ آن عبارتند از شعاع واندروالسی، شعاع یونی و شعاع کووالانسی. بسته به تعریف، این عبارت می‌تواند در مورد اتم‌های منفرد، اتم‌های مادهٔ چگال، مولکول‌های دارای پیوند کووالانسی، مولکول‌های یونیذه شده یا برانگیخته بکار رود و اندازهٔ آن می‌تواند به‌طور تجربی اندازه‌گیری شود یا توسط مدل‌های نظری محاسبه شود. طبق بیشتر تعاریف شعاع اتمی بین ۳۰ تا ۳۰۰ پیکومتر (۰/۳ تا ۳ آنگستروم) است. این بدین معنی‌ست که شعاع اتم بیش از ۱۰هزار برابر بزرگتر از هسته اتم (۱ تا ۱۰ فمتومتر) و ۱۰۰۰ برابر کوچکتر از طول موج نور مرئی (۴۰۰ تا ۷۰۰ نانومتر) است.