【時報編譯張朝欽綜合外電報導】據韓媒《The Elec》報導，英特爾已獲得艾司摩爾(ASML)正在製造的大部分極紫外光EUV設備，直至明年上半年。
消息人士稱，ASML今年將生產5套EUV設備，這些設備將全部交給英特爾。
他們還表示，由於ASML高數值孔徑EUV設備的產能約為每年5至6台，這意指英特爾將獲得所有的初始庫存。
此外消息人士預計，三星和SK海力士將在明年下半某個時候才能獲得該設備。
他們還說，英特爾在宣佈重新進入晶片代工業務時，已搶先購買了這些設備。
ASML的高NA EUV設備是晶片製造商製造2奈米製程晶片的必備設備。NA代表數值孔徑，表示光學系統收集和聚焦光線的能力，數值越大，越有利於聚集光。高數值孔徑EUV設備的NA從0.33提高到0.55，意指該設備可以繪製更精細的電路圖案。
為贏得客戶，英特爾正以更快的速度採用高NA EUV設備。