Techniken zur Mehrfachstrukturierung haben sich bewährt, dennoch wird zukünftig aufgrund der extrem kurzen Wellenlänge des Lichts in EUV-Systemen wahrscheinlich die Verwendung von EUV-Lithographie notwendig sein. ###>Multi-patterning techniques have their place, but the future will likely require the use of EUV lithography due to the extremely short wavelength of light EUV systems deliver.