韓晶片廠華籍前員工 涉洩密被捕
【本報綜合報道】南韓晶片巨頭SK海力士一名中國籍前女員工上月入境南韓後在機場被捕，她涉嫌向中國電訊設備製造商華為洩露有關降低晶片不良率的核心技術資料。她現已被檢方起訴，案件由水原地方法院驪州分院審理。
跳槽華為前印3000張資料
京畿南部警察廳產業技術安全偵查隊昨天表示，涉案女子30多歲，涉嫌違反《防止產業技術洩露及保護法》，上月底被逮捕送檢。她於2013年入職SK海力士，之後一直在負責分析晶片不良的部門工作，2020年至前年在中國分公司擔任組長，負責企業交易客戶洽談，至前年6月她返韓後立即跳槽到華為。
涉案女子離職前曾用3,000多張A4紙打印出涉及核心半導體工序問題解決方案的資料，SK海力士禁止員工使用USB儲存裝置等，並對打印內容、打印人、文件用途等訊息詳細記錄和管理。該女子雖留下打印文件紀錄，但SK海力士未掌握其用途。警方接到該公司報案後調查，認為該女子將打印的資料分批轉移至外部，但她對相關嫌疑矢口否認。