src: The bi-layer deposits can be produced directly on the metal surface obtained according to the invention, but it is also possible to use as the first layer of the said bi-layer deposit the anodic barrier layer or porous layer with a very fine structure obtained during the micropolishing treatment, the second layer being a transparent dielectric oxide with a refractive index in general greater than 2.
tgt: Les dépôts bicouches peuvent être effectués directement sur la surface métallique obtenue selon l'invention, mais on peut également utiliser comme première couche dudit dépôt bicouche la couche anodique barrière ou poreuse à structure très fine obtenue lors du traitement de micropolissage, la seconde couche étant un oxyde diélectrique transparent d'indice de réfraction en général supérieur à 2.