لیتوگرافی اشعه ایکس
لیتوگرافی اشعه ایکس بعنوان کاندید برای لیتوگرافی نسل بعدی برای صنعت نیمه هادی ها با دسته هایی از ریزپردازنده ها با موفقیت معرفی شده است. داشتن طول موج کوتاه (زیر 1 نانومتر) اشعه ایکس، بر محدودیت‌های پراش لیتوگرافی نوری غلبه میکند و امکان ایجاد اندازه‌های کوچک‌تر را فراهم میکند. اگر منبع اشعه ایکس همسو و هم جهت نباشد، مانند تابش سنکروترون، از آینه‌های تقلیل‌دهنده اولیه یا عدسی‌های پراش به جای عدسی‌های انکساری مورد استفاده در اپتیک استفاده می‌شود تا اشعه ها را متمرکز تر و با بازدهی بیشتر ساتع نماید. اشعه ایکس ماسکی را که در مجاورت یک ویفر با پوشش مقاوم قرار داده شده است، روشن می نماید. پرتوهای اشعه ایکس دارای باندی پهن میباشند، که معمولاً از یک منبع تشعشع سنکروترون فشرده و امکان قرار گرفتن در معرض سریع را فراهم میکنند. لیتوگرافی اشعه ایکس عمیق (DXRL) از طول موج های کوتاه تر مثلا در حد 0.1 نانومتر و روش های اصلاح شده مانند فرآیند (LIGA) برای ساخت ساختارهای عمیق و حتی بعضا سه بعدی استفاده می کند.
رادیوجراحی
شتاب‌دهنده‌های خطی اشعه ایکس با طبف پرانرژی تولید می‌کنند. از این فرایند معمولاً به عنوان «ایکس تراپی» یا «فوتون درمانی» یاد می‌شود. اصطلاح «اشعه گاما» معمولاً دربارهٔ فوتونهایی است که از رادیوایزوتوپ‌هایی مانند کبالت ۶۰ ساطع می‌شوند. چنین اشعه ای با اشعه‌های تولید شده از شتاب‌دهنده‌های ولتاژ بالا فرقی در ماهیت ندارد. در درمان مبتنی بر شتاب‌دهنده خطی سر ساطع کننده اشعه به‌طور مکانیکی به دور بیمار، در یک دایره کامل یا جزئی می‌چرخد. میزی که بیمار در آن دراز کشیده‌است، نیز می‌تواند با حرکات کوچک خطی یا زاویه ای حرکت کند و درمان صورت گیرد.