이는 리소그래피 공정 자체에서 디포커스로 인해 발생할 수 있으며, 위에서 설명한 EUV 또는 SAQP 옵션 모두에 해당합니다. EUV의 경우, 광원 포인트가 다르면 다른 효과가 발생할 수 있습니다 그림. 이는 확률적 감도에 의해 다시 악화됩니다.

This can occur in the lithography process itself, due to defocus, for either the EUV or SAQP options described above. For the EUV case, the different illumination source points can produce different effects Figure. This is again aggravated by stochastic sensitivity.