대기압 하에서 AFM으로 표면 형태와 평균제곱근 RMS 거칠기를 관찰했습니다. 음의 바이어스 전압 Vb의 함수에 따른 증착 속도의 변화. Vb에서 증착된 하프늄 질화물HfN 필름의 오거 전자 분광 깊이 프로파일....

The surface morphology and root mean square RMS roughness were observed with AFM under atmospheric pressure. Variation of deposition rate as a function of the negative bias voltage Vb. Auger electron spectroscopy depth profiles of hafnium nitrideHfN films deposited at Vb..