реклама
Компания Intel Foundry объявила о завершении сборки первой в отрасли коммерческой литографической машины High-NA EUV (High Numerical Aperture Extreme Ultraviolet) на своем заводе D1X в США. Эти машины, изготовленные компанией ASML, будут использоваться для подготовки к исследованиям и разработке технологического процесса Intel 14A в 2025 году. Машины High-NA EUV лежат в основе планов Intel обогнать своих конкурентов в области полупроводниковых технологий (как в производстве, так и в производительности).
Intel стала первой компанией в отрасли, которая приобрела и установила оборудование ASML для EUV-литографии, то есть для производства чипов, в соответствии со своими целями. В этом контексте можно сказать, что Intel опередила своих основных конкурентов TSMC и Samsung в области исследований и разработок. Инструмент для литографии High-NA позволит Intel печатать чипы в 1,7 раза меньше, чем это возможно с помощью существующих инструментов EUV. С помощью этих машин Intel сможет увеличить плотность транзисторов в 2,9 раза по сравнению со стандартными и существующими EUV-машинами Low-NA.
реклама
Intel потратила почти десятилетие на разработку технологии литографии первого поколения Low-NA, но решила не использовать ее для 10-нм техпроцесса из-за соображений стоимости и, возможно, из-за ее превосходства в то время. В результате Intel столкнулась с многочисленными проблемами выхода продукции и пятилетней задержкой 10-нм техпроцесса. Именно по этой причине компания так долго держалась за 14-нм техпроцесс. Кстати, эффективность не относится напрямую к энергопотреблению процессоров.
Воспользовавшись слабостью Intel, TSMC предоставила конкурентам, таким как AMD, более совершенные технологические процессы, что позволило расширить игровое поле и повысить эффективность на архитектурном уровне. Несмотря на то, что Intel в конечном итоге перешла на технологию EUV в "Intel 4", она все еще отстает от TSMC на несколько поколений. Однако, компания намерена перейти на пять производственных процессов в течение четырех лет.
Основной целью Intel является разработка техпроцесса Intel 14A (класс 1,4 нм) и следующего за ним техпроцесса Intel 10A (1 нм) с системами High-NA EUV. В этом контексте компания снизит риск, заложив основы технологии с 18A в 2025 году, а затем перейдет на 14A.