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スパープレーンの表面に垂直に垂直方向の磁場Bの磁場Bの方向に一定の速度Vで導入される正方形のらせんの電気機械力を計算する方法は？
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磁場で移動する球体内の誘導電気動態は、ループを介した磁束の変化速度に比例します。球面の表面に垂直な方向の磁場Bの側面の1つの方向に一定の速度で移動する四角いループの場合、電気動態は次のように計算できます。

ループを介して磁束を計算します。
球体を通る磁束は、磁場Bの産物とスパラの領域として定義されます。四角のスパイラルの場合Lがある場合、スパイラルの面積はa = l^2です。 。したがって、球体を通る磁気流はφ= b*l^2です。

磁束の変化率を計算します。
球体が動いているため、それを通る磁気流が時間とともに変化していることを意味します。磁束の変化速度は、時間に対する磁束の誘導体に等しく、次のように記述できます。

dφ/dt = d（bl^2）/dt = b（dl^2/dt）= 2bl（dl/dt）

スパイラル速度が一定であるため、磁束変化率は一定であり、次のように書くことができます。

dφ/dt = 2blv

誘導された電気動力を計算します：
誘導された電気駆動力は、球体を通る磁束の変化速度として定義されます。したがって、正方形のスパイラルの誘導電気駆動力は、次のように計算できます。
EMF =-Dφ/DT = -2BLV

ネガティブな符号は、誘導された電気的な力が磁場での宇宙の動きの方向に反対していることを示しています。

したがって、正方形のスパイラルの電気機械力（F）は、ファラデーの法律とレンツの法則を使用して計算できます。

f = emf/i

ここで、私はループで誘導されている現在です。ループが外部回路に接続されている場合、電流はそれを通過することができ、オームの法則を使用して電気機械力を計算できます。