(ア)原告は，タクシーの台数を規制することは，安全性の確保，運転者の待遇改善，サービスの向上のいずれとも合理的な関連性がなく，経済学的にみると，タクシーの台数を一律に削減するような規制は合理的な根拠を欠くものであり，特措法が予定しているものではない旨主張する。収支計画要件は，安易な供給拡大を抑制するための規制ではあっても，タクシーの台数を一律に削減する規制でないことは明らかであるところ，この点をおくとしても，Ｑ意見書（甲３７・１１，１２，１４頁）によれば，交通事故の防止のためには，台数制限という経済的な規制を行うよりも，より適切な手段として，道路交通法，道路運送車両法など
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の社会的規制により，安全基準を策定し，監査により安全基準を遵守させる事後チェック型の規制が重要であること，運転者の労働条件の悪化は歩合制が原因であり，台数規制をしても運転者の所得水準が上昇するかどうかは不明であり，タクシーの台数規制は，安全性の確保・運転者の待遇改善・サービスの向上という目的のいずれとも合理的な関連性がないという意見が述べられていることが認められる。
しかしながら，前記１(9)のとおり，平成１２年改正により規制緩和がされた後も平成１７年までは交通事故の発生件数が増加していたことが認められるから，供給過剰の状態と交通事故の発生件数との間に直ちに合理的な関連性がないということまではできず，Ｑ意見書で述べられているとおり，交通事故の発生防止や運転者の労働条件悪化の防止，サービスの向上という観点からみて，他にも経済学的にみて合理的な手段が存在するとしても，そのことから直ちに，安易な供給拡大の抑制のために収支計画要件を定めることが，処分行政庁に認められた裁量権の範囲の逸脱又は濫用になるとはいえないというべきである。(イ)原告は，措置実施公示においては，増車した事業者に対する監査，行政指導を強化し，減車した事業者に対する監査や行政指導を緩和する特例を設けており，地域協議会の下，事業者間の自主的な合意による自主的な減車が行われているのであって，これらの一連の増車の禁止及び減車の合意は，独占禁止法に違反し，平等原則，行政手続法３２条２項に違反する旨主張する。
しかしながら，原告が指摘する点は，収支計画要件等の措置認可基準の適法性とは無関係である上，前記１(8)のとおり，東京地区の地域協議会において，２０％の減車の方針が決定されたことが認められるものの，特別区・武三交通圏における事業者間で減車の合意がされた事実は認められないから，原告の主張は前提を欠くというべきである。
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３争点(3)（収支計画要件への適合性の有無）について(1)収支計画要件への適合性判断に関する裁量の範囲等上記２(1)のとおり，処分行政庁は，特定地域に係る増車認可申請に対する認可の許否の判断について裁量権を有していることが認められるところ，その判断のための審査基準を定めた場合において，仮に原則としてその基準に拘束されると解するとしても，当該審査基準への当てはめが専門的・技術的な考慮を要するものであるときには，その基準への適合性の有無の判断についてなお裁量権を有しているものと認められる。
措置認可基準のうち特に収支計画要件に適合するか否かの認定判断をするためには，新規の輸送需要という将来生ずる事象の予測を伴い，その予測については処分行政庁である国土交通大臣等の専門的・技術的な知識経験に基づく判断が必要となることからすると，その判断に一定程度の裁量的要素があることを否定することはできない。
しかしながら，収支計画要件にいう新規の輸送需要の発生が「明らかである」とは，前述のとおり，新規の輸送需要の発生が社会通念上合理的にみて相当程度の蓋然性をもって見込まれることをいうものと解すべきであるから，その裁量的要素はそれ程大きなものとはいえず，社会通念上合理的にみて新規の輸送需要の発生が相当程度の蓋然性をもって見込まれると判断し得る事情があるにもかかわらず，特段の事情もなくこれが認められないとするような判断は，事実に対する評価が明らかに合理性を欠くこと，又は，判断過程において考慮すべき事情を考慮しないことにより，その内容が社会通念に照らし著しく妥当性を欠くものといえ，処分行政庁が有する裁量権の範囲を逸脱し，又はそれを濫用するものといわざるを得ない。
(2)本件への当てはめ
ア特別区・武三交通圏における新規の輸送需要の有無について(ア)前記１(6)ア(ア)及び(ウ)のとおり，平成２２年５月，国土交通省
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成長戦略において，成田空港のアジア有数のハブ空港としての抜本的な機能強化策として，これまでの発着枠が希少であったために十分な対応をすることができなかったビジネスジェットの乗入れ需要に対しても，専用ターミナルの整備等により，首都圏を代表するビジネスジェットの受入空港としての抜本的な機能強化を図ることなどが提案され，前記１(6)イのとおり，国土交通省航空局に設置された「ビジネスジェットの推進に関する委員会」においてビジネスジェットの受入れ改善策について議論がされ，平成２３年６月，成田空港における受入体制の構築を柱とした中間報告が発表され，その中において，①今後速やかにビジネスジェット専用ターミナルの整備に着手して平成２３年度のできるだけ早い時期に完成させること，②ビジネスジェット用のスポットを平成２３年１１月から１５スポットから１８スポットに増設するほか，ビジネスジェット用の乗降専用・一時駐機スポットの拡大を図ること，③平成２３年１０月から，同時離着陸方式が導入されることにより，１時間当たりの出発・到着可能回数が増え，ビジネスジェットの希望する時間帯の発着枠を確保することができる機会が増大する見込みであることなどが具体的に提言されたことが認められる。
以上によれば，本件申請がされた平成２３年６月以降の近い将来において，成田空港においては，ビジネスジェット用のスポットの増設等により，ビジネスジェットの発着枠が増加することが社会通念上合理的にみて相当程度の蓋然性をもって見込まれるということができる。(イ)次に，成田空港におけるビジネスジェットの発着枠の増加が特別区・武三交通圏における新規の輸送需要の発生につながるか否かについて検討するに，ビジネスジェットとは，その名のとおり，ビジネス等の目的で利用されるプライベートの航空機であるから，その利用者及びクルーは，ビジネス等の中心である東京都心を含む特別区・武三交通圏に
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向かうことが容易に想定することができるといえる。したがって，成田空港におけるビジネスジェットの発着枠が増加する場合には，その乗客やクルーが特別区・武三交通圏内に移動するための新規の輸送需要が発生する可能性が社会通念上合理的にみて相当程度の蓋然性をもって見込まれるものということができる。


(ウ)なお，前記１(6)ア(イ)のとおり，羽田空港については，国土交通省成長戦略において，着実に容量拡大を進めることにより，旺盛な首都圏の国際航空需要に対応するとともに，同空港の充実した国内線ネットワークを活用した国内・国際ハブ機能を強化することとし，アジア長距離線や欧米路線を含め，高需要のビジネス路線が羽田からも発着することができるようにルールを変更し，国際線について発着枠を増加させる基本方針が示されたが，実際に羽田空港の国際線の増便は，羽田新国際線旅客ターミナルの拡充後となることとされていることからすると，羽田空港のいわゆる再国際化の方針が決定されているとしても，羽田空港における国際線が具体的に増便される時期は不明であるといわざるを得ず，国際線の増便による外国人旅行客等の増加，及び，それに伴う特別区・武三交通圏における新規の輸送需要の発生は，上記(イ)の成田空港におけるビジネスジェットの発着枠の増加による新規の輸送需要の発生ほどの確実性は認められないというべきである。
また，前記１(10)ア及びイのとおり，原告は，本件申請の際，国土交通省の「観光立国実現のための訪日外国人３０００万人の早期達成計画」及び中国人旅行客に対する査証の発給要件の緩和を新規の輸送需要発生の根拠としていたことが認められるところ，上記の訪日外国人３０００万人の早期達成計画は抽象的な計画にすぎず，特別区・武三交通圏における新規の輸送需要の発生とは関係性が薄いといわざるを得ない。また，中国人旅行客に対する査証の発給要件が緩和されれば，訪日する
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中国人旅行客の数が増加することは予想されるが，中国人旅行客の行き先は様々であると推測されるから，訪日する中国人旅行客の増加と特別区・武三交通圏における新規の輸送需要とが直ちに連動するものとはいえず，特別区・武三交通圏における新規の輸送需要が発生する可能性は否定することができないとしても，その程度は不明であるといわざるを得ない。
イ申請者である原告にとっての新規の輸送需要であるか否かについて前記１(1)ウのとおり，原告は，現在，英語，ドイツ語，中国語等の外国語を使用することができる運転者を雇用し，乗客４名ないし６名のほか，スーツケースを複数個収納することが可能なワンボックスカーや大型の車両を整備し，通常のタクシー車両の場合と同額の利用料金を設定して，空港への送迎や外国人顧客に対応することが可能であることをその事業の独自性，特殊性としていることが認められるところ，前記１(1)エのとおり，空港への送迎依頼に対しては，現在，依頼の約５割程度，外国人客の送迎依頼の約６割程度しか対応することができていないことが認められる。また，前記１(7)アないしエのとおり，原告は，平成２０年８月以降，Ａとの間で，空港への送迎に関する専属契約を締結していたところ，平成２２年１２月頃から，Ａからの即時配車の依頼に応ずることができない事態が生じ，ビジネスジェットの利用が増加する見込みであることを根拠として，３０台の増車及び７０名の運転者の増員を要望されていたことが認められる。前記２(1)イのとおり，Ａは，ビジネスジェットの支援業務等を行うことを目的とする株式会社であり，上記アのとおり，成田空港におけるビジネスジェットの発着枠の増加が見込まれることからすると，現に原告がＡに対して提供しているビジネスジェットの外国人乗客等に対する外国語で対応することが可能な運転者及び送迎に適した車両による空港への送迎サービスについては，今後も新規の輸送需要が発生するこ
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とは社会通念上合理的にみて相当程度の蓋然性をもって見込まれるというべきである。
ウ新規の輸送需要の発生の明白性について
前記１(10)アのとおり，原告は，本件申請の際，国土交通省成長戦略及び国土交通省のビジネスジェットの推進に関する委員会の中間報告の存在を指摘し，前記１(10)カのとおり，契約先から３０台の増車と外国語で対応することの可能な運転者７０名の増員を要望されていることを説明していたことが認められるから，本件申請の際，上記ア及びイにおいて検討した新規の輸送需要の発生が社会通念上合理的にみて相当程度の蓋然性をもって見込まれることは，申請者である原告により明らかにされていたものというべきである。
なお，本件申請の際には，ＡのＯの陳述書（甲３６の２）は提出されていなかったことが認められるものの，原告の契約先が３０台の増車と外国対応人員７０名程度の増員を希望したこと自体は原告が説明しているのであるから，処分行政庁としては，更に必要であれば，上記陳述書等の提出を促すべきであったといえ，原告が契約先からの要望について裏付け資料を提出していなかったことは上記評価を左右しないというべきである。
エ被告の主張について
被告は，中間報告に基づいた成田空港におけるビジネスジェットの受入体制の構築を柱としたビジネスジェットの推進に向けた取組により，増車実施後に，それらの増加するビジネスジェットの利用者が，移動手段として，特別区・武三交通圏を営業区域とするタクシーを利用するか否か，また，原告の増車車両を利用するか否か，さらには，成田空港が所在する千葉県北総交通圏を営業区域とするタクシー事業者においてもビジネスジェットの利用者の旅客運送が可能であることに照らし，成田空港におけるビジネスジェットの利用者の増加が特別区・武三交通圏のタクシーの輸送
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需要に具体的にどのように関連するのかについて，原告から提出された書面では明らかではなかった旨主張する。
しかしながら，上記２(3)イ(エ)のとおり，収支計画要件は，飽くまでも安易な供給拡大の抑制のための要件であるにすぎず，新規の輸送需要の発生の有無は，申請者が増車により新たに供給しようとするサービスの内容も考慮した上で検討すべきであり，増車車両により提供されるサービスが営業対象とする顧客や使用車両等の点において独自性があり新規の輸送需要の開拓等につながるものであるかどうかという観点から検討されるべきであるところ，原告は，上記イで述べたとおり，ワンボックスカーなどの通常のタクシー車両よりも大型の車両を使用し，外国語での対応が可能な運転者を雇用して，外国人であるビジネスジェットの乗客等に対して空港への送迎や都内移動のサービスを提供しようとしていたものであり，これらのサービスは，日本人客の都内移動等のタクシー営業一般とは異なる特殊性や独自性を有するものであって，実際に，原告は，ビジネスジェットの支援業務等を業とするＡとの間で専属的な契約関係にあるのであるから，被告が主張するとおり，仮に千葉県北総交通圏を営業区域とするタクシー事業者においてもビジネスジェットの利用者の旅客運送が可能であるとしても，それらの事業者が原告と同内容のサービスを提供することは考え難く，原告，そしてまた特別区・武三交通圏につき新規の輸送需要が発生するかどうかが明らかではないとして本件申請を却下することは，社会通念に照らし著しく妥当性を欠くものといわざるを得ない。本件においては，他に新規の輸送需要の発生が社会通念上合理的にみて相当程度の蓋然性をもって見込まれると判断することを妨げる特段の事情についての主張立証はない。
オ小括


以上のとおり，本件処分は，成田空港におけるビジネスジェットの発着枠
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の増加により，特定地域である特別区・武三交通圏及び申請者である原告につきビジネスジェットの外国人乗客等の空港への送迎という新規の輸送需要が発生することが社会通念上合理的にみて相当程度の蓋然性をもって見込まれるということができる（かつ，後記４(3)のとおり，なお確認のための審査を尽くすべき点があるとはいえ，新たに発生すると見込まれる輸送需要が本件申請に係る３０台の増車に見合うものである可能性は十分ある。）にもかかわらず，特段の事情も示すことなく，およそ，本件収支計画上の増車車両分の営業収入が，特別区・武三交通圏で発生する輸送需要によるものか，また，新たに発生する輸送需要によるものであるかが明らかではないとして特定地域に係る増車認可申請を一切不認可とした点で，事実に対する評価が明らかに合理性を欠くこと，又は，判断過程において考慮すべき事情を考慮しないことにより，社会通念に照らし著しく妥当性を欠くものといわざるを得ず，処分行政庁が有する裁量権の範囲の逸脱又は濫用をしたものであるから，本件処分は違法であり，取り消されるべきである。
４本件義務付けの訴えについて
(1)本件義務付けの訴えは，行政事件訴訟法３条６項２号の申請型の義務付けの訴えであるところ，同法３７条の３第５項によれば，本件義務付けの訴えに係る請求が認容されるためには，併合提起された処分の取消しの訴えに係る請求に理由があると認められることのほか，その義務付けの訴えに係る処分につき，行政庁がその処分をすべきであることがその処分の根拠となる法令の規定から明らかであると認められ，又は行政庁がその処分をしないことがその裁量権の範囲を超え又はその濫用となると認められることが必要となる。
(2)前記１(10)エ及びカのとおり，原告は，本件申請の際，本件申請に係る増車実施後に見込まれる原告の運送収入増加額を収支計画一覧表として提出し，処分行政庁からの補正の求めに応じて，契約先から３０台の増車等を
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要望されていることを明らかにするとともに，収支計画における収入数値の算出根拠を明らかにする書面を提出したことが認められ，同書面においては，算出根拠の前提条件として，成田空港の送迎を１日当たり３０回で約６０万円，羽田空港の送迎を１日当たり６０回で約３６万円，都内の移動を１日当たり１５０回で４５万円と設定していたことが認められるところ，そこで前提条件とされる成田空港及び羽田空港の１日当たりの送迎回数の数値や日車営収額単価などに関しては，それらの数値の客観性・妥当性を明らかにする具体的な資料は提出されていない（本件申請の際に提出された甲１の２１によれば，平成２２年６月から平成２３年５月までの間の各月の迎車回数は判明するが，行き先やその平均単価は不明である。）から，原告が説明する増車分の運送収入増加見込額については，本件申請の当時原告から提出された書面からはその客観性・妥当性は必ずしも明らかではないといわざるを得ない。
また，本件申請において増車を希望する台数を３０台とした理由に関する証人Ｂの証言（Ｂ証人調書２７頁以下）は，増車の台数を２０台又は４０台に変動させた場合の収支等について分析したかどうかという質問に対し，３０台の場合の仕事量を分析し，４０両では運転者を集めることができないが，２０両だとビジネスジェットの新規需要の取り逃がしが出るとして，３０両分の仕事があるかどうか，３０両の増車をする資本があるかどうか，３０両をもって仕事をすることができる運転者を集めることができるかどうかという全てのバランスであると述べるにすぎず，本件収支計画の前提条件とされた送迎回数の数値等がどのように算定されたものかは明らかにされていない。そうすると，新たに発生すると見込まれる輸送需要が本件申請に係る３０台の増車に見合うものであるかどうかについては，契約先であるＡが３０台の増車（及び７０名の運転者の増員）を求めていたという事実はあるものの，客観的な裏付けが必ずしも十分に示されていないという面があるとい
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わざるを得ない。
(3)以上によれば，本件申請については，上記２で検討したとおり，申請する営業区域である特別区・武三交通圏において新規の輸送需要が発生しそれが原告の増車に係る営業収入に結び付くことは社会通念上合理的にみて相当程度の蓋然性をもって見込まれるものの，本件収支計画上の増車に係る３０台分の営業収入が新たに発生する輸送需要によるものであるか否かについては，処分行政庁による専門的・技術的な知識経験に基づく判断を経るべき点が残っているといわざるを得ず，本件申請につき申請どおりの事業計画変更認可をすべきかどうかについては，なお，処分行政庁による審査を尽くす必要があるというほかない。
したがって，本件申請につき，処分行政庁がその処分をすべきであることがその処分の根拠となる法令の規定から明らかであると認められ，又は処分行政庁がその処分をしないことがその裁量権の範囲を超え又はその濫用となると認められるとまではいえないから，本件義務付けの訴えには理由がないというほかない。
(4)なお，本件申請に係る増車台数が新たに発生する輸送需要に見合ったものであるか否かの判断に際しては，新規の輸送需要が将来発生するものであってその予測は困難であること，増車車両数が新規の輸送需要に不足する場合には，適正な増車車両数であれば発生し取り込むことができたはずの新規の輸送需要を取り逃すおそれがあり，タクシー事業の健全な発展に支障を来すおそれがあること等の事情に留意すべきであり，本件申請に係る増車実施後に見込まれる原告の運送収入増加額についても，従前のＡに対するサービスの提供実績等に基づき，社会通念上合理的な前提条件が設定されているかどうかといった観点を踏まえて判断されるものと解される。
５争点(1)（確認の利益の有無）について
予備的請求である本件確認の訴えは，行政事件訴訟法４条所定の公法上の法
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律関係に関する確認の訴えであるところ，実質的当事者訴訟としての確認の訴えは，原告の権利又は法的地位に危険・不安定が現存し，かつ，その危険・不安定を除去する方法として原告・被告間において当該請求について確認判決をすることが有効適切である場合に限り認められると解すべきであるから，本件確認の訴えが適法といえるためには，原告が上記のような確認の利益を有することが必要である。


この点，被告は，原告は，本件において，主位的請求として本件取消しの訴えを提起しており，本件処分につき取消判決を得れば，処分行政庁は，その後，改めて本件申請に対する処分をする際には，当該取消判決に拘束され（行政事件訴訟法３３条１項及び２項），本件確認の訴えが認容された場合と同様の結果を得ることができるから，確認の利益を有していない旨主張する。しかしながら，特別区・武三交通圏を特定地域として指定した本件指定が違法無効である場合には，本件申請が収支計画要件に適合しているか否かにかかわらず，原告は，道路運送法１５条３項に基づき，事前に届出をするのみで増車をすることができることになる。したがって，原告は，本件申請を却下した本件処分の取消しを求めるまでもなく，同条１項の認可を得ることなく同条３項の届出のみで本件申請に係る３０台の増車をなし得る法的地位を有することの確認を求めることができるというべきであり，本件確認の訴えについては，原告は確認の利益を有するということができる。
６争点(5)（本件指定の適法性）について
(1)特措法３条１項は，特定地域における供給過剰の状況（同項１号），事業用自動車１台当たりの収入の状況（同項２号），法令の違反その他の不適正な運営の状況（同項３号），事業用自動車の運行による事故の発生の状況（同項４号）に照らして，当該地域の輸送需要に的確に対応することにより，輸送の安全及び利用者の利便を確保し，その地域公共交通としての機能を十分に発揮できるようにするため，当該地域の関係者の自主的な取組を中心と
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して一般乗用旅客自動車運送事業の適正化及び活性化を推進することが特に必要であると認めるときは，当該特定の地域を特定地域と指定することができる旨定め，措置指定基準Ⅰ１(1)は，国土交通大臣は，人口１０万人以上の都市を含む営業区域であって，①日車実車キロ又は日車営収が，平成１３年度と比較して減少していること，②前５年間の事故件数が毎年度増加していること又は③前５年間の法令違反の件数が毎年度増加していることのいずれかに該当するものを特定地域として指定することとしているところ，措置指定基準Ⅰ１(1)の①は特措法３条１項１号及び２号に，同②は同項４号に，同③は同項３号にそれぞれ対応して，同項の定めを具体化した基準であることが認められる。
特措法３条１項は，特定地域の指定に係る要件を定めているものの，上記のとおり，その文言は抽象的かつ概括的なものであり，上記２(1)で説示したのと同様に，特定地域の指定に係る措置指定基準の策定についても，処分行政庁である国土交通大臣等の裁量権が認められるというべきであるから，措置指定基準を策定する基礎となる重要な事実関係について事実誤認があること等により重要な事実の基礎を欠くこととなる場合，措置指定基準策定に際していわゆる他事考慮をしている場合，又は，事実に対する評価が明らかに合理性を欠くこと，判断の過程において考慮すべき事情を考慮しないこと等によりその内容が社会通念に照らし著しく妥当性を欠くものと認められる場合には，措置指定基準の策定が，処分行政庁が有する裁量権の範囲を逸脱し，又はそれを濫用したものとして違法となるというべきである。(2)この点，原告は，措置指定基準Ⅰ１(1)は，特措法３条１項各号の要件に対応する上記①ないし③の全ての要件に適合する必要がなく，うち一つの要件にさえ適合すれば足りるものとしている点をもって，総合的な判断が必要な特定地域の指定について十分な要素を適切に考慮する基準とはなっておらず，尽くすべき考慮を尽くさず，本来は過大に評価すべきでない事項を過
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大に評価していることになる旨主張する。
しかしながら，特措法３条１項は，同項各号に掲げる状況に照らして特定地域を指定することができる旨定めるものであって，同項各号に掲げる状況の全てを考慮した具体的基準を定めることを義務付ける規定であるとは解されないから，同項の規定を具体化する措置指定基準において，同項各号に掲げる状況に該当する具体的事情の一つに該当する場合に特定地域を指定することができる旨定めることは，処分行政庁に与えられた裁量権の範囲内に属するものと解することができ，措置指定基準の策定に当たり，尽くすべき考慮を尽くしていないとも，過大に評価すべきでない事項を過大に評価しているともいうことはできないというべきである。
そして，①の基準は，日車キロ又は日車営収を平成１３年度と比較して減少しているかどうかを内容とするものであるところ，平成１３年度は，平成１２年改正前の道路運送法６条１項により需給調整が行われており，同時点においては供給過剰の状態にはなかったものと認められるから，供給過剰でない平成１３年度の状況を基準として，これと当該営業区域の直近年度の実績を比較して供給過剰の状況にあるか否かを判断することには合理性があるというべきである。
なお，原告は，措置指定基準Ⅰ１(1)の①ないし③の個別の考慮要素についても，その内容に合理性がない旨主張するが，上記のとおり，①ないし③の個別の考慮要素は，特措法３条１項各号に該当する具体的事情を要件として掲げたものであるから，原告の主張は，単なる政策的な意見を述べるにすぎず，処分行政庁の裁量権の範囲の逸脱又は濫用を基礎付けるものとはいえないから理由がない。
(3)前記１(5)のとおり，本件指定は，特別区・武三交通圏における平成２０年度の日車実車キロ及び日車営収はいずれも平成１３年度の値と比較すると１０％以上下回っていたことを理由としてされたものであるから，本件指
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定には違法な点は見当たらないというべきである。
この点，原告は，特別区・武三交通圏の日車営収は，他の交通圏と比較して高水準である旨指摘するが，ある区域において供給過剰か否かは，他の交通圏と比較して判断されるべきものとはいえないから，原告の主張は前提において誤っているというほかない。
また，原告は，特別区・武三交通圏の車両数は，平成１２年改正前の状況と比較して減少しているから供給過剰の状態にあるとはいえない旨主張するが，供給過剰の状態にあるか否かは，供給輸送力が輸送需要量に対して過剰であるか否かにより決せられるものであり，車両数の比較により決せられるものではないから，原告の主張には理由がない。
(4)以上によれば，本件指定につき，処分行政庁の裁量権の範囲の逸脱又は濫用の事実は認められないから，本件指定は適法ということができる。
７結論
以上によれば，本件訴えの主位的請求のうち本件取消しの訴えには理由があるから認容し，その余の請求にはいずれも理由がないから棄却することとし，訴訟費用の負担について行政事件訴訟法７条，民事訴訟法６１条，６４条本文を適用して，主文のとおり判決する。
東京地方裁判所民事第２部
裁判長裁判官          川神裕


裁判官          内野俊夫
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裁判官          日暮直子
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（別紙）
関連法令等の定め
１道路運送法
(1)目的（１条）
この法律は，貨物自動車運送事業法（中略）と相まって，道路運送事業の運営を適正かつ合理的なものとし，並びに道路運送の分野における利用者の需要の多様化及び高度化に的確に対応したサービスの円滑かつ確実な提供を促進することにより，輸送の安全を確保し，道路運送の利用者の利益の保護及びその利便の増進を図るとともに，道路運送の総合的な発達を図り，もって公共の福祉を増進することを目的とする。
(2)種類（３条）
旅客自動車運送事業の種類は，次に掲げるものとする。
(ア)１号
一般旅客自動車運送事業（特定旅客自動車運送事業以外の旅客自動車運送事業）
ａイ
一般乗合旅客自動車運送事業（乗合旅客を運送する一般旅客自動車運送事業）
ｂロ
一般貸切旅客自動車運送事業（１個の契約により国土交通省令で定める乗車定員以上の自動車を貸し切って旅客を運送する一般旅客自動車運送事業）
ｃハ
一般乗用旅客自動車運送事業（１個の契約によりロの国土交通省令で定める乗車定員未満の自動車を貸し切って旅客を運送する一般旅客自動車運送事業）
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(イ)２号
特定旅客自動車運送事業（特定の者の需要に応じ，一定の範囲の旅客を運送する旅客自動車運送事業）
(3)許可申請（５条）
ア１項
一般旅客自動車運送事業の許可を受けようとする者は，次に掲げる事項を記載した申請書を国土交通大臣に提出しなければならない。
(ア)１号
氏名又は名称及び住所並びに法人にあっては，その代表者の氏名
(イ)２号
経営しようとする一般旅客自動車運送事業の種別
(ウ)３号
路線又は営業区域，営業所の名称及び位置，営業所ごとに配置する事業用自動車の数その他の一般旅客自動車運送事業の種別（一般乗合旅客自動車運送事業にあっては，路線定期運行（路線を定めて定期に運行する自動車による乗合旅客の運送をいう。以下同じ。）その他の国土交通省令で定める運行の態様の別を含む。）ごとに国土交通省令で定める事
項に関する事業計画
イ２項
前項の申請書には，事業用自動車の運行管理の体制その他の国土交通省令で定める事項を記載した書類を添付しなければならない。
ウ３項
国土交通大臣は，申請者に対し，前２項に規定するもののほか，当該申請者の登記事項証明書その他必要な書類の提出を求めることができる。
(4)許可基準（６条）
国土交通大臣は，一般旅客自動車運送事業の許可をしようとするときは，
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次の基準に適合するかどうかを審査して，これをしなければならない。
(ア)１号
当該事業の計画が輸送の安全を確保するため適切なものであること。
(イ)２号
前号に掲げるもののほか，当該事業の遂行上適切な計画を有するものであること。
(ウ)３号
当該事業を自ら適確に遂行するに足る能力を有するものであること。
(5)緊急調整措置（８条）
ア１項
国土交通大臣は，特定の地域において一般乗用旅客自動車運送事業の供給輸送力（以下この条において単に「供給輸送力」という。）が輸送需要量に対し著しく過剰となっている場合であって，当該供給輸送力が更に増加することにより，輸送の安全及び旅客の利便を確保することが困難となるおそれがあると認めるときは，当該特定の地域を，期間を定めて緊急調整地域として指定することができる。
イ２項
前項の規定による指定は，告示によって行う。
ウ３項
国土交通大臣は，第１項の規定による緊急調整地域の指定をした場合には，第４条第１項の許可の申請が一般乗用旅客自動車運送事業に係るもので，かつ，当該申請に係る営業区域が当該緊急調整地域の全部又は一部を含むものであるときは，当該許可をしてはならない。
エ４項
一般乗用旅客自動車運送事業を経営する者（以下「一般乗用旅客自動車運送事業者」という。）は，第１項の規定による緊急調整地域の指定がさ
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れた場合には，当該緊急調整地域における供給輸送力を増加させるものとして国土交通省令で定める事業計画の変更をすることができない。
(6)事業計画の変更（１５条）
ア１項
一般旅客自動車運送事業者は，事業計画の変更（第３項，第４項及び次条第１項に規定するものを除く。）をしようとするときは，国土交通大臣の認可を受けなければならない。
イ２項
第６条の規定は，前項の認可について準用する。
ウ３項
一般旅客自動車運送事業者は，営業所ごとに配置する事業用自動車の数その他の国土交通省令で定める事項に関する事業計画の変更をしようとするときは，あらかじめ，その旨を国土交通大臣に届け出なければならない。
エ４項
一般旅客自動車運送事業者は，営業所の名称その他の国土交通省令で定める軽微な事項に関する事業計画の変更をしたときは，遅滞なく，その旨を国土交通大臣に届け出なければならない。
２特定地域における一般乗用旅客自動車運送事業の適正化及び活性化に関する
特別措置法（特措法）
(1)目的（１条）
この法律は，一般乗用旅客自動車運送が地域公共交通として重要な役割を担っており，地域の状況に応じて，地域における輸送需要に対応しつつ，地域公共交通としての機能を十分に発揮できるようにすることが重要であることにかんがみ，国土交通大臣による特定地域の指定及び基本方針の策定，特定地域において組織される協議会による地域計画の作成及びこれに基づ
－87－
く一般乗用旅客自動車運送事業者による特定事業等の実施並びに特定地域における道路運送法（中略）の特例について定めることにより，特定地域における一般乗用旅客自動車運送事業の適正化及び活性化を推進し，もって地域における交通の健全な発達に寄与することを目的とする。
(2)定義（２条）
ア１項
この法律において「一般乗用旅客自動車運送事業」とは，道路運送法第３条第１号ハの一般乗用旅客自動車運送事業をいう。
イ２項
この法律において「一般乗用旅客自動車運送事業者」とは，一般乗用旅客自動車運送事業を経営する者をいう。
ウ３項
この法律において「一般乗用旅客自動車運送」とは，一般乗用旅客自動車運送事業者が行う旅客の運送をいう。
エ４項
この法律において「地域公共交通」とは，地域公共交通の活性化及び再生に関する法律（中略）第２条第１号に規定する地域公共交通をいう。
オ５項
この法律において「特定地域」とは，次条第１項の規定により指定された地域をいう。
カ６項


この法律において「特定事業」とは，一般乗用旅客自動車運送事業について，利用者の選択の機会の拡大に資する情報の提供，情報通信技術の活用による運行の管理の高度化，利用者の特別の需要に応ずるための運送の実施その他の国土交通省令で定める措置を講ずることにより，輸送需要に対応した合理的な運営及び法令の遵守の確保並びに運送サービスの質の
－88－
向上及び輸送需要の開拓を図り，もって一般乗用旅客自動車運送事業の適正化及び活性化に資する事業をいう。
キ７項
この法律において「事業用自動車」とは，道路運送法第２条第８項に規定する事業用自動車をいう。
(3)特定地域の指定（３条）
ア１項
国土交通大臣は，特定の地域における一般乗用旅客自動車運送事業の次に掲げる状況に照らして，当該地域の輸送需要に的確に対応することにより，輸送の安全及び利用者の利便を確保し，その地域公共交通としての機能を十分に発揮できるようにするため，当該地域の関係者の自主的な取組を中心として一般乗用旅客自動車運送事業の適正化及び活性化を推進することが特に必要であると認めるときは，当該特定の地域を，期間を定めて特定地域として指定することができる。
(ア)１号
供給過剰（供給輸送力が輸送需要量に対し過剰であることをいう。）
の状況
(イ)２号
事業用自動車１台当たりの収入の状況
(ウ)３号
法令の違反その他の不適正な運営の状況
(エ)４号
事業用自動車の運行による事故の発生の状況
イ２項
国土交通大臣は，特定地域について前項に規定する指定の事由がなくなったと認めるときは，当該特定地域について同項の規定による指定を解除
－89－
するものとする。
ウ３項
第１項の規定による指定及び前項の規定による指定の解除は，告示によって行う。
エ４項
都道府県知事は，国土交通大臣に対し，当該都道府県について第１項の規定による指定を行うよう要請することができる。
オ５項
市町村長は，当該市町村の属する都道府県の知事を経由して，国土交通大臣に対し，当該市町村について第１項の規定による指定を行うよう要請することができる。
(4)基本方針（４条）
ア１項
国土交通大臣は，特定地域における一般乗用旅客自動車運送事業の適正化及び活性化に関する基本方針（以下「基本方針」という。）を定めるものとする。
イ２項
基本方針は，次に掲げる事項について定めるものとする。
(ア)１号
一般乗用旅客自動車運送事業の適正化及び活性化の意義及び目標に
関する事項
(イ)２号
第９条第１項に規定する地域計画の作成に関する基本的な事項
(ウ)３号
特定事業その他の第９条第１項に規定する地域計画に定める事業に
関する基本的な事項
－90－
(エ)４号
その他一般乗用旅客自動車運送事業の適正化及び活性化の推進に関
する基本的な事項
ウ３項
国土交通大臣は，情勢の推移により必要が生じたときは，基本方針を変更するものとする。
エ４項
国土交通大臣は，基本方針を定め，又はこれを変更したときは，遅滞なく，これを公表するものとする。
(5)協議会（８条）
ア１項
特定地域において，地方運輸局長，関係地方公共団体の長，一般乗用旅客自動車運送事業者等，一般乗用旅客自動車運送事業の事業用自動車の運転者の組織する団体及び地域住民は，次条第１項に規定する地域計画の作成，当該地域計画の実施に係る連絡調整その他当該特定地域における一般乗用旅客自動車運送事業の適正化及び活性化の推進に関し必要な協議を行うための協議会（以下単に「協議会」という。）を組織することができる。
イ２項及び３項    略
(6)特定地域における道路運送法の特例（１５条）
ア１項
特定地域において，一般乗用旅客自動車運送事業者が当該特定地域内の営業所に配置するその事業用自動車の合計数を増加させる事業計画の変更については，道路運送法第１５条第１項中「第３項，第４項」とあるのは，「第４項」とし，同条第３項の規定は，適用しない。
イ２項
－91－
特定地域の指定が解除された際又は特定地域の指定期間が満了した際現にされている前項の規定により読み替えて適用する道路運送法第１５条第１項の認可の申請であって，前項に規定する事業計画の変更に係るものは，同条第３項の規定によりした届出とみなす。ただし，特定地域の指定期間の満了後引き続き当該地域が特定地域として指定された場合は，この限りでない。
３特定地域における一般乗用旅客自動車運送事業の適正化及び活性化に関する基本方針（以下「基本方針」という。）（甲１７の２，乙１５）
（一及び二略）
三特定事業その他の地域計画に定める事業に関する基本的な事項タクシー事業の適正化及び活性化を推進するに当たっては，地域の実情に応じて，地域のニーズや地域に存在する問題に的確に対応することが重要であることから，地域計画においては，法令に違反せず，法及び本方針に定める事項に逸脱しないものであれば，タクシー事業の適正化及び活性化に資するあらゆる事業について定めることができることとする。この際には，次の１から４までの観点を参考にしつつ，地域計画に定められた目標の達成に必要な事業を適切に設定することが望ましい。
１輸送需要に対応した合理的な運営
タクシー事業の適正化を図る上では，タクシー事業者が地域の輸送需要を的確に把握するとともに，輸送需要に対応した適切な運送サービスを提供するなど輸送需要に対応した合理的な運営を行うことが必要である。
２法令の遵守の確保    (略）
３運送サービスの質の向上
タクシー事業の活性化を図る上では，タクシー事業者が自らの創意工夫や的確な輸送需要の把握に基づき一層の運送サービスの質の向上を図ることが重要である。また，実際に直接利用者と接するタクシー運転者によ
－92－
る質の高いサービスの提供を実現するためには，タクシー事業者が常にタクシー運転者の良好な労働環境の整備に心がけることが重要である。
４輸送需要の開拓
タクシー事業の活性化を図る上では，介護が必要な者の運送の実施や観光地を巡る運送の実施等タクシーに求められる多様なニーズに対応した運送を行い，新たな輸送需要を開拓することが重要である。四その他一般乗用旅客自動車運送事業の適正化及び活性化の推進に関する
基本的な事項
（１及び２略）
３国の役割
（(1)略）
(2)事後確認と事前確認の強化


平成２５年３月１３日判決言渡
平成２４年（行ケ）第１０２３２号審決取消請求事件
口頭弁論終結日平成２５年２月４日
判決
原            告      アプライドマテリアルズ    インコーポレイテッド訴訟代理人弁護士      古      城      春      実同                    堀      籠      佳      典訴訟代理人弁理士      園      田      吉      隆被            告      株式会   社東京   精密訴訟代理人弁理士      林              孝      吉同                    清      水      貴      光
主文
１特許庁が，無効２００７－８００１７２号事件について，平成２４年２月２１日にした審決中，「特許第３４３１１１５号の請求項９，１８，１９，２０，２４，２５，２７，２８，２９，３０，３１，３２，３９，５２に係る発明についての特許を無効とする。」との部分を取り消す。
２訴訟費用は被告の負担とする。
事実及   び理由
第１請求
主文と同旨
第２当事者間に争いのない事実
１特許庁における手続の経緯等
原告は，発明の名称を「ケミカルメカニカルポリシングの操作をインシチュウでモニタするための装置及び方法」とする特許第３４３１１１５号（優先権主張１９９５年３月２８日，米国。平成８年３月２８日出願，平成１５年５月２３日設定登録。以下「本件特許」という。）の特許権者である。被告は，平成１９年８月２４日，本件特許を無効にすることを求めて審判の請求（無効２００７－８００１７２号事件）をし，原告は，平成２３年１２月８日，訂正請求書を提出した（以下「本件訂正」という。）。特許庁は，平成２４年２月２１日付けで，「訂正を認める。特許第３４３１１１５号の請求項９，１８，１９，２０，２４，２５，２７，２８，２９，３０，３１，３２，３９，５２に係る発明についての特許を無効とする。特許第３４３１１１５号の請求項１，４０，４２，４３，４４，４６，４８，４９，５１に係る発明についての審判請求は，成り立たない。審判費用は，その９９分の３８を請求人の負担とし，９９分の６１を被請求人の負担とする。」とする審決（以下「審決」という。）をし，その謄本は，同年３月１日，原告に送達された。なお，上記無効審判請求手続においては，平成２１年１０月１４日及び平成２３年１月２４日に，それぞれ審決がなされており，これらの審決において，「請求項２ないし８，１０ないし１７，２１ないし２３，２６，３３ないし３８，４１，４５，４７，５０についての審判請求は成り立たない」ことが確定している。
２特許請求の範囲
本件訂正後の本件特許の特許請求の範囲の請求項９，１８ないし２０，２４，２５，２７ないし３２，３９，５２の記載は次のとおりである（以下，この発明を「本件発明９」，「本件発明２０」などといい，これらを総称して「本件各発明」という。また，本件訂正後の特許請求の範囲，発明の詳細な説明及び図面を含めて「本件明細書」（甲１０７，甲１０８）ということがある。）。【請求項９】酸化物層の下に半導体基板を備えるウエハのケミカルメカニカルポリシング（ＣＭＰ）のための方法であって，該方法は，（ａ）ウエハを，回転可能な研磨ヘッド内に，該回転可能な研磨ヘッドの下の研磨パッドに対して保持するステップであって，該パッドは発泡材料からなる表面を有し，研磨スラリによってウェットとなっている，該保持するステップと，（ｂ）ＣＭＰが終了した終点を決定するステップであって，該終点を決定するステップは，（ｂ１）赤光の範囲を含むレーザービームをウエハに向けて発するステップであって，該レーザービームは，プラーテン内に形成されたホール（孔）に近接するように配置された該研磨パッドに含まれるウィンドウを通過し，前記ウィンドウは，該パッドに形成された中実な材料からなるプラグであって，該レーザービームに対して透過性を有する前記プラグを備え，該ウィンドウは，ウエハが該ウィンドウの上にあるときの時間の一部の間レーザービームのための通路を与える，該発するステップと，（ｂ２）ウエハから反射する赤光の範囲を含む光を検出するステップとを備える前記決定するステップとを備える方法。
【請求項１８】ウエハのケミカルメカニカルポリシング（ＣＭＰ）において，基板上の表面層の状態の均一性を，前記層の研磨の最中に測定するインシチュウの方法であって，（ａ）研磨の最中に，発泡材料からなる表面を有する研磨パッドに含まれるウィンドウを通して前記層の方へ赤光の範囲を含む光ビームを向けるステップであり，前記ウィンドウは，該パッドに形成された中実な材料からなるプラグであって，該光ビームに対して透過性を有する前記プラグを備え，前記ウエハが前記ウィンドウの上にある時は，周期時間の少なくとも一部の間に光ビームをウエハへ入射させるための通路を与える，前記向けるステップと，（ｂ）前記基板から反射されてくる前記赤光の範囲を含む光ビームによって生じる干渉信号をモニタするステップと，（ｃ）前記干渉信号から表面層の状態の均一性の尺度を計算するステップとを備える方法。
【請求項１９】前記計算するステップが，前記干渉信号から特徴情報を抽出するステップと，前記抽出された特徴情報から表面層の状態の均一性の前記尺度を計算するステップとを備える請求項１８に記載の方法。


【請求項２０】表面層の状態の均一性の前記尺度を参考値と比較するステップと，表面層の状態の均一性の前記尺度が該参考値から所定の量以上広がったときに警告を発するステップとを更に備える請求項１９に記載の方法。【請求項２４】ウエハのケミカルメカニカルポリシング（ＣＭＰ）において，層を自身の上に有する基板を研磨するための研磨プロセスの特性を評価するインシチュウの方法であって，（ａ）研磨の最中に，発泡材料からなる表面を有する研磨パッドに含まれるウィンドウを通して前記層の方へ赤光の範囲を含む光ビームを向けるステップであり，前記ウィンドウは，該パッドに形成された中実な材料からなるプラグであって，該光ビームに対して透過性を有する前記プラグを備え，前記ウエハが前記ウィンドウの上にある時は，周期時間の少なくとも一部の間に光ビームをウエハへ入射させるための通路を与える，前記向けるステップと，（ｂ）前記基板から反射されてくる前記赤光の範囲を含む光ビームによって発生する干渉信号をモニタするステップと，（ｃ）前記干渉信号から干渉計波形を抽出するステップと，（ｄ）前記抽出された干渉計波形を保存されている情報と比較するステップであって，前記保存されている情報は，該研磨プロセスに対して望ましい操作のポイントを代表している，前記比較するステップと，（ｅ）前記抽出された干渉計波形が前記保存されている情報から所定の量以上広がったとき，警告を発するステップとを備える方法。
【請求項２５】干渉信号を，オペレータが見ることができるように，視覚的なディスプレイ装置上に表示するステップを更に備える請求項２４に記載の方法。【請求項２７】ウエハに対してケミカルメカニカルポリシング（ＣＭＰ）を行うための基板研磨システムであって，（ａ）処理中に，中実な透明ウィンドウを有する発泡材料からなる表面を有する研磨パッドを保持するプラーテンであり，前記ウィンドウは，該パッドに形成された中実な材料からなるプラグであって，光ビームに対して透過性を有する前記プラグを備え，前記ウエハが前記ウィンドウの上にある時は，周期時間の少なくとも一部の間に光ビームをウエハへ入射させるための通路を与える，前記プラーテンと，（ｂ）処理中に基板をプラーテン上の研磨パッドに対して保持する研磨ヘッドと，（ｃ）処理中に，前記研磨パッドの前記ウィンドウを通して，研磨されるべき基板の側部に向けられ且つ入射するコリメートされた赤光の範囲を含む光ビームを発生させることが可能な干渉計であって，前記干渉計は干渉信号を発生する，前記干渉計と，（ｄ）前記干渉信号から表面層の状態の均一性の尺度を計算するようにプログラミングされたデータプロセッサとを備える研磨システム。
【請求項２８】前記研磨ヘッドが，処理中に回転できるように，回転可能となっている請求項２７に記載の研磨システム。
【請求項２９】前記プラーテンが，処理中に回転できるように，回転可能となっている請求項２８に記載の研磨システム。
【請求項３０】前記干渉計が，レーザー干渉計である請求項２９に記載の研磨システム。
【請求項３１】前記データプロセッサが更に，前記干渉信号から特徴情報を抽出することと，前記抽出された特徴情報から均一性の前記尺度を計算することと，をプログラミングされている請求項２９に記載の研磨システム。【請求項３２】前記データプロセッサが更に，均一性の前記尺度を参考値と比較することと，均一性の前記尺度が該参考値から所定の量以上広がったときに警告を発することと，をプログラミングされている請求項３１に記載の研磨システム。【請求項３９】ウエハに対してケミカルメカニカルポリシング（ＣＭＰ）を行うための装置であって，前記装置は，（ａ）処理中に研磨パッドを保持するプラーテンであり，前記パッドは，発泡材料からなる表面と中実な透明ウィンドウを有し，前記ウィンドウは，該パッドに形成された中実な材料からなるプラグであって，光ビームに対して透過性を有する前記プラグを備えて，ウエハが前記ウィンドウの上にある時は，周期時間の少なくとも一部の間に光ビームをウエハへ入射させるための通路を与える，前記プラーテンと，（ｂ）処理中に基板をプラーテン上の研磨パッドに対して保持する研磨ヘッドと，（ｃ）コリメートされた赤光の範囲を含む光ビームを発生させることが可能な干渉計であって，前記干渉計は，少なくとも研磨操作の一部の間に前記光ビームを前記ウィンドウに向け前記基板上に入射するように配置されて，研磨プロセスのインシチュウによるモニタリングを与える，前記干渉計と，（ｄ）前記干渉計からの周期信号を解析し，該周期信号から研磨の終点を検出するプロセッサとを備える装置。
【請求項５２】基板を研磨するための装置であって，（ａ）発泡材料からなり透過性のない研磨面と中実な透過性のウィンドウを有する研磨パッドであり，前記ウィンドウは，該パッドに形成されたプラグであって，赤光の範囲を含む光ビームに対して透過性を有する前記プラグを備える，前記研磨パッドと，（ｂ）基板を研磨面に対して保持するための研磨ヘッドと，（ｃ）ウィンドウを通過して基板に入射する赤光の範囲を含む光ビームを発生するための光源と，基板より反射された光を測定する検出器とを有する終点検出システムとを備え，前記ウィンドウは，ウエハが前記ウィンドウの上にある時は，周期時間の少なくとも一部の間に光ビームをウエハへ入射させるための通路を与える装置。
３審決の理由
(1)別紙審決書写しのとおりである（１０７頁２４行以下の部分は「参考」につき省略）。その判断の概要は以下のとおりである。
ア本件訂正は，特許法１３４条の２第１項ただし書きに適合し，特許法１３４条の２第５項の規定により準用する同法１２６条３項及び４項の規定に適合するので，本件訂正を認める。
イ無効理由２（特許法３６条４項，６項１号，２号違反）について本件特許の特許請求の範囲の各請求項について，特許法３６条４項，６項１号，２号に違反するとの無効理由は成り立たない。
ウ無効理由１（特許法２９条２項違反）について
本件発明９は，甲１（特開平７－５２０３２号公報。以下，甲１に記載された発明を「甲１発明」という。）に記載された甲１発明２（後記(2)ア(ｱ)），及び，甲２（特開平５－３０９５５８号公報），甲３（特開昭６３－１３４１６２号公報），甲４（特開昭６１－７６２６０号公報），甲５（特開平４－２５５２１８号公報）記載事項から当業者が容易になし得たものである。


本件発明１８ないし２０は，甲１発明３（後記(2)ア(ｲ)），及び，甲２ないし甲４記載事項，甲５記載事項から当業者が容易になし得たものである。本件発明２４及び２５は，甲１発明４（後記(2)ア(ｳ)），及び，甲２ないし甲４記載事項，甲５記載事項から当業者が容易になし得たものである。本件発明２７ないし３２は，甲１発明５（後記(2)ア(ｴ)），及び，甲２ないし甲４記載事項，甲５記載事項から当業者が容易になし得たものである。本件発明３９は，甲１発明６（後記(2)ア(ｵ)），及び，甲２ないし甲４記載事項，甲５記載事項から当業者が容易になし得たものである。本件発明５２は，甲１発明８（後記(2)ア(ｶ)），及び，甲２ないし甲４記載事項から当業者が容易になし得たものである。
請求人（被告）の主張する無効理由及び証拠方法によっては，本件発明１，４０，４２ないし４４，４６，４８，４９，５１について，無効とすることはできない。(2)審決が認定した甲１発明の内容及び甲１発明と本件各発明との一致点，相違点は，以下のとおりである。
ア甲１発明の内容
(ｱ)表面に熱酸化膜を形成した２枚のシリコンウエハを，熱酸化膜を接せしめて接着したＳＯＩウエハ７のケミカルメカニカルポリシング（ＣＭＰ）のための方法であって，該方法は，（ａ）ウエハ７を，回転可能なウエハ支持板８内に，該回転可能なウエハ支持板８の下の研磨布５に対して保持するステップであって，該研磨布５は発泡材料からなる表面を有し，研磨液によってウェットとなっている，該保持するステップと，（ｂ）研磨状態の終点を知るステップであって，該終点を知るステップは，（ｂ１）赤色の範囲を含む光をウエハ７に向けて照射するステップであって，該光は，定盤１内に形成され，中心から放射状に伸びる近接した２本の直線で囲まれ，中心付近から周縁近くまで伸びた溝２と，溝２の長手方向中央に設けられた貫通孔３における溝２に同形に切り抜かれた該研磨布５に含まれる研磨布窓６を通過し，前記貫通孔３の溝２側には，透明ガラス製の中実な材料からなる透明窓材４が嵌め込まれ，該研磨布窓６は，ウエハ７の中心が該研磨布窓６の上にあるときの一部の間光のための通路を与える，該照射するステップと，（ｂ２）ウエハ７から反射する赤色の範囲を含む光をプローブ９により受光して検出するステップとを備える前記終点を知るステップとを備える方法。（以下「甲１発明２」という。）(ｲ)   ウエハのケミカルメカニカルポリシング（ＣＭＰ）において，表面に熱酸化膜を形成した２枚のシリコンウエハを，熱酸化膜を接せしめて接着したＳＯＩウエハ７の研磨状態の終点を，ウエハ７の研磨を中断せずに知るインシチュウの方法であって，（ａ）研磨を中断せずに，発泡材料からなる表面を有する研磨布５に含まれる研磨布窓６を通して前記ウエハ７の方へ赤色の範囲を含む光を向けるステップであり，中心から放射状に伸びる近接した２本の直線で囲まれ，中心付近から周縁近くまで伸びた溝２と，溝２の長手方向中央に設けられた貫通孔３を自身に有する定盤１の前記貫通孔３の溝２側には，透明ガラス製の中実な材料からなる透明窓材４が嵌め込まれ，該研磨布窓６は，ウエハ７の中心が該研磨布窓６の上にあるときの一部の間光のための通路を与える，前記向けるステップと，（ｂ）前記ウエハ７から反射されてくる前記赤色の範囲を含む光をプローブ９により受光して検出するステップとを備える方法。（以下「甲１発明３」という。）(ｳ)ウエハのケミカルメカニカルポリシング（ＣＭＰ）において，表面に熱酸化膜を形成した２枚のシリコンウエハを，熱酸化膜を接せしめて接着したＳＯＩウエハ７を研磨するための研磨状態の終点を知るインシチュウの方法であって，（ａ）研磨を中断せずに，発泡材料からなる表面を有する研磨布５に含まれる研磨布窓６を通して前記ウエハ７の方へ赤色の範囲を含む光を向けるステップであり，中心から放射状に伸びる近接した２本の直線で囲まれ，中心付近から周縁近くまで伸びた溝２と，溝２の長手方向中央に設けられた貫通孔３を自身に有する定盤１における前記貫通孔３の溝２側には，透明ガラス製の中実な材料からなる透明窓材４が嵌め込まれ，該研磨布窓６は，ウエハ７の中心が該研磨布窓６の上にあるときの一部の間光のための通路を与える，前記向けるステップと，（ｂ）前記ウエハ７から反射されてくる赤色の範囲を含む光をプローブ９により受光して検出して前記終点を知るステップとを備える方法。（以下「甲１発明４」という。）(ｴ)ウエハに対してケミカルメカニカルポリシング（ＣＭＰ）を行うためのウエハ研磨装置であって，（ａ）研磨中に，定盤１の溝２と同形に切り抜かれた研磨布窓６を有する発泡材料からなる表面を有する研磨布５を保持する回転可能な定盤１であり，定盤１には，中心から放射状に伸びる近接した２本の直線で囲まれ，中心付近から周縁近くまで伸びた溝２と，溝２の長手方向中央に設けられた貫通孔３が設けられ，前記貫通孔３の溝２側には，透明ガラス製の中実な材料からなる透明窓材４が嵌め込まれ，該研磨布窓６は，ウエハ７の中心が該研磨布窓６の上にあるときの一部の間光のための通路を与える，前記定盤１と，（ｂ）研磨中に表面に熱酸化膜を形成した２枚のシリコンウエハを，熱酸化膜を接せしめて接着したＳＯＩウエハ７を定盤１上の研磨布５に対して保持する回転可能なウエハ支持板８と，（ｃ）研磨中に，前記透明窓材４，及び研磨布５の研磨布窓６を通して，研磨されるべきウエハ７の中心の研磨面に向けられ且つ入射する赤色の範囲を含む光を照射させることが可能なプローブ９を備えるウエハ研磨装置。（以下「甲１発明５」という。）


(ｵ)ウエハ７に対してケミカルメカニカルポリシング（ＣＭＰ）を行うための研磨装置であって，前記研磨装置は，（ａ）研磨中に研磨布５を保持する定盤１であり，前記研磨布５には，発泡材料からなる表面と定盤１の溝２と同形に切り抜かれた研磨布窓６を有し，前記定盤１は，中心から放射状に伸びる近接した２本の直線で囲まれ，中心付近から周縁近くまで伸びた溝２と，溝２の長手方向中央に設けられた貫通孔３を自身に有する定盤１であり，前記貫通孔３の溝２側には，透明ガラス製の中実な材料からなる透明窓材４が嵌め込まれ，該研磨布窓６は，ウエハ７の中心が該研磨布窓６の上にあるときの一部の間光のための通路を与える，前記定盤１と，（ｂ）研磨中にウエハ７を定盤１上の研磨布５に対して保持するウエハ支持板８と，（ｃ）赤色範囲の光を含む光を照射することが可能なプローブ９であって，前記プローブ９は，研磨中に前記赤色の範囲を含む光を前記研磨布窓６に向け前記ウエハ７上に照射するように，配置されて，研磨中に研磨状態の終点を知る，前記プローブ９とを備える研磨装置。（以下「甲１発明６」という。）(ｶ)ウエハ７を研磨するための研磨装置であって，（ａ）発泡材料からなり研磨面と研磨布窓６を有する研磨布５であり，定盤１は，中心から放射状に伸びる近接した２本の直線で囲まれ，中心付近から周縁近くまで伸びた溝２と，溝２の長手方向中央に設けられた貫通孔３を自身に有する定盤１であり，前記貫通孔３の溝２側には，透明ガラス製の中実な材料からなる赤色の範囲を含む光ビームに対して透過性を有する透明窓材４が嵌め込まれ，前記研磨布５には，定盤１の溝２と同形に切り抜かれた研磨布窓６が形成される，前記研磨布５と，（ｂ）ウエハ７を定盤１上の研磨布５の研磨面に対して保持するためのウエハ支持板８と，（ｃ）研磨布窓６を通過してウエハ７に赤色の範囲を含む光を照射しその反射光を受光するプローブ９を有する研磨状態の終点を知るものであって，前記研磨布窓６は，ウエハ７の中心が該研磨布窓６の上にあるときの一部の間光ビームをウエハ７に入射させるための通路を与える研磨装置。（以下「甲１発明８」という。）
イ一致点及び相違点
(ｱ)一致点
ａ甲１発明２と本件発明９
「ウエハのケミカルメカニカルポリシング（ＣＭＰ）のための方法であって，該方法は，（ａ）ウエハを，回転可能な研磨ヘッド内に，該回転可能な研磨ヘッドの下の研磨パッドに対して保持するステップであって，該パッドは発泡材料からなる表面を有し，研磨スラリによってウェットとなっている，該保持するステップと，（ｂ）ＣＭＰが終了した終点を決定するステップであって，該終点を決定するステップは，（ｂ１）赤光の範囲を含む光をウエハに向けて発するステップであって，該光は，プラーテン内に形成された開口に近接するように配置された該研磨パッドに含まれるウィンドウを通過し，研磨プラーテンの開口及び研磨パッドのウインドウからなる通路に中実な材料からなる光透過部材を配設し，該ウィンドウは，ウエハが該ウィンドウの上にあるときの時間の一部の間光のための通路を与える，該発するステップと，（ｂ２）ウエハから反射する赤光の範囲を含む光を検出するステップとを備える前記決定するステップとを備える方法。」
ｂ甲１発明３と本件発明１８ないし２０
「ウエハのケミカルメカニカルポリシング（ＣＭＰ）において，基板上の表面層の研磨状態を，前記層の研磨の最中に測定するインシチュウの方法であって，（ａ）研磨の最中に，発泡材料からなる表面を有する研磨パッドに含まれるウィンドウを通して前記層の方へ赤光の範囲を含む光ビームを向けるステップであり，研磨プラーテンの開口及び研磨パッドのウインドウからなる通路に中実な材料からなる光透過部材を配設し，前記ウエハが前記ウィンドウの上にある時は，周期時間の少なくとも一部の間に光ビームをウエハに入射させるための通路を与える，前記向けるステップと，（ｂ）前記基板から反射されてくる前記赤光の範囲を含む光ビームを受光して検出するステップとを備える方法。」
ｃ甲１発明４と本件発明２４，２５
「ウエハのケミカルメカニカルポリシング（ＣＭＰ）において，基板を研磨するための研磨プロセスの特性を評価するインシチュウの方法であって，（ａ）研磨の最中に，発泡材料からなる表面を有する研磨パッドに含まれるウィンドウを通して前記層の方へ赤光の範囲を含む光ビームを向けるステップであり，研磨プラーテンの開口及び研磨パッドのウインドウからなる通路に中実な材料からなる光透過部材を配設し，前記ウエハが前記ウィンドウの上にある時は，周期時間の少なくとも一部の間に光ビームをウエハに入射させるための通路を与える，前記向けるステップと，（ｂ）前記基板から反射されてくる前記赤光の範囲を含む光ビームを受光して検出するステップとを備える方法。」
ｄ甲１発明５と本件発明２７
「ウエハに対してケミカルメカニカルポリシング（ＣＭＰ）を行うための基板研磨システムであって，（ａ）処理中に，ウィンドウを有する発泡材料からなる表面を有する研磨パッドを保持するプラーテンであり，プラーテンの開口及び研磨パッドのウインドウからなる通路に中実な材料からなる光透過部材を配設し，前記ウエハが前記ウィンドウの上にある時は，周期時間の少なくとも一部の間に光ビームをウエハに入射させるための通路を与える，前記プラーテンと，（ｂ）処理中に基板をプラーテン上の研磨パッドに対して保持する研磨ヘッドと，（ｃ）処理中に，前記研磨パッドの前記ウィンドウを通して，研磨されるべき基板の側部に向けられ且つ入射する赤光の範囲を含む光ビームを発生させることが可能な光ビーム測定装置を備える研磨システム。」
ｅ甲１発明５と本件発明２８


「ウエハに対してケミカルメカニカルポリシング（ＣＭＰ）を行うための基板研磨システムであって，（ａ）処理中に，ウィンドウを有する発泡材料からなる表面を有する研磨パッドを保持するプラーテンであり，プラーテンの開口及び研磨パッドのウインドウからなる通路に中実な材料からなる光透過部材を配設し，前記ウエハが前記ウィンドウの上にある時は，周期時間の少なくとも一部の間に光ビームをウエハに入射させるための通路を与える，前記プラーテンと，（ｂ）処理中に基板をプラーテン上の研磨パッドに対して保持する研磨ヘッドと，（ｃ）処理中に，前記研磨パッドの前記ウィンドウを通して，研磨されるべき基板の側部に向けられ且つ入射する赤光の範囲を含む光ビームを発生させることが可能な光ビーム測定装置を備える研磨システムであって，前記研磨ヘッドが，処理中に回転できるように，回転可能となっている研磨システム。」
ｆ甲１発明５と本件発明２９ないし３２
「ウエハに対してケミカルメカニカルポリシング（ＣＭＰ）を行うための基板研磨システムであって，（ａ）処理中に，ウィンドウを有する発泡材料からなる表面を有する研磨パッドを保持するプラーテンであり，プラーテンの開口及び研磨パッドのウインドウからなる通路に中実な材料からなる光透過部材を配設し，前記ウエハが前記ウィンドウの上にある時は，周期時間の少なくとも一部の間に光ビームをウエハに入射させるための通路を与える，前記プラーテンと，（ｂ）処理中に基板をプラーテン上の研磨パッドに対して保持する研磨ヘッドと，（ｃ）処理中に，前記研磨パッドの前記ウィンドウを通して，研磨されるべき基板の側部に向けられ且つ入射する赤光の範囲を含む光ビームを発生させることが可能な光ビーム測定装置を備える研磨システムであって，前記研磨ヘッド，及び前記プラーテンが，処理中に回転できるように，回転可能となっている研磨システム。」
ｇ甲１発明６と本件発明３９
「ウエハに対してケミカルメカニカルポリシング（ＣＭＰ）を行うための装置であって，前記装置は，（ａ）処理中に研磨パッドを保持するプラーテンであり，前記パッドは，発泡材料からなる表面を有し，プラーテン及び研磨パッドのウインドウからなる通路に中実な材料からなる光透過部材を配設し，ウエハが前記ウィンドウの上にある時は，周期時間の少なくとも一部の間に光ビームをウエハへ入射させるための通路を与える，前記プラーテンと，（ｂ）処理中に基板をプラーテン上の研磨パッドに対して保持する研磨ヘッドと，（ｃ）赤光の範囲を含む光ビームを発生させることが可能な光測定装置であって，前記光測定装置は，少なくとも研磨操作の一部の間に前記光ビームを前記ウィンドウに向け前記基板上に入射するように配置されて，研磨プロセスのインシチュウによるモニタリングを与える，光測定装置を備え，前記光測定装置からの信号を解析し，研磨状態の終点を知るものである装置。」
ｈ甲１発明８と本件発明５２
「基板を研磨するための装置であって，（ａ）発泡材料からなる研磨面とウィンドウを有する研磨パッドであり，プラーテンの開口及び研磨パッドのウインドウからなる通路に中実な材料からなる赤光の範囲を含む光ビームに対して透過性を有する光透過部材を配設した，前記研磨パッドと，（ｂ）基板を研磨面に対して保持するための研磨ヘッドと，（ｃ）ウィンドウを通過して基板に入射する赤光の範囲を含む光ビームを発生するための光発生兼測定装置を有する終点検出システムとを備え，前記ウィンドウは，ウエハが前記ウィンドウの上にある時は，周期時間の少なくとも一部の間に光ビームをウエハに入射させるための通路を与える装置。」
(ｲ)相違点
ａ甲１発明２と本件発明９
＜相違点６＞ウエハに関して，本件発明９では，「酸化物層の下の半導体基板を備える」ものであると特定しているのに対して，甲１発明２では，ＳＯＩウエハではあるものの，酸化物層を表面に有するかどうか不明な点。＜相違点７＞発する光に関して，本件発明９では，「レーザービーム」としているのに対して，甲１発明２では，単に光である点。
＜相違点８＞開口に関して，本件発明９では，「ホール（孔）」としているのに対して，甲１発明２では，中心から放射状に伸びる近接した２本の直線で囲まれ，中心付近から周縁近くまで伸びた溝２と，溝２の長手方向中央に設けられた貫通孔３である点。
＜相違点９＞光透過部材の構造に関して，本件発明９では，「前記ウィンドウは，該パッドに形成された中実な材料からなるプラグであって，該レーザービームに対して透過性を有する前記プラグを備え」るとして，研磨パッドに光透過部材が設けられているのに対して，甲１発明２では，光透過部材は，貫通孔３の溝２側に嵌め込まれた透明ガラス製の中実な材料からなる透明窓材４である点。
ｂ甲１発明３と本件発明１８
＜相違点１０＞測定する基板上の表面層の研磨状態に関して，本件発明１８では，「基板上の表面層の状態の均一性」であるとしているのに対して，甲１発明３では，ウエハ７の研磨状態の終点であるとしている点。
＜相違点１１＞光透過部材の構造に関して，本件発明１８では，「前記ウィンドウは，該パッドに形成された中実な材料からなるプラグであって，該光ビームに対して透過性を有する前記プラグを備え」るとして，研磨パッドに光透過部材が設けられているのに対して，甲１発明３では，光透過部材は，貫通孔３の溝２側に嵌め込まれた透明ガラス製の透明窓材４である点。
＜相違点１２＞本件発明１８では，「（ｂ）基板から反射されてくる赤光の範囲を含む光ビームによって生じる干渉信号をモニタするステップと，（ｃ）前記干渉信号から表面層の状態の均一性の尺度を計算するステップとを備える」としているのに対して，甲１発明３では，ウエハ７から反射されてくる赤光の範囲を含む光をプローブ９により受光して検出するステップを備える点。
ｃ甲１発明３と本件発明１９
相違点１０ないし相違点１２は上記ｂと同じ。
＜相違点１３＞計算するステップに関して，本件発明１９では，「干渉信号から特徴情報を抽出するステップと，抽出された特徴情報から表面層の状態の均一性の尺度を計算するステップとを備える」としているのに対して，甲１発明３では，そのようなステップを備えていない点。
ｄ甲１発明３と本件発明２０
相違点１０ないし相違点１３は上記ｂ，ｃと同じ。
＜相違点１４＞本件発明２０では，「表面層の状態の均一性の尺度を参考値と比較するステップと，表面層の状態の均一性の尺度が該参考値から所定の量以上広がったときに警告を発するステップとを更に備える」としているのに対して，甲１発明３では，そのようなステップを備えていない点。


ｅ甲１発明４と本件発明２４
＜相違点１５＞基板に関して，本件発明２４では，「層を自身の上に有する」としているのに対して，甲１発明４では，ＳＯＩウエハではあるものの，層を自身の上に有しているのかどうか不明な点。
＜相違点１６＞光透過部材の構造に関して，本件発明２４では，「前記ウィンドウは，該パッドに形成された中実な材料からなるプラグであって，該光ビームに対して透過性を有する前記プラグを備え」るとして，研磨パッドに光透過部材が設けられているのに対して，甲１発明４では，光透過部材は，貫通孔３の溝２側に嵌め込まれた透明ガラス製の中実な材料からなる透明窓材４である点。＜相違点１７＞本件発明２４では，「光ビームによって生じる干渉信号をモニタするステップ」を有しているのに対して，甲１発明４では，ウエハ７から反射されてくる光をプローブ９により受光して検出するステップを備える点。＜相違点１８＞本件発明２４では，「（ｃ）干渉信号から干渉計波形を抽出するステップと，（ｄ）前記抽出された干渉計波形を保存されている情報と比較するステップであって，前記保存されている情報は，研磨プロセスに対して望ましい操作のポイントを代表している，前記比較するステップ」を有しているのに対して，甲１発明４では，そのようなステップを有していない点。＜相違点１９＞本件発明２４では，「（ｅ）抽出された干渉計波形が保存されている情報から所定の量以上広がったとき，警告を発するステップ」を備えているのに対して，甲１発明４は，そのようなステップを有していない点。
ｆ甲１発明４と本件発明２５
相違点１５ないし相違点１９は上記ｅと同じ。
＜相違点２０＞本件発明２５では，「干渉信号を，オペレータが見ることができるように，視覚的なディスプレイ装置上に表示するステップを更に備える」としているのに対して，甲１発明４では，そのようなステップを備えていない点。
ｇ甲１発明５と本件発明２７
＜相違点２１＞ウィンドウに関して，本件発明２７では，「中実な透明」と特定し，また，「前記ウィンドウは，該パッドに形成された中実な材料からなるプラグであって，光ビームに対して透過性を有する前記プラグを備え」と特定しているのに対して，甲１発明５では，ウィンドウに相当する研磨布窓６が，定盤１の溝２と同形に切り抜かれたものであり，定盤１には，中心から放射状に伸びる近接した２本の直線で囲まれ，中心付近から周縁近くまで伸びた溝２と，溝２の長手方向中央に設けられた貫通孔３が設けられ，前記貫通孔３の溝２側には，透明ガラス製の透明窓材４が嵌め込まれたものである点。
＜相違点２２＞光ビームの発生に関して，本件発明２７では，「コリメートされた」ものとしているのに対して，甲１発明５では，コリメートされているかどうかが不明な点。
＜相違点２３＞光ビーム測定装置に関して，本件発明２７では，「干渉計」であるとし，また，「前記干渉計は干渉信号を発生する，前記干渉計と，前記干渉信号から表面層の状態の均一性の尺度を計算するようにプログラミングされたデータプロセッサとを備える」と特定しているのに対して，甲１発明５では，プローブ９である点。
ｈ甲１発明５と本件発明２８
上記ｇの相違点２１ないし相違点２３と同じ。
ｉ甲１発明５と本件発明２９
上記ｇの相違点２１ないし相違点２３と同じ。
ｊ甲１発明５と本件発明３０
相違点２１ないし相違点２３は上記ｇと同じ。
＜相違点２４＞干渉計に関して，本件発明３０では，「レーザー干渉計」であると特定しているのに対して，甲１発明５では，プローブ９である点。
ｋ甲１発明５と本件発明３１
相違点２１ないし相違点２３は上記ｇと同じ。
＜相違点２５＞データプロセッサに関して，本件発明３１では，更に，「干渉信号から特徴情報を抽出することと，前記抽出された特徴情報から均一性の前記尺度を計算することと，をプログラミングされている」と特定しているのに対して，甲１発明５では，そのようなことについて不明である点。
ｌ甲１発明５と本件発明３２
相違点２１ないし相違点２３は上記ｇと，相違点２５は上記ｋと同じ。＜相違点２６＞データプロセッサに関して，本件発明３２では，更に，「均一性の尺度を参考値と比較することと，均一性の前記尺度が該参考値から所定の量以上広がったときに警告を発することと，をプログラミングされている」と特定しているのに対して，甲１発明５では，そのようなことについて不明である点。
ｍ甲１発明６と本件発明３９
＜相違点２７＞光透過部材の構造に関して，本件発明３９では，「前記ウィンドウは，該パッドに形成された中実な材料からなるプラグであって，光ビームに対して透過性を有する前記プラグを備え」ているとして，研磨パッドに光透過部材が設けられているのに対して，甲１発明６では，光透過部材は，貫通孔３の溝２側に嵌め込まれた透明ガラス製の透明窓材４である点。
＜相違点２８＞光ビームに関して，本件発明３９では，「コリメートされた」と特定しているのに対して，甲１発明６では，光がコリメートされたものであるのかどうか不明な点。
＜相違点２９＞光測定装置に関して，本件発明３９では，「干渉計」と特定しているのに対して，甲１発明６では，プローブ９である点。＜相違点３０＞研磨プロセスのインシチュウによるモニタリングを与える，光測定装置を備え，前記光測定装置からの信号を解析し，研磨状態の終点を知るものに関して，本件発明３９では，「研磨プロセスのインシチュウによるモニタリングを与える，干渉計と，前記干渉計からの周期信号を解析し，該周期信号からの研磨の終点を検出するプロセッサとを備える」としているのに対して，甲１発明６では，光測定装置はプローブ９であり，研磨の終点を知ることに関してプロセッサを用いているのかどうか不明な点。
ｎ甲１発明８と本件発明５２
＜相違点３７＞研磨パッド及びウィンドウに関して，本件発明５２では，「発泡材料からなり透過性のない研磨面と中実な透過性のウィンドウを有する」と特定し，また，「前記ウィンドウは，該パッドに形成されたプラグであって，赤光の範囲を含む光ビームに対して透過性を有する前記プラグを備え」ているとして，研磨パッドに光透過部材が設けられているのに対して，甲１発明８では，研磨パッドに相当する研磨布５は，発泡材料からなるものの，研磨面と定盤１の溝２と同形に切り抜かれた研磨布窓６を有するものであり，また，赤色の範囲を含む光透過部材は，貫通孔３の溝２側に嵌め込まれた透明ガラス製の中実な材料からなる透明窓材４である点。


＜相違点３８＞光発生兼測定装置に関して，本件発明５２では，「光源と，基板より反射された光を測定する検出器」としているのに対して，甲１発明８では，光を照射しその反射光を受光するプローブ９である点。
第３当事者の主張
１取消事由に係る原告の主張
審決には，以下のとおり，(1)光透過性のプラグを研磨パッドに形成する構成に関する容易想到性判断の誤り（取消事由１），(2)赤光の範囲を含む「レーザービーム」をウエハに向けて発する構成に関する容易想到性判断の誤り（取消事由２），(3)「基板上の表面層の状態の均一性」及び「基板上の表面層の状態の均一性の尺度を計算する」構成及び「干渉計は・・・表面層の状態の均一性の尺度として計算するようにプログラミングされたデータプロセッサとを備える」構成に関する容易想到性判断の誤り（取消事由３），(4)「モニタするステップ」との構成に関する容易想到性判断の誤り（取消事由４），(5)「表面層の状態の均一性の尺度を参考値と比較するステップと，表面層の状態の均一性の尺度が該参考値から所定の量以上広がったときに警告を発するステップとを更に備える」構成，「前記抽出された干渉計波形が前記保存されている情報から所定の量以上広がったとき，警告を発するステップ」を備える構成及び「均一性の尺度を参考値と比較することと，均一性の前記尺度が該参考値から所定の量以上広がったときに警告を発することと，をプログラミングされている」構成に関する容易想到性判断の誤り（取消事由５），(6)「干渉信号から干渉計波形を抽出するステップと，・・・前記抽出された干渉計波形を保存されている情報と比較するステップであって，前記保存されている情報は，研磨プロセスに対して望ましい操作のポイントを代表している，前記比較するステップ」との構成に関する容易想到性判断の誤り（取消事由６），(7)本件発明２４と甲１発明４に関し，「研磨プロセスの特性を評価する」との相違点を看過した誤り（取消事由７），(8)「干渉信号を，オペレータが見ることができるように，視覚的なディスプレイ装置上に表示するステップを更に備える」構成に関する容易想到性判断の誤り（取消事由８），(9)「研磨プロセスのインシチュウによるモニタリングを与える，干渉計と，前記干渉計からの周期信号を解析し，該周期信号からの研磨の終点を検出するプロセッサとを備える」構成に関する容易想到性判断の誤り（取消事由９）があり，これらは審決の結論に影響を及ぼすから，審決は取り消されるべきである。
(1)光透過性のプラグを研磨パッドに形成する構成（本件発明９と甲１発明２との相違点９，本件発明１８ないし２０と甲１発明３との相違点１１，本件発明２４，２５と甲１発明４との相違点１６，本件発明２７ないし３２と甲１発明５との相違点２１，本件発明３９と甲１発明６との相違点２７，本件発明５２と甲１発明８との相違点３７）に関する容易想到性判断の誤り（取消事由１）審決は，上記各相違点について，「両者の違いは，光ビームを透過する部材を設ける位置の違いだけである」とした上で，「光ビームを透過する部材を，研磨する部材側に設けることが甲２記載事項１，甲３記載事項，甲４記載事項に記載されているように周知の事項である」として，甲１発明（２ないし６，８）においても，「透明窓材４を，研磨パッドに相当する研磨布５に形成することは，当業者が容易になし得たものである」旨判断した。
しかし，本件各発明は，光透過性のプラグを発泡材料からなる表面を有する研磨パッドに形成し，光透過性部材のウィンドウを用いたケミカルメカニカルポリシング（ＣＭＰ）光学的終点検出における，ＣＭＰ装置の設置時のプラグの高さ調整を不要とし，スラリの一部がパッド表面化からプラーテン上に漏出することがないようにし，スラリの消費を抑えるものであるところ，このような開示は，甲１にも甲２ないし甲４にもされていないから，本件各発明を甲１及び甲２ないし甲４に基づいて当業者が容易に発明することができたとはいえない。とりわけ，甲２ないし甲４は，いずれも研磨する部材を「透明体と（する）」あるいは「透明なものと（する）」ことが記載されているにすぎず，発泡材料からなる表面を有する研磨パッドと光透過性のプラグという２つの部材が存在することを前提とする，プラグの高さ調整やスラリ漏出の問題に関する記載や示唆は一切ないのである。すなわち，甲１の記載（【０００７】，【０００９】，【００１０】，【００２２】，【００２３】，図１，図２）によれば，透明窓材４は研磨布５ではなく，定盤１に形成されている（定盤１の貫通孔３に嵌め込まれている。）といえる。スラリーが光を拡散するという光学的検出に有害な性質を有しており，スラリーの溜まりができることは本来好ましくないにもかかわらず，甲１では，ガラス製の透明窓材４がウエハに接触して傷をつけることがないように，透明窓材４は，研磨中も，その上端が研磨布５の表面より十分低くなっていることを不可欠の要素としているのも，透明窓材４が研磨布５ではなく，定盤１に形成されているからである。甲２の記載（【請求項１】，【０００３】ないし【０００５】，【０００７】，【０００８】，【００１３】，図１，図３）によれば，「ポリシングパッド１による貼り合わせウェーハ１１の研磨において，ポリシングパッド１を透明体とし，ポリシングパッド１を透過してレーザ光を照射するもの。」が記載されているが，光透過性のプラグを発泡材料からなる表面を有する研磨パッドに形成することは開示されていない。


甲３の記載（１頁右下欄４行ないし２頁左下欄１６行，２頁右下欄３行ないし３頁左上欄１８行，３頁右下欄１ないし１０行）によれば，光学部品の研磨に際し，「ポリッシャ３は光学的に透明な材料を用い」，被加工物の被加工面を光源からの光線により照射する構成を採用することにより，加工液の化学反応を光化学的及び熱的に促進することが開示されているが，光透過性のプラグを発泡材料からなる表面を有する研磨パッドに形成することは開示されていない。甲４の記載（１頁左下欄１６行ないし右下欄１行，１頁右下欄１０ないし１９行，２頁左上欄１２行ないし右上欄１９行，２頁左下欄１３ないし１８行）によれば，光学ガラス等の「液中研磨」に関し，「被加工物２をポリシャ４で研磨するにあたり合成樹脂からなるポリシャ４を透明なものとし，レーザ光を照射し，透明なポリシャ４を透過してレーザ光を照射するもの」は記載されているが，光透過性のプラグを発泡材料からなる表面を有する研磨パッドに形成することは開示されていない。さらに，ＣＭＰの分野において，「研磨パッド」と「プラーテン」は概念として区別されており，研磨パッドはプラーテンと比較すると薄く柔軟性を有する部材であり（甲４２），甲１においても，研磨布５（研磨パッド）はウレタン含浸ポリエステル不織布，定盤１（プラーテン）はアルミニウム製とされる。一方，プラグは，スラリの漏出防止のためのものであり，確実な取り付けが求められるから，プラグを形成する場合には，確実な取り付けの観点から，プラーテンに形成しようとすることが自然である。すなわち，プラグを柔軟性のある研磨パッドに形成するには，特別の動機が必要とされる。しかし，甲２ないし甲４に記載されたものは，せいぜい透明な研磨部材（技術分野の相違等についてはさて措くものとする）であり，光透過性部材をあえて柔軟性のある研磨パッドの形成する動機となることは記載されていない。そうすると，甲１及び甲２ないし甲４から認定される周知の事項に基づいて，上記各相違点に係る本件各発明の構成が容易想到であったとはいえない。したがって，甲１発明（２ないし６，８）において，「透明窓材４を，研磨パッドに相当する研磨布５に形成することは，当業者が容易になし得たものである」とした審決の判断は誤りである。
(2)赤光の範囲を含む「レーザービーム」をウエハに向けて発する構成（本件発明９と甲１発明２との相違点７）に関する容易想到性判断の誤り（取消事由２）審決は，相違点７について，「ウェーハの研磨における終点検知の光としてレーザ光を用いることは，甲２記載事項１に見られるように従来周知の事項であることから，甲１発明２においても，終点検知に用いる光をレーザ光とすることは，当業者が容易になし得たものである。」と判断した。
本件発明９は，「赤光の範囲を含むレーザービームをウエハに向けて発する」ことを規定するが，甲１の記載（【００１３】，【００２７】，【００２９】）によれば，甲１でウエハに向けて発する光は，レーザービームではなく，「旧型の蛍光灯や白熱灯」であるとともに，「波長範囲６８０～８００ｎｍ」で分光反射率測定を行う理由は，「ＳＯＩの厚さ１μｍのシリコン膜の分光反射率は波長７００ｎｍと７７０ｎｍにピークを持つ」ことから，当該ピークを観察できるようにするためである。そうすると，甲１記載のウエハに向けて発する光は，赤光の範囲を含むレーザービームではない。
そして，甲１において，上記のような波長ピーク観察を可能とするためには，幅広い波長分布を持つ光（例えば，「波長範囲６８０～８００ｎｍ」に均等に波長分布を持つ光）をウエハに向けて発することが必要である（単一波長の光の場合には，波長ピークは現れない。）から，甲１発明２は，幅広い波長分布を持つ光を用いることを大前提とした発明であって，この甲１で用いられる幅広い波長分布を持つ光を，波長分布が特定の発振波長に限定されるレーザービームに代えることが容易であるということはできない。
また，甲２には，レーザ光を貼り合わせウェーハ１１に照射することは記載されているが，その波長についての記載はないから，赤光の範囲を含むレーザービームをウエハに向けて発することは記載されていないし，ウエハに向けて発するレーザービームとして，赤光の範囲を含むレーザービームを選択して，「サイクル毎に除去されるべき材料の量を制御不能にすることなく，散乱を許容される程度にする」（本件明細書の【００５４】）ことの記載も示唆もない。したがって，甲１及び甲２に基づいて，赤光の範囲を含むレーザービームをウエハに向けて発するとすることが容易であるということはできず，相違点７に関する審決の判断は誤りである。
(3)「基板上の表面層の状態の均一性」及び「基板上の表面層の状態の均一性の尺度を計算する」構成（本件発明１８ないし２０と甲１発明３との相違点１０及び１２）及び「干渉計は・・・表面層の状態の均一性の尺度として計算するようにプログラミングされたデータプロセッサとを備える」構成（本件発明２７と甲１発明５との相違点２３）に関する容易想到性判断の誤り（取消事由３）審決は，相違点１０について，甲５には，「表面に酸化物被覆１４を有する半導体ウェーハ１０における酸化物被覆１４を物理的に平面化するに際して，レーザ干渉測定装置２８により酸化物被覆１４の厚さを検出する，物理的な平面化及び終点検出装置。」が記載されており，基板の研磨に際して，基板上における表面層の状態の均一性を測定することは周知の事項であるから，甲１発明３においても，基板に相当するウエハ７において，その表面層の状態の均一性を測定するようにすることは，当業者が容易になし得たものである旨判断した。また，審決は，相違点１２について，甲５には，「基板上の表面層の状態を均一化するに際して，前記表面層の状態の均一性を測定し，干渉信号をモニタする装置」が記載されているから，甲１発明３において，ウエハ７の表面層の状態の均一性を測定するように代えた場合，その均一性を判断するためには，光ビームによって生じる干渉信号をモニタし，これにより，干渉信号からの表面層の状態の均一性の尺度を計算しなければならないことは，当然の設計変更に過ぎない旨判断した。しかし，審決の判断は，以下のとおり，誤りである。


本件発明１８の「基板上の表面層の状態の均一性」とは，「研磨されるべき層の均一性」を意味し，「基板上の表面層の状態の均一性の尺度を計算する」とは，研磨中にウエハ表面の様々な場所の干渉波形をサンプリングすることにより，正弦波を基礎とする信号に持ち込まれる変動，すなわち表面層の不均一性に起因して信号に持ち込まれる変動，を尺度として計算することを意味している。いずれも，表面層の厚さを測定することとは異なった技術的意味を有している。すなわち，本件発明１８の「基板上の表面層の状態の均一性」及び「基板上の表面層の状態の均一性の尺度を計算する」の意義は，特許請求の範囲の記載からは一義的に明確ではないので，本件明細書の記載を参酌する必要があるところ，本件明細書の記載（【００５６】ないし【００６０】，【００６９】，【００７０】，【００７４】）に照らすと，本件発明１８の「基板上の表面層の状態の均一性」とは，「研磨されるべき層の均一性」を意味し，「基板上の表面層の状態の均一性の尺度を計算する」とは，研磨中にウエハ表面の様々な場所の干渉波形をサンプリングすることにより，正弦波を基礎とする信号に持ち込まれる変動，すなわち表面層の不均一性に起因して信号に持ち込まれる変動，を尺度として計算することを意味すると解される。これに対し，甲５の記載（【０００１】ないし【０００３】，【０００５】，【０００９】，【００１０】，【００１２】，【００１３】，【００１６】ないし【００２０】，【００２６】ないし【００２９】）によれば，レーザ干渉測定装置２８により，１つ又は複数の基準点における半導体ウェーハ１０の酸化物被覆１４の厚さを検出することが記載されているにすぎず，表面層の均一性を測定することや，表面層の不均一性に起因して信号に持ち込まれる変動を尺度として計算することが記載されているとはいえない。なお，甲５には，一見すると研磨中の半導体ウェーハの平面性（ないしは平坦性）を測定するかのごとき記載（【０００１】の「本発明は，集積回路の製造方法，特に，半導体ウェーハを物理的に平面化し（planarization）かつ終点（endpoint）を検出するための新規な方法及び装置に関する。」など）があるが，甲５の他の記載に照らせば，そこにおいて測定されるものとして記載されているものは，所定の基準点における酸化物の「厚さ」であり，平面性ではないというべきである。
そうすると，甲５には，表面層の平面性を測定することも，表面層の不均一性に起因して信号に持ち込まれる変動を計算することも記載されていないから，審決が，甲５記載事項における「酸化物被覆１４を物理的に平面化するに際して，酸化物被覆１４の厚さを検出する」ことは，「表面層の状態を均一化するに際して，前記表面層の状態の均一性を測定する」ことと言い換えることができるとして，基板上における表面層の状態の均一性を測定することは周知の事項であるとしたのは誤りである。「酸化物被覆１４を物理的に平面化するに際して，酸化物被覆１４の厚さを検出する」ことと，「表面層の状態を均一化するに際して，前記表面層の状態の均一性を測定する」ことは異なる。前者は，厚さを検出するのに対し，後者は表面層の状態の均一性を測定するものである。
したがって，審決が，相違点１０及び１２に係る本件発明１８ないし２０の構成が容易想到であるとした判断は誤りであり，同様の理由で，相違点２３に係る本件発明２７の構成が容易想到であるとした判断も誤りである。(4)「モニタするステップ」との構成（本件発明１８ないし２０と甲１発明３との相違点１２，本件発明２４，２５と甲１発明４との相違点１７）に関する容易想
到性判断の誤り（取消事由４）
審決は，相違点１２について，甲５には，「基板上の表面層の状態を均一化するに際して，前記表面層の状態の均一性を測定し，干渉信号をモニタする装置」が記載されているから，甲１発明３において，ウエハ７の表面層の状態の均一性を測定するように代えた場合，その均一性を判断するためには，光ビームによって生じる干渉信号をモニタすることは，当然の設計変更に過ぎない旨判断した。しかし，審決の判断は，以下のとおり，誤りである。
ア本件発明１８の「モニタ」は，ＣＭＰプロセスが正常な状態に保たれるように干渉信号を継続して監視することであり（甲１０９の２），特定の時点において測定や観測することを意味するのではない。また，本件明細書の記載（【０００４】，【０００５】，【００３９】，【００４３】，【００４５】，【００５６】，【００５７】，【００６３】，【００７３】，【００７５】，図９）をみても，本件特許発明１８の「モニタ」が，ＣＭＰプロセスが正常な状態に保たれるように干渉信号を継続して監視することであると理解できる。
これに対し，甲５の記載（【００２２】，【００２３】，【００２７】ないし【００２９】）によれば，レーザ干渉測定装置２８が酸化物の厚さを測定することが記載されているにすぎず，研磨プロセスが正常な状態に保たれるように干渉信号を継続して監視することは記載されていない。
したがって，甲５には，干渉信号を「モニタ」することは記載されていないというべきであり，甲５に「干渉信号をモニタする装置」が記載されているとして，「甲１発明３において，ウエハ７の表面層の状態の均一性を測定するように代えた場合，その均一性を判断するためには，光ビームによって生じる干渉信号をモニタ・・・することは，当然の設計変更にすぎない」とした審決の判断は誤りである。イまた，本件発明１８は，相違点１２に係る構成を備えることにより，本件明細書の段落【００５６】に記載されたように，「ウエハ／基板の表面にわたって均一な表面層を得るために」「研磨されるべき層の均一性をモニタする」ことができるなどの効果を奏するものである。


ウ以上のとおり，相違点１２に係る本件発明１８ないし２０の構成について容易想到とした審決の判断は誤りである。また，相違点１７に係る本件発明２４，２５の構成についての審決の判断も，同様の理由により誤りである。(5)「表面層の状態の均一性の尺度を参考値と比較するステップと，表面層の状態の均一性の尺度が該参考値から所定の量以上広がったときに警告を発するステップとを更に備える」構成（本件発明２０と甲１発明３との相違点１４），「前記抽出された干渉計波形が前記保存されている情報から所定の量以上広がったとき，警告を発するステップ」を備える構成（本件発明２４と甲１発明４との相違点１９）及び「均一性の尺度を参考値と比較することと，均一性の前記尺度が該参考値から所定の量以上広がったときに警告を発することと，をプログラミングされている」構成（本件発明３２と甲１発明５との相違点２６）に関する容易想到性判断の誤り
（取消事由５）
審決は，相違点１４について，甲２には，「研磨作業中に何らかの異常が発生した場合，制御装置７が警報装置９に指令信号を出力し，警報装置９が作動すること。」（以下，「甲２記載事項２」という。）が記載されていると認定した上で，一般に，研磨中に異常が発生した場合，警報を発することは，例えば，甲２記載事項２に見られるように周知の事項であり，『異常』と判断するためには何らかの閾値を設定し，その閾値と測定値を比較することにより判定することは通常行われていることである」として，相違点１４に係る本件発明１９の構成を容易想到であると判断した。
アしかし，甲２には，研磨作業中に何らかの異常が発生した場合，制御装置７が警報装置９に指令信号を出力することは記載されているが，制御装置７がどの装置の何の信号に基づいて「何らかの異常が発生した」と判断するかは何ら記載されていない。甲２は，研磨中に均一性の尺度が異常に変化する（大きくなる）ことを全く想定していないのであって，プロセスの異常性の判断に，表面層の状態の均一性の尺度を用いることや表面層の状態の均一性の尺度の参考値や許容偏差を設けることについて何らの記載も示唆もない。また，甲１，甲３ないし甲５にも，研磨中に異常が発生した場合については記載されておらず，これを周知事項と認定することはできない。
加えて，甲１ないし甲５には，「表面層の状態の均一性の尺度を参考値と比較するステップ」も記載されていない。
したがって，相違点１４に係る本件特許発明２０の構成を容易想到であると認定した審決は誤りである。
イ本件発明２０は，相違点１４に係る構成を備えることにより，「製品の損害を防止する」（本件明細書の【００６９】）ことができるという効果を奏するものである。
ウ以上のとおり，相違点１４に係る本件発明２０の構成を容易想到とした審決の判断は誤りである。また，相違点１９に係る本件発明２４の構成，相違点２６に係る本件発明３２の構成を容易想到とした審決の判断も，同様の理由により，誤りである。
(6)「干渉信号から干渉計波形を抽出するステップと，・・・前記抽出された干渉計波形を保存されている情報と比較するステップであって，前記保存されている情報は，研磨プロセスに対して望ましい操作のポイントを代表している，前記比較するステップ」との構成（本件発明２４と甲１発明４との相違点１８）に関する容
易想到性判断の誤り（取消事由６）
審決は，相違点１８について，「一般に，測定を行う場合，関連する情報を保存しておき，測定値を保存されている当該情報と比較し，測定の結果に対する操作の指針を与えることは，甲第１号証（特に，段落【００２９】参照。）にも見られるように従来周知の事項である」として，「干渉信号から干渉計波形を抽出し，抽出された干渉計波形を保存されている指針である情報と比較し，その際に，当該保存されている情報を，研磨プロセスに対しての操作である望ましい操作のポイントを代表しているものとすること」は，設計事項にすぎない旨判断した。しかし，甲１の段落【００２９】には，ＳＯＩのシリコン膜の分光反射率の「一つのピークの位置が７００ｎｍを下回った時点で次のピークの位置を読み，それが７６５ｎｍ以上であれば研磨を終了する」と記載されているが，シリコン膜の分光反射率のピーク情報を「保存」しておくことは記載されていないし，ましてや「研磨プロセスに対して望ましい操作のポイントを代表している」情報を保存しておくことや，システムが最適に動作しているか否かを決定するために情報を保存しておくことは記載されていない。これらの事項が周知の事項であることを示す証拠はない。また，本件発明２４は，相違点１８に係る構成を備えることにより，「製品の損害を防止する」（本件明細書の【００６９】）などの効果を奏するものである。したがって，相違点１８に係る本件発明２４の構成を容易想到であると認定した審決は誤りである。
(7)本件発明２４と甲１発明４に関し，「研磨プロセスの特性を評価する」との
相違点を看過した誤り（取消事由７）
審決は，甲１発明４における「研磨状態の終点を知る」ことは，本件発明２４の「研磨プロセスの特性を評価する」と言い換えることができる，として，この点を両者の相違点として認定しなかった。
しかし，本件明細書の記載（【００６８】ないし【００７１】）によれば，本件発明２４の「研磨プロセスの特性を評価する」とは，システムが最適に動作しているか否かを決定することを意味することは明らかである。したがって，「研磨状態の終点を知る」ことは，「研磨プロセスの特性を評価する」と言い換えることはできず，審決は，「本件発明２４では，『研磨プロセスの特性を評価する』方法であるのに対し，甲１発明４では，『研磨の終点を知る』方法である点。」との点も，本件発明２４と甲１発明４の相違点として認定すべきであったのに，これを看過したものである。
また，甲２には，システムが最適に動作しているか否かを決定することが記載されておらず，光検出器６が透過光を検出すると，研磨を終了することが記載されているだけであり，研磨中に異常が発生した場合に関する事項は記載されていない。甲３ないし甲５にも，システムが最適に動作しているか否かを決定することは記載されていない。そうすると，上記相違点に係る本件発明２４の構成は容易想到であるとはいえない。


したがって，審決には，上記相違点を看過した誤りがあり，その誤りが本件発明２４の容易想到性判断に影響を及ぼすことは明らかである。(8)「干渉信号を，オペレータが見ることができるように，視覚的なディスプレイ装置上に表示するステップを更に備える」構成（本件発明２５と甲１発明４との相違点２０）に関する容易想到性判断の誤り（取消事由８）審決は，相違点２０について，「一般に，検出した信号をオペレータが見ることができるように，視覚的なディスプレイ装置上に表示することは通常行われていることであるので，甲１発明４において，検出した信号である干渉信号を，オペレータが見ることができるように，視覚的なディスプレイ装置上に表示するようにすることは，当業者が容易になし得たものである。」と判断した。しかし，基板から反射されてくる光ビームによって発生する干渉信号をモニタするために，干渉信号を視覚的なディスプレイ装置上に表示することが通常行われていることを示す証拠は一切なく審決の認定は不当である。そして，本件発明２５は，相違点２０に係る構成を備えることにより，「人間の目は高度に敏感であり，画像において予想される変化が僅かでも生じればこれを検知する。従って，ある程度経験を積んだ後は，オペレータはしばしば波形を見るだけで，ＣＭＰシステム全体の変化やさしせまった問題を検知することが可能となるだろう。」（本件明細書の【００７５】）という効果を奏する。したがって，相違点２０に係る本件発明２５の構成を容易想到とした審決の判断は誤りである。
(9)「研磨プロセスのインシチュウによるモニタリングを与える，干渉計と，前記干渉計からの周期信号を解析し，該周期信号からの研磨の終点を検出するプロセッサとを備える」構成（本件発明３９と甲１発明６との相違点３０）に関する容易
想到性判断の誤り（取消事由９）
審決は，相違点３０について，甲５記載事項の「干渉計からの信号が周期信号であることは自明の事項であり，それを解析するためにプロセッサを用いることは通常行われていることである」として，「プロセッサを用いることにより，干渉計からの周期信号を解析し，該周期信号から，研磨の終点を検出する構成とすること」は，当業者が容易になし得た程度のものに過ぎない旨判断した。しかし，上記(4)のとおり，甲５には，レーザ干渉測定装置２８が酸化物の厚さを測定することが記載されているにすぎず，研磨プロセスが正常な状態に保たれるように干渉信号を継続して監視するものではないから，干渉計からの信号が周期信号であることは自明なこととして記載されているわけではないし，それを解析するためにプロセッサを用いることも通常行われていることの記載も示唆もない。また，仮に，干渉計からの信号が周期信号であることが物理現象として自明であったとしても，そのことから，当該周期信号を解析して研磨の終点を検出する技術的思想が自明であることにはならない（すべての発明は，自然法則に適ったものであるが，そのこと故に進歩性が否定されるわけではない。）。また，本件発明３９は，相違点３０に係る構成を備えることにより，「パターニングされたウエハの表面が平坦化された時を決定することが可能となる。」（本件明細書の【００４５】）という効果を奏するものである。
したがって，「干渉計からの信号が周期信号であることは自明の事項であり，それを解析するためにプロセッサを用いることは通常行われていることである」として，相違点３０に係る本件発明３９の構成が当業者により容易に想到できたものであるとした審決の認定は誤りである。
２被告の反論
審決には，以下のとおり，取り消されるべき判断の誤りはない。(1)取消事由１（光透過性のプラグを研磨パッドに形成する構成に関する容易想到性判断の誤り）に対し
原告は，「光透過性のプラグを研磨パッドに形成すること」について，甲１にも，甲２ないし甲４にも開示されていないから，審決の認定は誤りと主張する。しかし，本件各発明では，「パッドに形成されたプラグ」としているのに対して，甲１発明（２ないし６，８）では，「貫通孔３の溝２側にはめ込まれた透明窓材４」である。ここで，プラグと透明窓材４は，いずれも光ビームを透過する部材であるという点では格別な違いを見出すことができない。したがって，本件各発明と甲１発明（２ないし６，８）の違いは，光ビームを透過する部材を，本件発明９では研磨パッドに形成するのに対して，甲１発明（２ないし６，８）ではプラーテンに相当する定盤１の貫通孔３に設けている点，即ち，光ビームを透過する部材を設ける位置の違いだけである。
また，光ビームを透過する部材を，研磨する部材側に設けることは，甲２ないし甲４より周知事項である。
したがって，甲１発明（２ないし６，８）において，透明窓材４を，研磨パッドに相当する研磨布５に形成することは当業者が容易になし得たものである。また，本件発明９によってもたらされる作用ないし効果は，いずれも甲１発明（２ないし６，８），及び，甲２ないし甲４の記載事項から予測可能なものであって，格別なものではない。原告の主張は失当である。
(2)取消事由２（赤光の範囲を含む「レーザービーム」をウエハに向けて発する構成に関する容易想到性判断の誤り）に対し
相違点７について，ウエハの研磨における終点検知の光としてレーザ光を用いることは，甲２の記載事項に見られるように従来周知の事項である。また，甲５からも終点検知の光としてレーザ光を使用することは周知である。レーザービームの光を何色にするかは，反射する材料やその環境に応じて適宜選択する設計的事項である。
したがって，甲１発明２において，終点検知に用いる光をレーザ光とすることは当業者が容易になし得ることである。
(3)取消事由３（「基板上の表面層の状態の均一性」及び「基板上の表面層の状態の均一性の尺度を計算する」構成及び「干渉計は・・・表面層の状態の均一性の尺度として計算するようにプログラミングされたデータプロセッサとを備える」構成に関する容易想到性判断の誤り）に対し
原告は，相違点１０及び１２について，「基板上の表面層の状態の均一性」及び「基板上の表面層の状態の均一性の尺度を計算する」ことは，容易ではないと主張する。
しかし，甲５の記載事項における「酸化物被膜１４を物理的に平面化するに際して，酸化物被膜１４の厚さを検出する」ことは，「表面層の状態を均一化するに際して，前記表面層の状態の均一性を測定する」ことと言い換えることができるので，審決の判断に誤りはない。


原告の主張する「基板上の表面層の均一性」とは，本件明細書の段落【００５６】において，「典型的には，研磨後の層の厚さが約５～１０％を越えて変動してはならない」と記載されるように，表面層の膜の厚さのバラツキに対応した指標であり，基板上の複数点における膜厚の測定を示していることに他ならない。また，原告は，本件明細書の段落【００５６】から【００６０】の記載事項を引用して，表面層の状態の均一性について縷々主張するが，いずれの主張も甲５記載事項の範囲内に留まるものであり，全く異なる意味での均一性の尺度を意味しているわけではない。
したがって，本件発明１８が与える表面層の状態の均一性は，甲５記載の発明の開示に基づき当業者は容易に想到し得るものである。また，本件発明１９，２０は，本件発明１８を引用しており，相違点１０及び１２に関する判断は上記と同様に解すべきである。また，相違点２３に係る本件発明２７の構成についても，同様の理由により，当業者が容易になし得るものである。
(4)取消事由４（「モニタするステップ」との構成に関する容易想到性判断の誤り）に対し
原告は，本件発明１８ないし２０，２４，２５の「モニタ」において，「モニタ」とは，ＣＭＰプロセスが正常な状態に保たれるように干渉信号を継続して監視することであり，特定の時点において測定や観測することを意味するのではない旨，また，甲５には，レーザー干渉測定装置２８が酸化物の厚さを測定することが記載されているにすぎず，研磨プロセスが正常な状態に保たれるように干渉信号を継続して監視することは記載されていない旨主張する。
しかし，甲５の段落【００２９】には，「このように，本発明の装置及び方法は，平面化工程中，半導体ウェーハの表面の終点又は酸化物の厚さを正確に検出する手段により半導体ウェーハを物理的に平面化することを可能とするものである。」と記載されるように，研磨プロセスが正常な状態に保たれるように干渉信号を継続的に監視していることを示している。
したがって，原告の主張は失当である。
(5)取消事由５（「表面層の状態の均一性の尺度を参考値と比較するステップと，表面層の状態の均一性の尺度が該参考値から所定の量以上広がったときに警告を発するステップとを更に備える」構成，「前記抽出された干渉計波形が前記保存されている情報から所定の量以上広がったとき，警告を発するステップ」を備える構成及び「均一性の尺度を参考値と比較することと，均一性の前記尺度が該参考値から所定の量以上広がったときに警告を発することと，をプログラミングされている」構成に関する容易想到性判断の誤り）に対し
原告は，甲２は，研磨中に均一性の尺度が異常に変化することを全く想定しておらず，プロセス異常性の判断に，表面層の状態の均一性の尺度を用いること等について，何ら示唆がない旨主張する。
しかし，研磨中に異常が発生した場合，警報を発することは，例えば，甲２に見られるように周知の事項であり，異常と判断するためには何らかの閾値を設定し，その閾値と測定値を比較することにより判定することは通常行なわれていることである。
したがって，甲１発明３ないし５において，ウェハ７の表面層の状態の均一性を測定する場合，または，甲５の記載事項に基づき，膜厚のバラツキを測定する場合には，同様に均一性の尺度が参考値から所定の量以上に広がったときに警告を発するようにすることは当業者であれば容易になし得ることであり，原告の主張は失当である。
(6)取消事由６（「干渉信号から干渉計波形を抽出するステップと，・・・前記抽出された干渉計波形を保存されている情報と比較するステップであって，前記保存されている情報は，研磨プロセスに対して望ましい操作のポイントを代表している，前記比較するステップ」との構成に関する容易想到性判断の誤り）に対し原告は，相違点１８に関し，甲１には，シリコン膜の分光反射率のピーク情報を「保存」しておくことは記載されていないし，ましてや「研磨プロセスに対して望ましい操作のポイントを代表している」情報を保存しておくことや，システムが最適に動作しているか否かを決定するために情報を保存しておくことは記載されていない旨主張する。
しかし，一般に，測定を行う場合，関連する情報を保存しておき，測定値を保存されている当該情報と比較し，測定の結果に対する操作の指針を与えることは，甲１の段落【００２９】に記載されているように従来周知の事項である。したがって，原告の主張は失当である。
(7)取消事由７（本件発明２４と甲１発明４に関し，「研磨プロセスの特性を評価する」との相違点を看過した誤り）に対し
原告は，本件明細書の段落【００６８】から【００７１】の記載事項に基づき，「研磨プロセスの特性を評価する」とは，システムが最適に動作しているか否かを決定することであると主張する。
しかし，本件明細書の段落【０００１】では，本件特許発明の属する技術分野について，「本発明は，半導体製造に関し，特に，ケミカルメカニカルポリシング（ChemicalMechanicalPolishing:   CMP）およびCMPプロセス中のインシチュウ（in-situ）終点検出に関する」とあることから，「システムが最適に動作しているか」とは，広義に「研磨状態の終点を正しく検出する」ことに他ならない。したがって，本件発明２４の「研磨プロセスの特性を評価する」とは，甲１発明４の「研磨状態の終点を知る」ことに相当するから，原告の主張は失当であり，審決の判断に誤りはない。
(8)取消事由８（「干渉信号を，オペレータが見ることができるように，視覚的なディスプレイ装置上に表示するステップを更に備える」構成に関する容易想到性判断の誤り）に対し
原告は，「基板から反射されてくる光ビームによって発生する干渉信号をモニタするために，干渉信号を視覚的なディスプレイ装置上に表示することが通常行なわれていることを示す証拠は一切なく，審決の認定は不当である」と主張する。しかし，一般的に検出した信号をオペレータが見ることができるように，視覚的なディスプレイ装置上に表示することは通常行なわれていることは，証拠を出すまでもなく，自明の理である。


したがって，原告の主張は失当であり，審決の判断に誤りはない。(9)取消事由９（「研磨プロセスのインシチュウによるモニタリングを与える，干渉計と，前記干渉計からの周期信号を解析し，該周期信号からの研磨の終点を検出するプロセッサとを備える」構成に関する容易想到性判断の誤り）に対し原告は，甲５には，レーザー干渉測定装置２８が酸化物の厚さを測定することが記載されているにすぎず，研磨プロセスが正常な状態に保たれるように干渉信号を継続して監視するものではないから，干渉計からの信号が周期信号であることは自明なこととして記載されているわけではないし，それを解析するためにプロセッサを用いることも通常行なわれていることの記載も示唆もないと主張する。しかし，甲５記載の「干渉計からの信号が周期信号である」ことは自明の事項であり，それを解析するためにプロセッサを用いることは通常行なわれていることである。また，プロセッサを用いることにより干渉計からの周期信号を解析し，該周期信号から研磨の終点を検出する構成とすることも自明である。さらには，甲５の段落【００２９】には，「このように，本発明の装置及び方法は，平面化工程中，半導体ウェーハの表面の終点又は酸化物の厚さを正確に検出する手段により半導体ウェーハを物理的に平面化することを可能とするものである。」と記載されるように，研磨プロセスが正常な状態に保たれるように干渉信号を継続的に監視していることも示されている。
したがって，相違点３０に係る本件発明３９の構成は，当業者が容易になし得た程度のものである。
第４当裁判所の判断
当裁判所は，以下のとおり，原告主張の取消事由１には理由があり，審決は取り消されるべきものと判断する。
１取消事由１（光透過性のプラグを研磨パッドに形成する構成に関する容易想到性判断の誤り）について
原告は，甲１及び甲２ないし甲４から認定される周知の事項に基づいて，本件発明９と甲１発明２との相違点９，本件発明１８ないし２０と甲１発明３との相違点１１，本件発明２４，２５と甲１発明４との相違点１６，本件発明２７ないし３２と甲１発明５との相違点２１，本件発明３９と甲１発明６との相違点２７，本件発明５２と甲１発明８との相違点３７に係る本件各発明の構成が容易想到であったとはいえず，甲１発明（２ないし６，８）において，「透明窓材４を，研磨パッドに相当する研磨布５に形成することは，当業者が容易になし得たものである」とした審決は誤りである旨主張する。そこで，以下，検討する。
(1)認定事実
ア本件明細書には次の記載がある。   (ｱ)本件訂正後の特許請求の範囲の請求項９，１８ないし２０，２４，２５，２７ないし３２，３９，５２の記載は，上記第２の２のとおりである。(ｲ)発明の詳細な説明には次の記載がある。【００２７】プラーテンホール３０及びウエハ１４の詳細な図（ウエハがプラーテンホール３０の上にある場合の）が，図３（ａ）～（ｃ）に示される。図３（ａ）に示されるように，プラーテンホール３０は，ステップ状の直径を有し，ショルダ３６を形成する。ショルダ３６は，レーザービーム３４のためのウィンドウとして機能するクオーツインサート３８を有してこれを指示するために用いられる。プラーテン１６とインサート３８の間のインターフェースがシールされ，ウエハ１４とインサート３８の間の通り道を見つけようとするケミカルスラリ４０の一部がプラーテン１６の底部から漏出できないようにされている。クオーツインサート３８は，プラーテン１６の上面の上に突出し，部分的にプラーテンパッド１８の中に入り込む。このインサート３８の突出部は，インサート３８の上面とウエハ１４の表面との間のギャップを最小にする意図をもって置かれている。このギャップを最小にすることにより，このギャップに捉えられるスラリ４０の量が最小になる。･･･インサート３８とウエハ１４の間のスラリ４０の層が薄くなるほど，レーザービーム３４とウエハに反射される光の弱化が少なくなる。・・・このギャップはできるだけ小さい方がよいが，ＣＭＰプロセス中はいつでもインサート３８がウエハ１４に接しないことを確保するべきである。・・・
【００２８】図３（ｂ）は，プラーテン１６とパッド１８の別の具体例である。この具体例では，クオーツインサートは排除され，パッド１８には貫通穴は存在しない。・・・ウエハ１４とプラーテン１６の底部との間には，パッド１８のポリウレタンカバー層２２だけが残っている。カバー層２２に用いられるポリウレタン材料が，レーザー干渉計３２からのレーザービームを実質的に透過させるだろうことが，見出されている。従って，プラーテン３０の上にあるカバー層２２の一部が，レーザービーム３４のためのウィンドウとして機能する。この別の構成は，大きな利点を有している。第１に，パッド１８自身はウィンドウとして用いられているため，検出できる大きさのギャップは存在しない。従って，レーザービームの有害な散乱を生じさせるスラリ４０はほとんど存在しない。・・・【００２９】パッドのカバー層に用いられるポリウレタン材料は，レーザービームに対して実質的に透過性を有しているものの，透過性を阻害する添加物を含有している。この問題点は，図３（ｃ）に描かれている本発明の具体例において排除される。この具体例では，プラーテンホール３０の上の領域における典型的なパッド材料は，中実な（ソリッドな）ポリウレタンプラグ４２に置き換えられる。このプラグ４２は，レーザービームのウィンドウとして機能し，パッド材料を包囲するグルーブ（又はオープンセル構造）を有しないポリウレタン材料製であり，透過性を阻害する添加物を含有していない。従って，プラグ４２を通ることによるレーザービームの弱化は最小になる。好ましくは，プラグ４２はパッドと一体で成形される。(ｳ)図３は別紙１のとおりである。
イ甲１には次の記載がある。
【特許請求の範囲】【請求項１】回転する定盤の研磨布の張り付けられた面に，研磨液を滴下しつつ，ウエハ支持板に固定したウエハをウエハ支持板により回転させつつ押し付け研磨する方法において，定盤及び研磨布の回転中心と周縁との間に設けた窓からウエハの研磨面の光の反射状態を見て研磨状態を判定するウエハ研磨方法。


【請求項４】回転装置により回転する定盤と，定盤の表面に張り付けられた研磨布と，定盤の中心と周縁との間の研磨布に対面し軸方向移動可能に配置され，回転装置により回転するウエハ支持板と，定盤の中心と周縁との間の研磨布張り付け面に半径方向に延長して設けた溝と，該溝と一致させ研磨布に設けた研磨布窓と，定盤の前記溝内に設けた貫通孔と，該貫通孔を閉じる透明窓材と，定盤の前記溝を有する面の反対側で貫通孔の回転路に臨ませ配置した，前記の透明窓材を通して光をウエハ支持板に固定したウエハの研磨面に照射しその反射光を受光するプローブと，該プローブに接続した光ケーブルと，光ケーブルに接続した光ケーブルへの光供給装置と反射光観察又は評価装置とを備えているウエハ研磨装置。【０００１】【産業上の利用分野】本発明は，半導体ウエハ，特にＳＯＩ(Silicon-on-Insulator)ウエハ等の膜付きウエハの研磨方法及び装置に関する。【００１３】【作用】本発明方法において，定盤及び研磨布の回転中心と周縁との間に設けた窓からウエハの研磨面の光の反射状態を見て研磨状態を判定すれば，研磨を中断せずに研磨状態の終点を知ることが出来るので，研磨処理の時間を短くでき，装置も簡単で済む。光の反射状態は，光ケーブルでウエハの研磨面に光を照射してその反射光をビデオカメラに用いられている電荷結合素子（ＣＣＤ）を用いた撮像装置で取り，これをブラウン管などの撮像表示装置で表示せしめ，撮像表示装置に現れた干渉縞により厚さを判断する。膜厚の場合，２μｍ以下では旧型の蛍光灯や白熱灯で縞が見え，１μｍ以下では白色灯では虹色の縞が見える。【００１５】本発明の装置において，透明窓材とウエハとの間にできる研磨液の膜を通してウエハの研磨面に照射した光の反射光を観察あるいは評価するのであるが，研磨液は液中に微粒子が懸濁したものであり，光を散乱する性質をもっているので，透明窓材の表面とウエハの研磨面との間の間隔が小さい方が観察あるいは評価に都合がよい。
【００１６】定盤の中心と周縁との間の研磨布張り付け面に半径方向に延長した溝を設けるのは，研磨布にだけ研磨布窓を設けたのでは，研磨液に空気が混じる恐れがあり，空気が混じると観察が困難となるので，研磨液を十分保持できるようにし，空気が混じらないようにするためである。溝に研磨液を十分保持させるため，この溝や研磨布窓は研磨加工に寄与しない領域となるので，ウエハ面内の加工量分布を乱さない形を選ぶ必要があり，定盤の中心から周辺にウエハの研磨面が同一時間で通過するように，定盤の中心から放射状に伸びる近接した２本の直線に囲まれるようにするのがよい。
【００２２】【実施例】図１，図２に示した実施例について説明する。定盤１は直径３００ｍｍ，厚さ１０ｍｍのアルミニウム製の円盤で，その中心の片面に定盤１を回転するための軸が固定してある。定盤１の軸を固定した面の反対側の面には，中心から放射状に伸びる近接した２本の直線で囲まれ，中心付近から周縁近くまで伸びた溝２が設けてある。溝２の中心側の幅は５ｍｍで周縁側の幅は１５ｍｍ，深さ１ｍｍとなっている。溝２の長手方向中央には，直径１０ｍｍの貫通孔３が設けられ，溝２の反対側では円錐状に拡大している。貫通孔３の溝２側にはパイレックス透明ガラス製の透明窓材４が嵌め込まれ，研磨液が漏れないようにしてある。【００２３】定盤１の溝２を有する面には，定盤１と同形の厚さ０.７ｍｍのローデルニッタ社製，商品名suba－500ウレタン含浸ポリエステル不織布からなる研磨布５が張り付けられ，溝２に相当する部分は溝２と同形に切り抜かれて，研磨布窓６が形成されている。透明窓材４は定盤１の表面より約０.５ｍｍ突出するが，研磨布５の弾性を考慮しても研磨布５の表面より十分低くなっている。【００２４】定盤１の溝２の反対側には透明窓材４の回転路に面して研磨するウエハ７の研磨面に光を照射しその反射光を受光するプローブ９が配置されている。プローブ９はピント調節用レンズを内蔵し，光ケーブル１０に接続され，その他端は二股に別れ図示していない分光反射率測定装置と測定用光源に接続されている。【００２５】片面に回転用の軸が固定された直径１１０ｍｍ，厚さ１０ｍｍの円盤状のアルミニウム製のウエハ支持板８に，表面に熱酸化膜を形成した２枚のシリコンウエハを，熱酸化膜を接せしめて接着し，一方のウエハを平面研削して厚さ１５μｍのシリコン膜として直径１００ｍｍのＳＯＩウエハを，平面研削加工していない面をワックスで張り付けた。
【００２６】粒径が０．０１μｍ以下のシリカ粉末を含むアルカリ性溶液からなるローデルニッタ社製，商品名NALCO－2350を２０倍に希釈した研磨液を定盤１の研磨布５の表面に滴下しつつ，定盤１を毎分５０回転させながら，ウエハ支持板８に張り付けたウエハ７を，自転速度毎分４０回転で回転させつつ，研磨布５に，回転中心が透明窓材４の上に位置するように，研磨荷重１０ｋｇｆで押し付けて目標膜厚を１μｍにして研磨を開始した。
【００２７】この条件では，透明窓材４の移動線速度は約５００ｍｍ／秒なので，直径１０ｍｍの透明窓材４を通してウエハ７の中心を測定出来る時間は，１回の通過に付き約１０ｍ秒である。この時間は，波長範囲６８０～８００ｎｍ，分解能１ｎｍで行う分光反射率測定に対して十分であった。測定の参照基準には，同じ条件に置いたシリコンウエハを用いた。(2)判断


ア上記(1)ア   認定の事実によれば，本件発明９，１８ないし２０，２４，２５，２８ないし３２，３９は「パッドに形成された中実な材料からなるプラグ」，本件発明５２は「パッドに形成されたプラグ」との構成を有し，本件明細書の特許請求に範囲の請求項５２の「発泡材料からなり透過性のない研磨面と中実な透過性のウィンドウを有する研磨パッドであり，前記ウィンドウは，該パッドに形成されたプラグであって，赤光の範囲を含む光ビームに対して透過性を有する前記プラグを備える，前記研磨パッド」との記載からすると，本件発明５２の「パッドに形成されたプラグ」は，中実な光透過性のウィンドウであることが認められる。また，本件各発明に係る「パッドに形成された中実な材料からなるプラグ」ないし「パッドに形成されたプラグ」との文言の意義は一義的に明らかでないことから，本件明細書を参照すると，本件明細書には，本件各発明の「ウィンドウ」について，段落【００２７】，図３（ａ）に示される構成（以下「第１の構成」という。），段落【００２８】，図３（ｂ）に示される構成（以下「第２の構成」という。），及び段落【００２９】，図３（ｃ）に示される構成（以下「第３の構成」という。）が開示されていることが認められる。そして，第３の構成において，「プラーテンホール３０」の上の領域におけるパッド材料は「中実な（ソリッドな）ポリウレタンプラグ４２」に置き換えられ，「中実な（ソリッドな）ポリウレタンプラグ４２」は，プラグを通ることによるレーザービームの弱化を最小にし（【００２９】），「プラーテン１６」に固定されるように形成されていない（図３（ｃ））。他方，第１の構成において，「クオーツインサート３８」は，「プラーテン１６」の上面の上に突出し，部分的に「プラーテンパッド１８」の中に入り込み，「レーザービーム３４」のためのウィンドウとして機能するとともに，ケミカルスラリ４０の一部がプラーテン１６の底部から漏出できないようにするものである（【００２７】）が，「クオーツインサート３８」が「プラーテン１６」に固定されている（図３（ａ））ことから，上記「クオーツインサート３８」は，本件各発明における「パッドに形成された」プラグとは認められない。また，第２の構成において，「パッド１８」の「ポリウレタンカバー層２２」は，レーザー干渉計３２からのレーザービームを実質的に透過させるとともに，レーザービームの有害な散乱を生じさせる「スラリ４０」が殆ど存在しないようにするものである（【００２８】）が，中実な材料からなるものではないから，上記「ポリウレタンカバー層２２」が，本件各発明における「中実な材料からなるプラグ」ないし「（中実な光透過性の）プラグ」とは認められない。
そうすると，本件明細書の記載を参酌すれば，当業者は，本件各発明の「パッドに形成された中実な材料からなるプラグ」ないし「パッドに形成された（中実な光透過性の）プラグ」とは，第３の構成のように，プラーテンに形成されることなく，「プラーテンホール３０」の上の領域におけるパッド材料を「パッドに形成された中実な材料からなるプラグ」ないし「パッドに形成された（中実な光透過性の）プラグ」に置き換えた態様のものであると理解すると認められる。イ一方，甲１発明の内容は，上記第２の３(2)ア   記載のとおりである（この点については原告も争わない。）ところ，上記(1)イ認定の事実によれば，甲１記載の発明は，「透明窓材とウエハとの間にできる研磨液の膜を通してウエハの研磨面に照射した光の反射光を観察あるいは評価する」（【００１５】）もので，「研磨布窓６」は，「ウエハ７」の中心が該「研磨布窓６」の上にあるときの一部の間，光のための通路を与えるものであるが，「研磨布にだけ研磨布窓を設けたのでは，研磨液に空気が混じる恐れがあり，空気が混じると観察が困難となるので，研磨液を十分保持できるようにし，空気が混じらないようにするため」に，「定盤１」内に「溝２」が形成され，当該「溝２」には「研磨液を十分保持させる」（【００１６】）ものであることが認められる。また，「貫通孔３」の「溝２」側には，透明ガラス製の中実な材料からなる「透明窓材４」が嵌め込まれ，「プローブ９」からウエハの研磨面へ照射される照射光とその反射光とを通すとともに，研磨液が漏れないようにしている（【請求項４】，【００２２】）ことも認められる。そうすると，甲１発明（２ないし６，８）は，「ＳＯＩウエハ７」をケミカルメカニカルポリシング（ＣＭＰ）により研磨するに際し，赤色の範囲を含む光を「ウエハ７」に向けて照射し，その反射光を観察あるいは評価して，研磨状態の終点を知ることができるようにしたもので，「定盤１」内に「溝２」を形成し，当該「溝２」に研磨液を十分保持させることで，研磨液に空気が混じらないようにして，上記反射光の観察あるいは評価を容易にし，また，「透明窓材４」を上記「溝２」に設けられた「貫通孔３」に嵌め込むことにより，上記「ウエハ７」への照射光とその反射光とを通すとともに，研磨液が漏れないようにしたものといえる。ウ以上のことからすれば，甲１発明（２ないし６，８）において，上記「溝２」に研磨液を十分保持させ，上記「溝２」に形成された「貫通孔３」に，上記「ウエハ７」への照射光とその反射光とを通すためには，透明ガラス製の中実な材料からなる「透明窓材４」を上記「貫通孔３」に嵌め込む構成とするほかはないから，甲１発明（２ないし６，８）において，上記「透明窓材４」の設置位置を「研磨布５」に変更する動機付けがあるとはいえず，むしろ阻害要因があるというべきである。


平成２６年１１月２６日判決言渡同日原本領収    裁判所書記官平成２６年（ネ）第１００８４号補償金請求控訴事件（原審・東京地方裁判所平成２６年（ワ）第６９９５号）
口頭弁論終結日平成２６年１０月２２日
判     決
控訴人                        Ｘ訴訟代   理人弁   護士                  野    中    信    敬同               安    田        修同               橋    本    幸    子同               辻        美    和同               川    見    友    康被控訴   人                  日本電   信電話   株式会   社訴訟代   理人弁   護士                  升    永    英    俊同               江    口    雄一    郎補佐人弁理士                  佐    藤        睦
主     文
１本件控訴を棄却する。
２控訴費用は控訴人の負担とする。
事実及び理由
第１控訴の趣旨
１原判決を取り消す。
２被控訴人は，控訴人に対し，１００万円及びこれに対する平成２６年４月１６日から支払済みまで年５分の割合による金員を支払え。
第２事案の概要
本件は，考案の名称を「テレホンカード」とする実用新案権の設定登録（実用新案登録第２６０７８９９号。以下，この実用新案権を「本件実用新案権」という。）を受けた控訴人が，被控訴人が本件実用新案権の実用新案登録出願の出願公開後その設定登録前である平成１２年６月３０日から設定登録日である平成２２年４月２日までの間に被控訴人が原判決別紙物件目録記載の製品（以下「被控訴人製品」という。）を製造販売し，本件実用新案権に係る考案を実施したとして，被控訴人に対し，平成５年法律第２６号による改正前の実用新案法（以下「旧実用新案法」という。）１３条の３第１項に基づく補償金の一部請求として１００億円の一部である１００万円及び遅延損害金の支払を求めた事案である。
原判決は，本件実用新案権の実用新案登録出願は，分割出願であり，その出願は原出願の時にしたものとみなされるので，本件実用新案権が有効に成立していたとしても，旧実用新案法１５条１項により，控訴人が補償金請求権が発生したとする出願公開日前に本件実用新案権の存続期間が満了したことになり，控訴人が出願公開日以降において本件実用新案権に係る考案につき実用新案登録出願をしたことに基づく権利行使をする余地はおよそなかったというべきであるから，控訴人の主張する補償金請求権の行使は認められないとして，控訴人の請求を棄却した。
控訴人は，原判決を不服として本件控訴を提起した。
１前提事実
控訴人は，平成１１年１２月２０日，Ａ（以下「Ａ」という。）及びＢと共同して，昭和５９年９月５日に出願された実用新案登録出願（実願昭５９－１３４６１１号。以下「本件原々出願」という。）の分割出願である実用新案登録出願（実願平６－５６７５号。以下「本件原出願」という。）の一部を分割して，新たな実用新案登録出願（実願平１１－９６４６号。以下「本件出願」という。）をした（甲１，６，７，１１，１４ないし１６）。本件出願については，平成１２年６月３０日に出願公開がされ，平成２２年４月２日，本件実用新案権として設定登録されたが，同月２１日，本件実用新案権の登録は，平成１１年９月５日存続期間満了を原因として抹消された（甲１，１１）。
本件実用新案権の実用新案登録請求の範囲の請求項１の記載は，以下のとおりである（以下，請求項１に係る考案を「本件考案」という。甲１）。「１．電話機に差し込むことにより電話がかけられるテレホンカードにおいて，このカード本体の一部に，電話機に差し込む方向を指示するための押形部から成る指示部を設けて成り，前記指示部は縦軸または横軸の一方が長く形成される形状の平面を呈し，前記カード本体の外周縁から前記カード本体の内方向にくぼんでいると共に，前記カード本体の直交する２つの中心軸線の夫々から一側にずれ且つ前記カード本体面内で前記平面の長く形成される縦軸または横軸が中心軸線の一にほぼ平行若しくは直交して前記カード本体に配置されており，且つ，前記指示部は目の不自由な者が前記カード本体を電話機に差し込む際，目の不自由な者の指が触れ，前記カード本体の前記電話機に差し込む方向及び表裏を確認し得る位置に配置されていることを特徴とするテレホンカード。」
控訴人とＡは，平成１１年，被控訴人に対し，被控訴人が製造販売するテレホンカードが本件原々出願の実用新案権（実用新案登録第２０５８１０４号）及び本件原出願の実用新案権（実用新案登録第２１５０６０３号）に係る各考案の技術的範囲に属するとして，不当利得返還請求の一部請求として５７０億円の一部である１２５億円及び遅延損害金の支払を求める訴訟（東京地方裁判所平成１１年（ワ）第２４２８０号不当利得返還請求事件。以下「別件訴訟」という。）を提起したが，東京地方裁判所は，平成１２年７月２６日，控訴人らの請求を棄却する旨の判決をし，同判決は，その後，確定
した（甲１０，弁論の全趣旨）
２本件に関する実用新案法の定め
実願昭５９－１３４６１１号）の分割出願である本件原出願（実願平６－５６７５号）の更なる分割出願として出願されたものであり，実用新案法１１条１項において準用する特許法４４条２項本文の規定により，本件原々出願の出願の時にしたものとみなされるから，本件出願の出願日は本件原々出願の出願日である昭和５９年９月５日となる。


そして，平成５年法律第２６号改正附則４条１項は，同法律の施行の際現に特許庁に係属している実用新案登録出願については，上記改正附則３条の規定により改正前の実用新案法の規定が，上記法律の施行後もなおその効力を有する旨規定しており，本件出願には旧実用新案法１３条の３及び１５条が適用される。また，本件出願については，平成６年法律第１１６号の施行前に出願公告をすべき旨の決定の謄本の送達がされていないので，平成６年法律第１１６号改正附則９条１項により出願公告をしないものとされ，旧実用新案法１３条の３第１項，２項及び４項については上記改正附則９条４項（平成１５年法律第４７号による改正後のもの）の委任を受けた特許法等の一部を改正する法律の一部の施行に伴う経過措置を定める政令（平成７年政令第２０５号。ただし，平成１５年政令第３５６号による改正後のもの）により「出願公告」及び「当該実用新案登録出願の出願公告」とあるのはそれぞれ「実用新案権の設定の登録」と読み替えられ，旧実用新案法１５条１項については上記改正附則９条３項により「出願公告の日」とあるのは「その設定の登録の日」とされたことにより，次のとおり規定されていることになる（以下，旧実用新案法１３条の３ないし１５条というときは，以下の読替え後のものをいう。）。
旧実用新案法１３条の３
ア１項
実用新案登録出願人は，出願公開があつた後に実用新案登録出願に係る考案の内容を記載した書面を提示して警告をしたときは，その警告後実用新案権の設定の登録前に業としてその考案を実施した者に対し，その考案が登録実用新案である場合にその実施に対し通常受けるべき金銭の額に相当する額の補償金の支払を請求することができる。当該警告をしない場合においても，出願公開がされた実用新案登録出願に係る考案であることを知って実用新案権の設定の登録前に業としてその考案を実施した者に対しては，同様とする。
イ２項
前項の規定による請求権は，当該実用新案権の設定の登録があつた後でなければ，行使することができない。
ウ３項
第１項の規定による請求権の行使は，第１２条第１項の権利又は第４１条において準用する特許法第１５９条第３項若しくは第１６１条の３第３項において，若しくは第４５条において準用する特許法第１７４条第１項において準用する同法第１５９条第３項において，それぞれ準用する同法第５２条第１項の権利及び実用新案権の行使を妨げない。
エ４項
第２８条，特許法第１０５条，特許法等の一部を改正する法律（平成１５年法律第４７号）第１条の規定による改正後の特許法（以下「平成１５年改正特許法」という。）第６５条第４項，民法第７１９条及び第７２４条（不法行為）の規定は，第１項の規定による請求権を行使する場合に準用する。この場合において，当該請求権を有する者が実用新案の設定の登録前に当該実用新案登録出願に係る考案の実施の事実及びその実施をした者を知ったときは，民法第７２４条中「被害者又ハ其法定代理人ガ損害及ビ加害者ヲ知リタル時」とあるのは，「実用新案登録出願ノ設定ノ登録ノ日」と読み替えるものとする。
旧実用新案法１５条１項
実用新案権の存続期間は，その設定の登録の日から１０年をもって終了する。ただし，実用新案登録出願の日から１５年をこえることができない。
平成１５年改正特許法６５条
ア１項
特許出願人は，出願公開があつた後に特許出願に係る発明の内容を記載した書面を提示して警告をしたときは，その警告後特許権の設定の登録前に業としてその発明を実施した者に対し，その発明が特許発明である場合にその実施に対し通常受けるべき金銭の額に相当する額の補償金の支払を請求することができる。当該警告をしない場合においても，出願公開がされた特許出願に係る発明であることを知って特許権の設定の登録前に業としてその発明を実施した者に対しては，同様とする。
イ４項
出願公開後に特許出願が放棄され，取り下げられ，若しくは却下されたとき，特許出願について拒絶をすべき旨の査定若しくは審決が確定したとき，第１１２条第６項の規定により特許権が初めから存在しなかつたものとみなされたとき（更に第１１２条の２第２項の規定により特許権が初めから存在していたものとみなされたときを除く。），又は第１２５条ただし書の場合を除き特許を無効にすべき旨の審決が確定したときは，第一項の請求権は，初めから生じなかつたものとみなす。
３争点及びこれに関する当事者の主張
争点及びこれに関する当事者の主張は，次のとおり原判決を訂正し，当審における当事者の主張を付加するほか，原判決の「事実及び理由」の第２の３に記載のとおりであるから，これを引用する。
原判決の訂正
ア原判決５頁７行目の「原出願及び原々出願」を「本件原出願の実用新案権及び本件原々出願の実用新案権」と，同８行目の「不当利得返還請求訴訟」を「別件訴訟」とそれぞれ改める。
イ原判決５頁９行目の「原出願及び原々出願」を「本件原出願及び本件原々出願」と，同１０行目の「上記訴訟」を「別件訴訟」とそれぞれ改める。ウ原判決５頁１４行目の「補償金請求権」の前に「控訴人による本件考案の実施について」を加える。
当審における当事者の主張
ア控訴人の主張
原判決は，本件実用新案権につき存続期間が満了していることを理由に，原告主張の補償金請求権の行使を否定したものであるが，原判決の判断は，以下のとおり，誤りである。
補償金請求権と実用新案権は法的性質が異なる別個の権利であること補償金請求権は，実用新案登録出願を行ったこと自体に基づいて認められる権利ではなく，実用新案登録出願の公開を行ったことの効果として，強制的な公開に対する代償を行うべく法が認めた権利であり，実用新案権が発生するに至らない時期の公開に対し保護を与えるべく，旧実用新案法１３条の３で新たに創設された権利である。
旧実用新案法１３条の３第３項は，補償金請求権の行使は，実用新案権の行使を妨げないと規定しており，補償金請求権は，出願公開から実用新案権の設定登録までの間における実施に対して生じるものであって，実用新案権の設定登録後の実施には何ら関係がない。


また，法的性質からも，補償金請求権は，法が特に認めた特別の請求権とする説あるいは不法行為の一態様と捉える説のいずれに立った場合であっても，実用新案権そのものとは全く性質が異なるものである。したがって，補償金請求権は，旧実用新案法１３条の３によって創設された実用新案権とは別個の権利であり，実用新案権に係る存続期間を補償金請求権に適用すべき理由はない。
補償金請求権の行使を否定する根拠規定を欠くこと
旧実用新案法１３条の３第４項において準用する平成１５年改正特許法６５条４項は，「出願公開後に特許出願が放棄され，取り下げられ，若しくは却下されたとき，特許出願について拒絶をすべき旨の査定若しくは審決が確定したとき，第１１２条第６項の規定により特許権が初めから存在しなかつたものとみなされたとき（更に第１１２条の２第２項の規定により特許権が初めから存在していたものとみなされたときを除く。），又は第１２５条ただし書の場合を除き特許を無効にすべき旨の審決が確定したときは」，補償金請求権が初めから生じなかったものとみなす旨規定している。
旧実用新案法１２条３項は，実用新案につき登録すべき理由がなく，登録自体がそもそも無効であり，あるいは登録時に遡及して無効となる場合を限定列挙し，これらの場合には，補償金請求権が初めから生じなかったものとみなす旨規定したものである。
ところで，平成１５年改正特許法６５条４項（現行特許法６５条５項に相当）は，同条１項の補償金請求権は，最終的に特許権の設定登録がある場合以外は，初めから存在しなかったとみなされる旨規定したものと解されており，このことは，特許権の設定登録自体が有効である場合には，特許権の放棄や後発的無効理由により特許権が消滅しても，補償金請求権は消滅しないことを意味するものである（甲１２，１３）。これを敷衍すれば，仮に登録と同時に特許権を放棄したり，後発的無効理由が生じたりすることにより，登録直後から当該発明について独占権が認められない場合であっても，登録自体が有効である場合には，補償金請求権は消滅しないことを意味する。かかる結論は，観念的にどれほど特許権の放棄や後発的無効理由の発生が登録と時的に近接しており，特許権が瞬時に消滅する場合であっても同じであり，登録以前に出願を放棄したりしたものではない以上，特許権が発生後直ちに消滅したとしても，補償金請求権は消滅しないはずである。この理は実用新案権にも妥当するものであり，旧実用新案法１３条の３第４項及び１２条３項が定める事情がなく，本件出願が登録に値する価値があるものとして有効に設定登録まで至っている以上，たとえ補償金請求権の発生直後に存続期間満了により本件実用新案権が消滅したとしても，補償金請求権自体は消滅しないというべきである。一方で，旧実用新案法には，同法１５条の実用新案権の存続期間が満了したときに補償金請求権が初めから生じなかったものとみなす旨の規定は存在しない。
旧実用新案法１３条の３第４項及び１２条３項が，同法１５条が定める存続期間の満了という，実用新案権自体に明確に組み込まれ，当然に予想される終了事由をあえて規定していないのは，補償金請求権の行使期間は同法１３条の３第４項の定める消滅時効により規律することとする趣旨である。補償金請求権の行使期間は，消滅時効により限定することにより，出願人と第三者の利益衡量が図られているため，これとは別個に，補償金請求権について実用新案権の存続期間による制約を課し，利益衡量を行う必要は存しない。のみならず，補償金制度は，出願人に保護を与える一方で，実用新案権そのものほど強力な権利を与えておらず，このことによっても，第三者の利益との調和が図られている。
分割出願の考案及び公開は，原出願とは別個のものであること分割出願した考案は，原出願とは別個の手続の対象とされており，実用新案の公開も，分割出願のたびごとに行われる。旧実用新案法１３条の２は，出願公開につき，実用新案登録出願の日から１年６月を経過したもので，出願公告を行ったものを除くすべてを対象としていたのであり，出願公開前に出願自体が取下げ，却下，放棄，拒絶査定が確定した場合等は格別として，実用新案権の存続期間が満了していても出願公開の対象となるものであり，これにより，新規に公開がされる以上，公開に対する代償は，公開の都度個別に行われる必要が存する。
仮に実用新案権の存続期間満了後は登録によっても，実用新案権のみならず，補償金請求権をも認められないとすれば，存続期間が満了した考案につき，そもそも分割出願を認める意味はない。審査の過大な負担にもかかわらず，存続期間満了後の分割出願による実用新案登録に何らの法的効果も伴わないのであれば，存続期間満了後は分割自体を認めないのが合理的であるが，分割出願の時期的要件を定める旧実用新案法９条１項，特許法４４条１項は，存続期間満了後の分割出願につき何ら制限していない。旧実用新案法が，既に存続期間が満了している考案につき，長期にわたり，人的物的資源を投じて分割要件につき審査を行うのは，単に出願人の主観的満足のためではなく，登録により補償金請求権が発生するからである。出願人が出願料金及び出願審査料金をも支払った上，実用新案登録に値する新規性を有する原出願とは別個の新たな出願につき公開が行われているにもかかわらず，かかる公開に対し，存続期間満了を理由に何らの保護も行われないとすれば，不当である。
本件実用新案権の設定登録が存続期間満了後であったことにつき控訴人
に帰責性はないこと
出願人が分割出願できる場合は，旧実用新案法９条１項，特許法４４条１項により限定されており，控訴人は，本件出願は，本件原出願に対する拒絶査定不服審判請求に合わせて分割出願したものであり，本件原出願の審査の経過に付随して必然的にこの時期にならざるを得なかったものである。そして，本件原出願の審査期間の長短は，控訴人において決し得るものではなく，控訴人が本件原出願の分割出願の時機を失したのは，特許庁が本件原出願の審査に多大な時間を要したためであり，控訴人には何ら責任はない。そもそも，補償金請求権は，審査に多大な時間を要する間，必然的に行われる公開によって，出願の内容が強制的に開示されることにより，登録後の権利行使では取り返しがつかない模倣盗用の被害を被る出願人を保護するための制度であるにもかかわらず，本件のように本件原出願の審査の遅滞により登録までに時間を要し，本件出願について長い出願公開の末，存続期間が満了した場合に，補償金請求権を認めないのは制度趣旨に反する。
そして，本件実用新案権は最終的に登録に至っているにもかかわらず，実用新案権の存続期間が満了したことにより実用新案権を行使し得なくなったことは，控訴人には左右し得ない事由である本件原出願の審査の遅滞が原因であることに加えて，控訴人が，更に補償金請求権まで認められないとすれば，特許庁の審査遅滞により二重の不利益を被ることとなり，甚だ不合理である。
小括


以上によれば，控訴人は，被控訴人に対し，被控訴人による本件考案の実施について旧実用新案法１３条の３第１項に基づく補償金請求権を有しており，その権利行使を妨げるべき理由はないから，その権利行使を否定した原判決は誤りである。
イ被控訴人の主張
実用新案登録出願は，その出願公開（旧実用新案法１３条の２）により，一般公衆に強制的に開示され，第三者は，実用新案権の発生前に実用新案登録出願の内容を知り，実施することが可能となる。そこで，旧実用新案法１３条の３は，出願人の利益と第三者の利益の均衡を図るため，実用新案権が有効に成立していることを前提として，出願公開から実用新案権の設定登録までの間における第三者の実施に対し，実用新案登録出願人に実施料相当額の補償金の請求を認め，実用新案登録出願人の不利益を補填することとした補償金請求の制度を設けた。したがって，実用新案登録が無効である場合や，実用新案権が設定登録の時点でその存続期間が満了している場合は，当該前提を欠くので，仮に実用新案権が登録されたとしても，その補償金請求権は，そもそも，発生しないというべきである。
そして，実用新案法が，出願された考案に独占権を付与した期間経過後の，誰もが自由に考案を実施できる期間（パブリックドメインとなって以降の期間）に，第三者が当該考案を実施したとしても，実用新案登録出願人の不利益は，そもそも存在しない。
また，旧実用新案法は，実用新案権が初めから存在しなかったとみなされたときは，補償金請求権も初めから生じなかったとみなしている（旧実用新案法１３条の３第４項において準用する平成１５年改正特許法６５条４項）。
実用新案登録出願の日から１５年を超えた日以降，実用新案権が存在することはないから（旧実用新案法１５条１項），実用新案登録出願の日から１５年以内に実用新案権の登録がない場合，実用新案権は出願された当初から一瞬たりとも存在することはなく，実用新案権が初めから存在しない場合は，補償金請求権も生じない。
したがって，控訴人主張の補償金請求権は発生していない。控訴人は，分割出願に係る考案は原出願とは別個であること，補償金請求権に消滅時効が認められていることなどを縷々述べて，原判決の判断に誤りがある旨主張している。
しかしながら，原判決は，分割出願に係る考案について，誰もが自由に実施できる期間（パブリックドメインとなって以降の期間）に，第三者が当該分割出願に係る考案を実施したことに対して，補償金請求権は発生しない旨を判示したものであり，補償金請求権の行使が，考案がパブリックドメインとなって以降も許されることは，補償金請求権が生じる対象期間が，考案がパブリックドメインとなって以降の期間を含むことを意味するものではない。
したがって，原判決の判断に誤りはなく，控訴人の上記主張は理由がない。
なお，控訴人は，控訴人の帰責性について縷々主張しているが，原判決は，補償金請求権の行使を認めない理由として，控訴人に帰責性があることを挙げてはいないから，控訴人の帰責性の有無は，無関係である。
第３当裁判所の判断
１争
旧実用新案法１５条１項ただし書は，実用新案権の存続期間は，実用新案登録出願の日から１５年をこえることができないと規定している。実用新案制度は，考案を公開した者に対し，その利用についての独占的な権利である実用新案権を付与することにより，考案を奨励するとともに，第三者に対しても，この公開された考案を利用する機会を与え，もって産業の発達に寄与することを目的とする制度であること（旧実用新案法１条参照）から，旧実用新案法は，その目的を達成するために必要かつ合理的な期間として，実用新案権の存続期間を設け，その存続期間が満了した後は，何人でも自由にその考案を利用することができるようにしたものと解される。一方で，旧実用新案法１３条の３第１項は，早期に考案を公開するという社会的利益を目的とする出願公開制度により公開された考案が，第三者によって実施されることによって出願人が被る不利益を救済するために，その考案が登録実用新案である場合に，その設定登録前の実施に対し通常受けるべき金銭の額に相当する額の補償金請求権を法が特に出願人に認めたものと解される。
そうすると，旧実用新案法１３条の３第１項の補償金請求権に係る考案は，登録実用新案として保護を受けるべき考案であることを前提としているといえるから，補償金請求権を取得できる期間は，実用新案権の存続期間の範囲内であると解される。
１１年１２月２０日，本件原々出願（出願日昭和５９年９月５日）の分割出願である本件原出願の更なる分割出願として出願され，平成１２年６月３０日に出願公開がされ，平成２２年４月２日，本件実用新案権として設定登録されたものであり，本件出願は適法な分割出願と認められ，本件実用新案権の設定登録に至ったものであるから，実用新案法１１条１項において準用する特許法４４条２項本文の規定により，本件出願は，本件原々出願の出願の時にしたものとみなされ，本件出願の出願日は本件原々出願の出願日である昭和５９年９月５日となる。
そうすると，本件実用新案権の存続期間は，旧実用新案法１５条１項ただし書の規定により，本件出願の出願日である昭和５９年９月５日から１５年を経過した平成１１年９月５日をもって満了する。そのため，本件実用新案権の登録は，平成２２年４月２１日，平成１１年９月５日存続期間満了を原上記事実関係の下においては，本件出願は，その現実の出願日である平成１１年１２月２０日の時点で，本件考案が実用新案登録された場合であっても既に実用新案権の存続期間は満了しており，実用新案権を行使することができなかったものであるから，控訴人は，上記存続期間の満了日の後に，本件考案に係る補償金請求権を取得することはできないというべきである。したがって，控訴人が被控訴人に対し被控訴人による平成１２年６月３０日から平成２２年４月２日までの間の本件考案の実施について旧実用新案法１３条の３第１項に基づく補償金請求権を有しているものと認めることはできない。


主          文
被告人を懲役１年２月に処する。
未決勾留日数中２６０日をその刑に算入する。
本件公訴事実中電汽車往来危険，威力業務妨害の点については，被告人は無罪。
理由
【犯罪事実】
被告人は，平成２３年５月１日午後０時１８分ころ，高知市ａ町ｂ丁目ｃ番ｄ号株式会社Ａ「業務用食品スーパーｅ店」において，同店店長Ｂ管理の天然ぶり１パック等４点（販売価格合計９１９円）を窃取したものである。
【証拠の標目】（省略）
【累犯前科】（省略）
【法令の適用】（省略）
【一部無罪の理由】
第１本件の争点
１平成２３年６月２０日付け起訴状記載の電汽車往来危険，威力業務妨害の公訴事実は，「被告人は，平成２２年８月２８日午後１１時５０分ころ，高知市薊野中町３１番地四国旅客鉄道株式会社ＪＲ土讃線薊野駅において，同駅２番線ホームから，軌道上に自転車１台を落とし入れて放置し，そのころ，同所を走行してきた同社高知運転所車両基地発同社ＪＲ高知駅行下り回送列車に前記自転車を衝突させ，同列車を同所付近に停止させて約４６分間運行を遅延させるなどし，もって汽車の往来の危険を生じさせるとともに，威力を用いて同社の列車運行業務を妨害した」というものである。これに対し，弁護人は，被告人が上記犯行を行っておらず，無罪であると主張し，被告人も当公判廷でその旨供述する。
２まず，関係証拠から認められる客観的状況によれば，何者か（以下「本件犯人」という。）が，公訴事実記載の日時に，自転車１台（以下「本件第１自転車」という。）を前記薊野駅ホームから軌道上に落として放置し，前記回送列車に衝突させたこと（以下「本件事件」という。）が容易に推認される（なお，同列車の乗務員が約１０分後に衝突地点に戻ると新たにもう１台の自転車（以下「本件第２自転車」という。）が放置されていた。）。もっとも，本件犯人と被告人を直接結びつける客観的証拠は乏しく，検察官は，主として被告人の自白を内容とする警察官調書，検察官調書及び勾留質問調書（以下「本件自白調書」という。）に基づき，被告人の犯人性を立証しようとする。
これに対し，弁護人は，①被告人は違法なポリグラフ検査の結果に影響されて自白したのであるから，本件自白調書はいずれも違法収集証拠として排除される，また，②被告人は，ポリグラフ検査に不当に影響された上，誘導に迎合して自白したのであるから，本件自白調書はいずれも任意性が認められない，としてその証拠能力を否定する。さらに，③仮に証拠能力があるとしても，上記事情などに照らせば，本件自白調書にはいずれも信用性が認められないと主張する。
３これらの点について，当裁判所は，本件自白調書はいずれも証拠能力は認められるが，高い信用性は認められず，他に被告人の犯人性を裏付けるに足る証拠はないから，上記公訴事実については犯罪の証明がなく無罪であると判断した。以下，その理由を説明する。
第２当裁判所の判断
１本件自白調書の作成経緯
被告人の公判供述，証人Ｃの証言，同Ｄの証言等によれば，本件自白調書の作成経緯について次の事実が認められる。
⑴高知警察署刑事第１課強行犯係長であるＣは，被告人が本件事件の直前に高知駅駅員と揉めごとを起こしていたとの情報を受け，平成２３年５月２５日，判示窃盗の事実で起訴後勾留中であった被告人に対し，本件事件の取調べを行った。この取調べにおいて，Ｃが被告人に昨年起きた高知市内での列車妨害事件を知っているかと尋ねると，被告人は全く知らない旨答えた。
⑵Ｃは翌２６日朝にも事情を聞いたが，被告人はやはり事件を知らないと答えた。そこで，Ｃが，被告人に対し，事件について知っているかどうかを確かめるポリグラフ検査というものがあること，事件を知らないのであればその証明をするためにも検査を受けてもらいたいこと，検査の実施には被告人の承諾が必要であることなどを伝えると，被告人は，検査を受けても構わないと述べ，「私は，ポリグラフによる検査をうけることに承諾します。」との記載がされたポリグラフ検査承諾書と題する書面に署名指印した。
⑶そこで，高知県警察本部刑事部科学捜査研究所文書心理係主任研究員であるＤが，同日午前９時ころから同日正午ころまで，被告人に対するポリグラフ検査（以下「本件検査」という。）を実施することになった。Ｄは，被告人の学歴・病歴の聴取，被告人への検査方法の説明，予備検査などを行った後で検査を実施した。本件検査を通じて，被告人が検査を受けたくないと述べたり，検査に対して抵抗を感じているようなそぶりを見せたりすることはなかった。
⑷Ｃは，本件検査実施後，Ｄから，被告人には本件事件の現場や使用された物などにつき認識があるとの検査結果が出ていると聞き，同日午後２時ころから，被告人に対する取調べを行った。
被告人は，この取調べにおいても，当初全く心当たりがないと弁解した。しかしその後，Ｃが，被告人と高知駅駅員が揉めた事実やその後の被告人の行動について追及していくと，被告人は，本件事件により死傷者が出ていないことをＣに確認した上，薊野駅のホームから軌道上に自転車を落とした旨自白した。
被告人は，上記取調べを始める際，本件検査についてＣに「心臓に悪い，あの検査は嘘発見器やろう，本当はせられんがで。」などと述べたため，Ｃは嘘発見器ではないことを説明した。また，被告人が，「検査終了後に，男の人から，『ちゃんと出ちゅう，昼から刑事さんの取調べがあると思うけど，正直に話はせんといかん。』と言われた。」旨述べたことがあったため，Ｃは検査員がそのようなことを言うはずがないと伝えた。この取調べの中で，Ｃから本件検査の結果に言及したことはない。
⑸その後，上記取調べについて平成２３年５月２６日付け自白調書が作成された。その内容は概ね次のとおりである。
ア事件当日は，一宮駅から列車で高知駅まで行き，高知駅からタクシーで売春宿まで行った。売春宿で遊び，歩いて高知駅に向かっている途中に酒を飲みたくなった。酒を買えば，列車代が足りなくなることは分かっていたが，駅員に頼めば貸してくれるだろうと考え，コンビニエンスストアで日本酒等を購入して飲み食いした。


イその後，高知駅に行き駅員らに列車代を貸して欲しいとしつこく頼んだが，駅員らは貸してくれず，偉そうな物言いをしてきた。駅員らに高知警察署に連れて行かれ，ここでも列車代を貸して欲しいと頼んだが，歩いて帰るよう言われた。そこで，高知駅を北に抜けて歩いて帰っていたが，駅員から金を貸してもらえなかったこと，偉そうに物を言われたことが頭に浮かんで腹が立った。薊野駅の前に自転車が何十台も止まっているのが目に入り，「ＪＲを懲らしめるために，薊野駅のレールに自転車を置いて，汽車が通るのを妨害しよう。」と考えた。
ウそこで，薊野駅北側の小さいお宮さんのそばに止まっていた白っぽい古い自転車を，両手で持ってホームまで運び，レールの方に落とした。自転車はレール上に落ちたのでこのまま列車が通れば自転車に当たり，通行を妨害できると思った。その後，一宮方面に向かって１００から１５０メートルくらい歩いたところで，列車が薊野駅に向かって来た。その直後「ダンダン」「バリバリ」というもの凄い音がしたので，自転車に列車が当たったと思った。
エこの後，薊野駅前に置かれていた別の自転車１台をレールの上に置いて列車が通るのを妨害しようとした記憶がある。自分の記憶では，薊野駅から東の方のレールに自転車を置いたと思うが，もしかしたら記憶違いをしているかもしれない。ただ，薊野駅に止まっていた自転車２台をレール上に置いたことは間違いない。
⑹被告人は，平成２３年５月３０日に本件事件で逮捕され，同年６月１日，勾留されたが，弁解録取や勾留質問においても，自らが本件事件を起こしたことを認めていた。
被告人は，同月２０日にこの事実で起訴されるまで，自白を維持し，被告人の自白調書が順次作成された。これらの調書には，概ね同年５月２６日付けの調書をより詳細にした内容が記載されているが，自転車を落とした回数については，「２台目も落としたかもしれない」「２台目の自転車を置いたかはっきり覚えていない」といった供述に変わっている。
２本件自白調書の証拠能力について
⑴本件自白調書が違法収集証拠として排除されないことア後述のとおり，被告人の知的能力は平均的な水準よりも相当低く，その理解力や判断能力も乏しいと考えられる。しかし，Ｃは，ポリグラフ検査の内容・方法について，「事件を知っているかどうかを確かめるポリグラフ検査というものがある。」という程度の説明しかしないまま，被告人から承諾を得ている。その後，Ｄが被告人に検査方法を説明し，その中で，事件について知らないのであればポリグラフ検査はそのことを明らかにしてくれる旨説明しているが，ポリグラフ検査の仕組みについての説明はなされていない。前記のとおり，検査実施後の取調べ開始の際，被告人がＣに「あれは嘘発見器やろ，本当はせられんがで。」などと，自分が想定していたものとは違う検査を受けさせられたかともとれる発言をしていることからしても，被告人は，ポリグラフ検査がどういうものであるかその趣旨や目的の概要を認識できていなかった疑いがある（被告人の上記発言は，自己の思惑に反して不利益な検査結果が出たと考えて後から文句を言い始めたものと理解する余地もあるが，真に本件検査が自己の事前の理解と異なるものであったという可能性も否定できない。）。
ポリグラフ検査の実施には，単に被検査者との意思疎通が可能であるだけでなく，被検査者が，検査の趣旨や目的の概要を理解した上での承諾をすることが必要であると解され，被告人のように知的能力の低い者については特に慎重な判断が求められるが，以上みたところによれば，被告人においてこのような承諾をしていたと認めることはできず，本件検査は違法であるといわざるを得ない。
イもっとも，前記のとおり，Ｃが被告人に検査を実施するために承諾が必要である旨を伝え，ポリグラフ検査承諾書に署名指印させていることからすれば，被告人は，検査の実施に自らの承諾が必要であることは理解していたと認められる。そして，前記認定事実のとおり，Ｄが検査の前にその方法を説明したり，予備検査を実施したりしていることからすれば，被告人は，遅くとも検査を受ける時点では，ポリグラフ検査がいわゆる「嘘発見器」のようなものであるという程度の認識を有していたことが推認され，にもかかわらず，被告人は不満等を述べることなく検査に協力し，検査を拒否する意思を示していない。また，Ｃらが被告人に検査結果を示すなどして自白を得ようとしていないことなどからすれば，捜査機関に，被告人を騙してポリグラフ検査を受けさせよう，あるいは検査結果を不当な自白獲得に利用しようなどという意図はなかったと認められる。このような事情に照らせば，本件検査について，違法収集証拠として排除する程の重大な違法があったとはいえない。そして，このことからすれば，本件自白調書も違法収集証拠として排除されるものではない。
⑵本件自白調書に任意性が認められること
まず，弁護人が指摘するポリグラフ検査の影響については，そもそも検査結果を曲げて告知したり，検査の正確性を過度に強調したりしない限り，ポリグラフ検査の結果を告げて自白を得ても任意性に疑いを生じさせるものとは解されない上，検査後に直接取調べに当たったＣは，被告人に検査結果を一切告げていない。前記認定事実のとおり，被告人は，Ｃに対し「検査終了後に，男の人から『ちゃんと出ちゅう，昼から刑事さんの取調べがあると思うけど，正直に話はせんといかん。』と言われた。」旨述べているが，仮にＤ等が被告人にこのように述べたとしても，検査結果を曲げて告知したり，検査の正確性を過度に強調したりするものではなく，これ自体で直ちに任意性を疑わせる事情には当たらない。
また，取調べにおける誘導についても，これが全くなかったとまでは認められないものの，本件自白調書には，自転車の色，本件第２自転車の放置場所などについて捜査機関が把握していた事実と異なる内容がそのまま記載されていることなどを考えると，少なくとも被告人を執拗に誘導することはなかったと認められる。
ほかに，強制，脅迫など，本件自白調書の任意性を疑わせる事情は存在せず，本件自白調書はいずれも任意性が認められる。
３本件自白調書の信用性について
⑴自白の経緯をみると，被告人は，平成２３年５月２５日に初めて本件事件の取調べを受けた際は犯行を否認したが，翌２６日には自白し，その後起訴されるまでこの自白を維持したものであり，被告人に対する強制，脅迫，執拗な誘導などは存しない。また，被告人は，現行犯人逮捕された判示窃盗についてすら，捜査の初期の段階では，署名した自白調書の指印を拒否して一時否認に転じるなどしており，このような態度からは，捜査機関への迎合的な傾向は窺われない。
自白の内容をみると，本件自白調書は，犯行に至るまでの経緯や犯行態様につき詳細かつ自然な記述となっている。また，被告人が本件自白調書で述べる犯行動機の基礎となった駅員との揉めごとや，被告人が本件事件の発生に近い時間帯に現場付近を通ったことは，関係証拠からも裏付けられる上，被告人が述べる本件第１自転車の施錠状況や形状は客観的証拠に概ね符合する。


このような自白の経緯，被告人の性質，自白の内容からすれば，本件自白調書の信用性を肯定できるようにも思われる。
⑵しかしながら，次のような事情も踏まえると，本件自白調書はいずれも高い信用性を認めることはできない。
ア被告人は，平成２１年２月に実施した知能検査において，知能指数が４９であり，知的障害がある旨診断されている。また，当公判廷においても，質問者への迎合的な傾向は見られないものの，そもそも質問を理解できなかったり，質問に対応しない回答をしたり，あるいは，供述を変遷させて相矛盾する発言を繰り返し，その中で自らに不利に働く内容をその自覚を欠いたまま話したり，客観的事実に反する内容を作話したりしている（なお，検察官は，被告人が質問内容を的確に理解して回答し，その供述内容もおおむね整然として要領を得たものであったと主張するが，このような評価は，被告人質問で受けた当裁判所の心証とは合致しない。）。上記診断結果や被告人の公判廷での言動からは，被告人の知的能力は平均的水準よりも相当低く，質問の意図や自分にとっての利害得失を理解する能力が乏しい上，これを十分に理解しないまま，場当たり的かつ短絡的に供述する傾向があることが窺われる。このような被告人による供述の意図や言動を合理的に説明することは困難であり，強制，脅迫，執拗な誘導などがない場合に虚偽の自白をすることはないであろうといった経験則を，能力的な問題のない者の場合と同様に当てはめて考えることはできない。前述のとおり，被告人には迎合的な傾向は窺われないものの，前記認定事実によれば，本件では，自らに不利な内容のポリグラフ検査結果が出たことを認識していた可能性がある上，Ｃから事件当日の行動について追及される中で自白に至っている。このような状況に加え，自白する直前には，本件事件による死傷者がいないことをＣに尋ねて認識しているのであり，被告人の前記特性を考えると，犯行を認めても大した罪にはならず，刑期がさほど延びることもないだろうなどと考え，その場を逃れるため，場当たり的に自白に至り，かつ，これを維持したとしても不自然とまではいえない。
イまた，本件自白調書に秘密の暴露といえるものはない。自白内容も，本件事件の基本的な情報さえ与えられれば，薊野駅の状況を知っている被告人が想像により補って供述することも可能と考えられるものであり，被告人との結びつきを強く裏付ける客観的証拠は存在しない（なお，Ｃは，犯行自体については一切誘導していない旨の証言をするが，捜査機関に有利な方向に誇張して証言している面も窺え，誘導が全くなかったとまで認めることはできない。）。
さらに，本件自白調書によれば被告人において指紋が付かないよう注意していたわけでもないのに，自転車から対照可能な指紋は検出されなかった。
そして，現場の状況からすれば，本件第２自転車は，本件犯人が，本件事件直後に軌道上に落としたものであることが明らかであるが，被告人は，当初，自転車２台を線路に置いたのは間違いないと供述するものの，２台目を落とした方法等をほとんど供述せず，その後，２台目の自転車を置いたかはっきりとした記憶はないなどと供述を変遷させている。本件犯人は，列車乗務員が戻ってきたり列車と本件第１自転車の衝突により大きな音がして人が来たりする危険のある状況のもと，駅外にあった本件第２自転車を引いて高さ２．３メートルのスロープを上がり，ホームまで運んで落とすなど，相当の労力をかけてこの行為を行ったと考えられるから，かかる行為は，本件犯人にとって印象深く，他の事実と混同しにくい事柄であると考えられる。しかも，被告人は，本件当日における犯行に至るまでの行動や犯行状況を一連の流れとして途切れることなく詳細に供述している。これらの事柄をこれほど明瞭に記憶していながら，本件第２自転車を落としたか否かについての記憶がないということは，被告人の前記特性を考慮したとしても，なお考え難い。
したがって，上記のような供述の変遷は明らかに不自然であり，これが本件犯行自体と密接に関連する行動についてのものであることを考えると，本件自白調書全体の信用性を揺るがす事情というべきである。⑶以上のとおり，被告人の特性を考慮すれば，その場を逃れるため，場当たり的に自白に至り，かつ，これを維持したとしても不自然とはいえないことに加え，本件自白調書の信用性を裏付ける客観的証拠が十分でないこと，本件自白調書に不自然な内容及び供述の変遷があることに照らすと，被告人が犯行を認めた本件自白調書は，いずれも高い信用性を認めることはできない。
検察官は，上記に検討した点のほか，本件自白調書が本件検査の分析結果と符合することなども指摘する。しかしながら，ポリグラフ検査の分析結果の証明力については慎重な吟味を要するところ，本件検査においては，弁別的な生理反応があるか否かを分析する検査者自身が裁決項目を認識して検査に臨んでおり，被検査者の反応やその分析から検査者自身の先入観による影響を取り除くための措置が十分に採られておらず，検査結果についても，脈波に特徴的な生理反応が出ている理由を検査者が説明できない部分があり，このような点を踏まえると，上記分析結果の証明力は限定的であって，本件自白調書の信用性を高度に保障するとはいい難い。
なお，前記分析結果を踏まえたとしても，それは被告人が「薊野地域のホームで線路に自転車を置いた列車の走行妨害事件があったこと」を認識していた蓋然性が高いことを示すにとどまる（検察官は，走行妨害の回数につき被告人が確定的な認識を持っていないことを示したとも主張するが，鑑定結果によれば，裁決項目及び特定の質問項目に対する認識の有無を推定できないとされているのみである。）。上記認識の限りで，本件自白調書と符合するというのは検察官主張のとおりであるが，かかる認識はそれ自体が本件犯行の自白ではない。そこで，そのことが自白の信用性にどのように影響するかを検討する必要があるところ，確かに被告人が犯人であれば，上記事実の認識や，その認識について虚偽を述べたことを整合的に説明できるものの，証拠上，被告人が上記事実を他の方法により知った可能性は排除できないし，被告人の前記特性も踏まえれば，もし他の方法により知ったのであれば最初からそう述べるはずだという通常の経験則を被告人にそのまま適用してよいのか躊躇を覚えるところである。以上のことからも，本件自白調書に高い信用性を認めることができるとまではいえない。
４結論
このように本件自白調書はいずれも高い信用性が認められず，他に被告人の犯人性を裏付けるに足る証拠はないから，本件公訴事実中，電汽車往来危険，威力業務妨害の点については犯罪の証明がなく，刑事訴訟法３３６条により無罪の言渡しをする。
【量刑の理由】


平成２６年１１月２８日判決言渡同日原本交付    裁判所書記官平成２６年（ワ）第７６７号商標権侵害差止請求事件
口頭弁論終結日平成２６年１０月１７日
判                  決
名古屋市中区＜以下略＞
原告     興和株   式会社
同訴訟   代理人   弁護士      北原潤一同                            江幡奈同                            梶   並   彰一郎同訴訟   代理人   弁理士      高   野   登志雄
福井県あわら市＜以下略＞
被告     小林化   工株式   会社
同訴訟   代理人   弁護士      飯田秀郷同                            栗宇一樹同                            大友良浩同                            隈部泰正同                            和   氣   満美子同                            森山航洋同                            奥津啓太同                            清水紘武
同補佐   人弁理   士    水野勝文
同                            岸田正行同                            和田光子同                            保明弘
主                  文
１原告の請求をいずれも棄却する。
２訴訟費用は原告の負担とする。
事実及   び理由
第１請求
１被告は，   別紙被告標章目録記載１ないし３の各標章を付した薬剤を販売してはならない。
２被告は，前項記載の薬剤を廃棄せよ。
３仮執行宣言
第２事案の概要
１前提事実（証拠を掲げていない事実は当事者間に争いがない。）
(1)当事者
原告及び被告は，いずれも医薬品等の製造・販売等を業とする株式会社である。
(2)原告の有する商標権
原告は，別紙商標権目録記載の商標権（以下「本件商標権」といい，本件商標権に係る登録商標を「本件商標」という。）を有する。
(3)被告の行為等
ア被告は，以下の薬剤を販売している。
(ｱ)別紙被告標章目録記載１の標章（以下「被告標章１」という。）を付した「ピタバスタチンＣａ錠１ｍｇ『ＭＥＥＫ』」という薬剤（以下「被告商品１」という。）。
(ｲ)別紙被告標章目録記載２の標章（以下「被告標章２」という。）を付した「ピタバスタチンＣａ錠２ｍｇ『ＭＥＥＫ』」という薬剤（以下「被告商品２」という。）。
(ｳ)別紙被告標章目録記載３の標章（以下「被告標章３」といい，被告標章１ないし３を併せて「被告各標章」という。）を付した「ピタバスタチンＣａ錠４ｍｇ『ＭＥＥＫ』」という薬剤（以下「被告商品３」といい，被告商品１ないし３を併せて「被告各商品」という。）。イ被告各商品は，いずれも，原告が「リバロ」という商標を付して販売しているピタバスタチンカルシウムを有効成分とするコレステロール低下薬（以下「原告商品」という。）の後発医薬品である。２本件は，原告が，被告各標章を付した被告各商品を販売する被告の行為は原告の有する本件商標権を侵害するものであると主張して，被告に対し，本件商標権に基づき，被告各標章を付した被告各商品の販売の差止め及び廃棄を求めた事案である。
３争点
(1)本件商標と被告各標章との類否
(2)被告各標章の表示が商標的使用に当たるか
(3)被告各標章の表示が普通名称の表示（商標法２６条１項２号）に該当するか(4)本件商標の商標登録は商標登録無効審判により無効にされるべきものかア本件商標が「公の秩序又は善良の風俗を害するおそれがある商標」（商標法４条１項７号）に該当するか
イ本件商標が「商品の品質の誤認を生ずるおそれがある商標」（商標法４条１項１６号）に該当するか
(5)本件商標権に基づく請求は権利の濫用に当たるか
第３争点に関する当事者の主張
１争点(1)（本件商標と被告各標章との類否）について
〔原告の主張〕
本件商標は，標準文字「ＰＩＴＡＶＡ」であり，欧文字「ＰＩＴＡＶＡ」からなる外観を有し，「ピタバ」との称呼を生じるが，特段の観念は生じない。被告各標章は，その外観が片仮名で「ピタバ」であり，その称呼も「ピタバ」であって，特段の観念が生じない。
そうすると，本件商標と被告各標章は，外観こそ欧文字と片仮名で異なるが，称呼は同一であり，特定の観念を生じない点でも同一である。したがって，被告各標章は，本件商標に類似する。
〔被告の主張〕
本件商標と被告各標章が称呼において類似することは認めるが，被告各標章が「ピタバ」との称呼を生じ，特段の観念は生じないとの点は否認する。医薬品において，「ピタバ」からは「ピタバスタチン」あるいは「ピタバスタチンカルシウム（ピタバスタチンＣａ）」という観念を生じさせ，被告各標章についてもかかる観念が生じている。
２争点(2)（被告各標章の表示が商標的使用に当たるか）について
〔原告の主張〕
(1)被告各商品たる錠剤の「ピタバ」の表示は，商標的使用に該当する。(2)被告各商品のような医療用医薬品の場合，医師・薬剤師等の医療関係者のみならず，当該医薬品を服用し，またはその投与を受ける患者も，自らの意思と支出において当該医薬品を購入するものであるから，医師・薬剤師等の医療関係者のみならず，患者も当該医薬品の取引者・需要者に当たるというべきである。
(3)「ピタバ」や「ＰＩＴＡＶＡ」は，取引者・需要者，特に患者において，「pitavastatincalcium」・「ピタバスタチンカルシウム」の略称であるとは認識されておらず，被告が証拠として提出する文献等をみても，かかる認識がされていることは何ら示されていない。
(4)被告各商品たる錠剤の「ピタバ」の表示は，患者等の目に触れるものであり，その表示は自他商品識別機能を奏している。
この点に関して被告は，あたかもＰＴＰシートの表示において自他商品識別機能が奏されているから，錠剤の「ピタバ」の表示は自他商品識別機能を奏しないかのように主張する。


しかし，そもそもパッケージの表示が自他商品識別機能を奏するからといって，錠剤の「ピタバ」の表示が自他商品識別機能を失うわけではない。患者が被告各商品を購入する場合には，ＰＴＰシートに包装された状態で，あるいは，「一包化調剤」，すなわち，あるいはＰＴＰ包装から取り出された錠剤と被告各商品以外の他の錠剤やカプセル剤とを一つの透明な袋にまとめた状態で交付される。一包化調剤の場合，患者は当然，錠剤の「ピタバ」の表示を視認することができ，ＰＴＰシートに包装された状態で交付される場合であっても，ＰＴＰシートの表面のプラスチックカバーが透明であることから，患者はＰＴＰシートの中身である錠剤の「ピタバ」の表示を視認することができる。さらに，患者は，被告各商品の購入後，使用（服用）時においても，錠剤の「ピタバ」の表示を視認することになる。このように，被告各商品の「ピタバ」の表示は，患者等の目に触れるものであり，自他商品識別機能を奏するものである。
これに対して被告は，錠剤に「ピタバ」と印字あるいは刻印をしている理由として，服用者が服用する際に他の薬剤と間違えて誤飲することを防ぐためであると主張するが，その主張はまさに自他商品識別機能を奏するための表示を意味するものにほかならない。
(5)さらにいえば，患者が被告各商品の「ピタバ」の表示を有効成分の表示であると認識するとは考え難い。すなわち，患者は，自らの症状を治すために，薬剤の効果や副作用について興味は持つことはあるとしても，当該薬剤の有効成分についてその名称が何であるかということには興味も知識も持っていないのが通常である。また，医師・薬剤師も，患者に対して薬剤を処方等するに際し，薬剤の効果や副作用について説明することはあるとしても，当該薬剤の有効成分の名称が何であるかを説明することはほとんど皆無である。そうすると，患者は，被告各商品の有効成分の名称が何であるかといったことについて興味も知識もないまま，被告各商品の「ピタバ」の表示に接したとき，それが薬剤の有効成分を示すものであると認識するとは考えられず，むしろ，被告各商品の商品名に関する表示であると認識するのが自然である。
〔被告の主張〕
(1)被告各商品たる錠剤の「ピタバ」の表示は，商標的使用に該当しない。(2)「ピタバスタチン」（Pitavastatin）（あるいは「ピタバスタチンカルシウム」（pitavastatincalcium））は，医薬品の一般名称である。「ピタバスタチン」（Pitavastatin）は，世界保険機構（WorldHealthOrganization。以下「ＷＨＯ」という。）が定める医薬品の   国際一般名（InternationalNonproprietaryNames，略称「ＩＮＮ」）として登録されており，また，「ピタバスタチンカルシウム」（pitavastatincalcium）は厚生労   働省が   定める   医薬品   一般的   名称（   JapaneseAccepted    NamesforPharmaceuticals，略称「ＪＡＮ」）として定められている。医薬品一般的名称（ＪＡＮ）や国際一般名（ＩＮＮ）は，医薬品における非独占的・一般的な名称である。有効成分を含む医薬品，特に医療用後発医薬品においては，同一の有効成分を含むにもかかわらず数多くの異なる商品名で販売されるとすると，どのような有効成分を含む何のための医薬品であるかが不明となり混乱を招くことが多い。そこで，医療側の誤った処方や投与，患者側の誤飲等の医療事故を防止するために，一つの物質に指標となる標準的な名称を付して一般名称としている。そして，医療用後発医薬品においては，医薬品の販売名等の類似性に起因した医療事故を防止するために，販売名について，①含有する有効成分に係る一般的名称に剤型，含量，会社名（屋号等）を付し，②申請品目が日本薬局方に収載されている場合は，原則として，一般的名称は日本薬局方に収載されている名称を用いることとされているところ，「ピタバスタチンカルシウム」は，第十六改正日本薬局方の第二追補に収載されている。
したがって，医療用後発医薬品においては，その販売名に自由な商標を付することが許されていないのであり，「ピタバスタチンカルシウム」を有効成分とする医薬品は，一般名称である「ピタバスタチンカルシウム」を販売名に付さなければならないとされているのである。
(3)医薬品において「ＰＩＴＡＶＡ」・「ピタバ」は，「pitavastatincalcium」・「ピタバスタチンカルシウム」の略称である。
本件商標「ＰＩＴＡＶＡ」は，医薬品の一般名称「ピタバスタチンカルシウム」の国際一般名「pitavastatin」からコレステロール値を下げる薬の総称の一つである「statin」）（スタチン）を除外した名称であるが，コレステロール低下薬として有名な「スタチン系」に属する「ピタバスタチン」においては，「ピタバ」が略称として使用されており，ほかに特許公開公報等や，その他の文献でも同様に「ピタバ」が略称として使用されている。さらにいえば，原告が特許庁に対し，片仮名文字「ピタバ」について商標登録願を提出したが，特許庁は，「ピタバ」の文字が「ピタバスタチンカルシウム」又は「ピタバスタチン」の略称として使用されているとして，拒絶理由を通知した。
また，原告が本件商標について商標使用許諾契約を締結したキョーリンリメディオ株式会社において，その製品パンフレットには，「Point３」として「一錠毎に成分名と含量を表示」と記載されているところ，同社の錠剤には「ピタバ」と表記されており，「ピタバ」が「ピタバスタチン」という成分名を指すものであることが明記されている。
(4)錠剤に名称や略称を印刷若しくは刻印する方法は，製薬業界において一般的に行われている。
(5)被告各商品はいずれも錠剤であり，そのパッケージには「ピタバスタチンＣａ錠１ｍｇ    『ＭＥＥＫ』」，「ピタバスタチンＣａ錠２ｍｇ    『ＭＥＥＫ』」，「ピタバスタチンＣａ錠４ｍｇ    『ＭＥＥＫ』」と表示されているが，商標としての自他商品識別機能は，「ＭＥＥＫ」の部分にある。「ピタバ」と印字あるいは刻印をしているのは，服用者が服用する際に他の有効成分の薬剤と間違えて誤飲することを防ぐためであり，商標的機能，すなわち自他商品識別機能を奏するためではない。
(6)この点に関して原告は，医師・薬剤師等の医療関係者のみならず患者も取引者・需用者に当たると主張する。


しかし，医療用医薬品であり，処方せん医薬品に該当する被告各商品は，薬事法４９条１項によって，病院，診療所，薬局等への販売（授与を含む。）する場合を除いては，医師等からの処方せんの交付を受けた者以外の者に対して，正当な理由なく販売を行ってはならないとされているから，被告各商品を任意に選択して購入することが可能なのは病院，診療所，薬局等が購入する場合に限られ，これらの者が取引者・需要者に該当するということができる。その一方で，患者は，医師の処方指示にしたがって，被告各商品を購入するにすぎない。したがって，本件商標の自他商品識別機能を検討するに際して，被告各商品に関しては，患者は取引者・需要者には該当しないというべきである。また，被告各商品を購入する需用者・取引者に対しては，既に錠剤のパッケージ等の表示において自他商品識別機能を奏しているから，服用者がこれをパッケージから取り出して服用する際に錠剤に印字あるいは刻印された「ピタバ」を見たとしても，それは誤飲防止のために錠剤の医薬としての有効成分を確認する意味を有するにすぎない。
(7)以上のとおり，被告は「ピタバ」を商標的に使用していないから，被告各標章を被告各商品に付して販売する行為は本件商標権を侵害するものではない。
３争点(3)（被告各標章の表示が普通名称の表示（商標法２６条１項２号）に該当するか）について
〔被告の主張〕
前記２〔被告の主張〕(2)ないし(4)の事実によれば，被告各商品における「ピタバ」の表示は，いずれも商品の品質，すなわち「ピタバスタチン」を有効成分とする医薬品であることを，普通に用いられる方法で表示するものであるから，商標法２６条１項２号により，本件商標権の効力を及ぼすことはできない。
〔原告の主張〕
被告各商品のような医療用医薬品の場合，医師・薬剤師等の医療関係者のみならず，患者もその取引者・需要者に当たるというべきである。そして，被告が提出するいずれの証拠を検討しても，「ＰＩＴＡＶＡ」あるいは「ピタバ」は，需用者・取引者，とりわけ患者において，「pitavastatin」・「ピタバスタチン」（あるいは「pitavastatincalcium」・「ピタバスタチンカルシウム」）と認識されていることを示すものではないとはいえない。したがって，「ＰＩＴＡＶＡ」・「ピタバ」は「pitavastatin」・「ピタバスタチン」（あるいは「pitavastatincalcium」・「ピタバスタチンカルシウム」）の略称ではないから，被告の上記主張は失当である。４争点(4)ア（本件商標が「公の秩序又は善良の風俗を害するおそれがある商標」（商標法４条１項７号）に該当するか）について
〔被告の主張〕
医薬品一般的名称（ＪＡＮ）や国際一般名（ＩＮＮ）は，医薬品における非独占的・一般的な名称である。その趣旨は，有効成分を含む医薬品，特に医療用後発医薬品においては数多くの異なる商品名で販売されると，有効成分を記載しなければ何のための医薬品であるのかについて混乱を招くことが多く，医療側の誤った処方や投与，患者側の誤飲等の医療事故を防止するため，一つの医薬に指標となる標準的な名称を付している。
そのため，国内の医療行政においても，医療用後発医薬品に関しては，医薬品の販売名等の類似性に起因した医療事故を防止するため，販売名について，①含有する有効成分に係る一般的名称に剤型，含量，会社名（屋号等）を付すこと，②申請費目が日本薬局方に収載されている場合は，原則として，一般的名称は日本薬局方に収載されている名称を用いることとされている。したがって，医薬の有効成分の一般名称を商標登録して独占権を与えることは，国際的及び国内的な社会秩序に反するものであるから，かかる商標権は公序良俗に反するものである。
これを本件についてみると，本件商標は，これに接する需用者・取引者に普通名称である「pitavastatin」の略称であると容易に理解され，医薬品の国際一般名と同一視し得るから，公序良俗に反する商標であることが明らかであり，商標法４条１項７号違反の無効理由（同法４６条１項５号）が存する。
〔原告の主張〕
本件商   標が，   これに   接する   需要者   ・取引   者にと   って普   通名称   である「pitavastatin」の略称であると容易に理解されるとは認められず，これを医薬品の国際一般名と同一視することはできないから，本件商標は公序良俗に反する商標ではない。
５争点(4)イ（本件商標が「商品の品質の誤認を生ずるおそれがある商標」（商標法４条１項１６号）に該当するか）について
〔被告の主張〕
「pitavastatin」は国際一般名（ＩＮＮ）に登録されて，誰もが使用できる名称となっているものであるから，「pitavastatin」・「ピタバスタチン」（あるいは「pitavastatincalcium」・「ピタバスタチンカルシウム」）は，医薬品において自他商品識別力を有しない普通名称である。そして，スタチン系の成分として，「スタチン」という用語を除外した部分を略称として使用することは一般的に行われており，「ＰＩＴＡＶＡ」は普通名称である「pitavastatin」・「ピタバスタチン」あるいは「pitavastatincalcium」・「ピタバスタチンカルシウム」の略称である。そうすると，本件商標である「ＰＩＴＡＶＡ」を「pitavastatin」・「ピタバスタチン」（あるいは「pitavastatincalcium」・「ピタバスタチンカルシウム」）以外の有効成分とする薬剤やそれ以外の医薬品に使用すれば，需用者・取引者において，「pitavastatin   」・「ピタバスタチン」（あるいは「pitavastatincalcium」・「ピタバスタチンカルシウム」）を有効成分である薬剤であると認識し，品質の誤認を生ずるおそれがあることは明らかである。したがって，本件商標は，商標法４条１項１６号違反の無効理由（同法４６条１項５号）が存する。
〔原告の主張〕
取引者・需要者において本件商標である「ＰＩＴＡＶＡ」は「ピタバスタチン等」や「pitavastatin等」の略称であるとは認識されていないのであるから，「ピタバスタチン等」または「pitavastatin等」以外を有効成分とする薬剤に「ＰＩＴＡＶＡ」を使用したとしても，「ピタバスタチン等」または「pitavastatin等」を有効成分とする薬剤であると認識するとはいえない。６争点(5)（本件商標権に基づく請求は権利の濫用に当たるか）について
〔被告の主張〕


(1)本件商標には，次の二つの無効理由も存する。ア原告は，ピタバスタチンカルシウムを有効成分とする医薬品として，２００３年発売開始以来現在まで「リバロ」の商品名で販売を継続しており，それが既に原告商品の商品名として確立された名称となっているが，その一方で，原告は「ＰＩＴＡＶＡ」若しくは「ピタバ」なる商品名で医薬品の販売をしておらず，使用している形跡もないし，また，その商品名に変更することも考えられない。
したがって，原告は，「ＰＩＴＡＶＡ」を自己の業務に係る商品に使用しておらず，使用しないことも明らかであるから，本件商標は，商標法３条１項柱書違反の無効理由が存する。
イ医療用後発医薬品の販売名は，自由に商標を付すことが許されておらず，「ピタバスタチンカルシウム」を有効成分とする医薬品の場合には，一般的名称である「ピタバスタチンカルシウム」を販売名に付さなければならない。
そして，「ＰＩＴＡＶＡ」は一般名称である「pitavastatin」・「ピタバスタチン」あるいは「pitavastatincalcium」・「ピタバスタチンカルシウム」の略称であり，需用者・取引者に「ピタバスタチンカルシウム」を容易に想起させる。
また，錠剤に名称又はその略称を印刷若しくは刻印する方法は，製薬業界において一般的に行われている。
したがって，本件商標は「pitavastatin」・「ピタバスタチン」（あるいは「pitavastatincalcium」・「ピタバスタチンカルシウム」）を有効成分とする医薬品の商標として使用する場合は，単に商品の品質を普通に用いられる方法で表示する標章のみからなる商標であるから，商標法３条１項３号違反の無効理由が存する。
(2)上記(1)の無効理由はいずれも本件商標の登録から５年を経過しており，無効審判を請求することができない（商標法４７条１項）が，明らかな無効理由がある商標権に基づく請求は，権利濫用として許されないというべきである。
(3)さらに，上記(1)の明らかな無効理由があることに加えて，①「ピタバスタチン」（pitavastatin）は医薬品の国際一般名（ＩＮＮ）として登録され，「ピタバスタチンカルシウム」（pitavastatincalcium）は厚生労働省が定める医薬品一般的名称（ＪＡＮ）として定められていること，②医療用後発医薬品の販売名は，自由な商標を付すること自体が許されていないこと，③原告は，平成１５年発売開始以来現在までピタバスタチンカルシウムを有効成分とする医薬品を「リバロ」なる商品名で販売を継続しており，それが既に原告商品の商品名として確立された名称となっている一方で，平成１８年に本件商標登録がされて以降「ＰＩＴＡＶＡ」若しくは「ピタバ」なる商品名で医薬品の販売をしていないこと，④超高齢化社会へ向けて医療財政の健全化及び患者の負担軽減は喫緊の課題であり，後発医薬品の普及はその一助となるにもかかわらず，これと逆行するものは厳格に取り扱われるべきであること，等の事情に鑑みれば，本件商標権に基づく請求は，権利濫用として許されないというべきである。
〔原告の主張〕
いずれも否認ないし争う。
被告は，本件商標に関し商標法３条１項柱書違反を主張するが，製薬会社である原告は，自ら本件商標を使用する意思をもって，指定商品を薬剤として，本件商標を出願して登録を受けたものであるから，被告の上記主張は理由がない。
また，被告は，「ＰＩＴＡＶＡ」は一般的名称である「pitavastatin」・「ピタバスタチン」（あるいは「pitavastatincalcium」・「ピタバスタチンカルシウム」の略称であるという前提で，同法３条１項３号違反を主張するが，前提を誤った主張であって失当である。
さらに，被告は，同法４７条の除斥期間の経過により無効審判請求をすることができない場合でも権利濫用の主張をすることができる旨主張するが，同法４７条の除斥期間が，商標登録がされたことにより生じた既存の継続的な状態を保護するために，商標登録の有効性を争い得ないものとする趣旨で設けられたこと（最判平成１７年７月１１日判時１９０７号１２５頁），及び，同法３９条が準用する特許法１０４条の３の抗弁は認められないが，権利濫用の抗弁は認められると解することは主張立証の仕方で結論が異なるということになり，いたずらに議論を複雑にするおそれがあることに鑑みれば，権利濫用の抗弁は認められないと解されるべきである。
第４当裁判所の判断
１本件事案に鑑み，まず争点(2)（被告各標章の表示が商標的使用に当たるか）について判断する。
(1)前記第２，１の前提事実並びに証拠（甲９ないし１１，乙１ないし３，５，６ないし１３，１９，２２，２３ないし２８）及び弁論の全趣旨によれば，次の事実が認められる。
ア被告各商品は，ピタバスタチンカルシウムを有効成分とする，医療用後発医薬品である。
イ被告各標章は，別紙被告商品目録記載のとおり，片仮名の「ピタバ」をゴシック体で横書きしてなるものであるところ，被告商品１については，錠剤の片面の中央部に等間隔に配置され，その上下には含量を表す「１ｍｇ」及び欧文字の「ＭＥＥＫ」が表示されており，被告商品２及び３については，錠剤の片面の中央部に被告標章２ないし３が等間隔に配置され，その下に含量を示す「２」ないし「４」の数字が表示され，その裏面には中央部にある直線の溝を挟んでその上部に欧文字「ＭＫ」が，その下部に「７６」ないし「７７」の数字が表示されている。
ウ被告各商品の販売名は，それぞれ前記第２，１(3)アのとおりである。被告各商品のパッケージであるＰＴＰシートには，その耳部分の表面に「ピタバスタチンＣａ」「１ｍｇ『ＭＥＥＫ』」などと２段に表示され，裏面に「PITAVASTATINCa」「１ｍｇ『ＭＥＥＫ』」などと表示されている。
「ＭＥＥＫ（標準文字）」は，指定商品を薬剤とする被告の登録商標である。
また，「ＭＥＥＫ」及び「ＭＫ」は，製薬業界において会社の区別を図るために日本製薬団体連合会に登録されている，被告の会社コードである。会社コードは，日本薬学会薬剤部部長会からの要望で，錠剤等の誤使用を避けるために錠剤等を識別する方法として定められたものである。〔乙２
７の１及び２，２８〕


エ「ピタバスタチン」（Pitavastatin）は，ＷＨＯが定める医薬品の国際一般名（ＩＮＮ）として登録されており，また，「ピタバスタチンカルシウム」（pitavastatincalcium）は厚生労働省が定める医薬品一般的名称（ＪＡＮ）として定められている。〔乙１ないし３〕
オピタバスタチンカルシウムを有効成分とする医療用後発医薬品については，その販売名に，一般的名称である「ピタバスタチンカルシウム」ないし「ピタバスタチンＣａ」及び剤型，含量，会社名（屋号等）を付さなければならないとされている。その趣旨は，医薬品の販売名等の類似性に起因する調剤間違いや患者の誤飲等の医療事故を防止することにあるとされている。
また，錠剤に販売名等を印刷ないし刻印することは，製薬業界において一般的に行われている。〔乙３，５〕
カ被告各商品は，コレステロール低下薬であり，処方せん医薬品に指定されている。処方せん医薬品は，病院，診療所，薬局等への販売（授与を含む。）する場合を除き，薬事法４９条１項に基づき，医師等からの処方せんの交付を受けた者以外の者に対して，正当な理由なく，販売を行ってはならないものとされている。
なお，保険薬局において薬品を調剤する際，薬剤師は，処方せんの記載どおりに薬剤を調剤しなければならないが，患者の選択に基づき，処方せんに記載されている先発医薬品に代えて後発医薬品を調剤することができる場合がある。その場合には，薬剤師は，患者に対して，後発医薬品を選択した基準，例えば，当該後発医薬品の品質に関する情報開示の状況，薬価，製造販売業者の製造，供給や情報提供等に係る体制等といった事項について説明することとされている。また，患者が医師に薬の変更や新しい薬の処方を依頼することがあるが，その理由の多くは十分な効果がない，あるいは副作用があったというものである。〔甲９ないし１１，乙２２，
２３〕
キ「Pitavastatin」という表記のうち，「statin」はコレステロール低下薬の一分類であるHMG-CoA還元酵素阻害薬の総称であるところ，その総称が付された有効成分には，ピタバスタチンのほかに，アトルバスタチン，ロスバスタチンなどがある。〔乙６，２２〕
クピタバスタチン，アトルバスタチン，ロスバスタチンといった「スタチン系」と称されるコレステロール低下薬についてはそれぞれ，日本循環器学会での発表（乙６）において，「ピタバ」，「アトルバ」，「ロスバ」と，「スタチン」を省略した略称が使用されていた。その際，それらの略称について定義付けがされたことはなく，同発表の記事にそれらの略称について注記が付されたこともない。同発表は，九州の５１施設の医師が参加した研究結果の発表であり，世界で初めて上記３種類の薬剤を同時に比較する試みであったことが高く評価され，また，日本循環器学会の目玉として，優れた，わずかな臨床研究のみが選抜されて発表を許される「レートブレーキングクリニカルトライアル」での発表であり，多くのメディアや医師が注目したものであった。〔乙６〕
ケまた，次のとおり特許公開公報等において，「スタチン系」の薬剤に略記として「statin」を省略する方法が使用されている。(ｱ)再公表特許（ＷＯ２００８／０２６７０２。乙７）ピタバスタチンについて，図９，図１１，図１２，図１３，図１４及び図２１に「Pitava」との略記がされている。
また，アトルバスタチンについて，表１，図２，図６及び図８に「Atorva」との略記がされている。
(ｲ)公開特許公報（特開２０１２－２１００２。乙８）ピタバスタチンについて，図９，図１１，図１２，図１３，図１４及び図２１に「Pitava」との略記がされている。
また，アトルバスタチンについて，表１，図２，図６及び図８に「Atorva」との略記がされている。
(ｳ)公開特許公報（特開２０１２－６７０５２。乙９）ピタバスタチンについて，段落【００１０】に「ＰＩＴＡＶＡはピタバスタチンを意味する。」との記載があり，図１において「PITAVA」との略記がされている。
(ｴ)公開特許公報（特開２０１２－６７０５７。乙１０）ピタバスタチンについて，段落【００１２】に「ＰＩＴＡＶＡはピタバスタチンを意味する。」との記載があり，図１において「PITAVA」との略記がされている。
(ｵ)公開特許公報（特開２００６－３２５５８２。乙１１）アトルバスタチンについて，図１１ないし図１３及び図１７に「Atorva」との略記がされている。
シンバスタチンについて，図１１ないし図１３及び図１７に「Simva」との略記がされている。
プラバスタチンについて，図１１ないし図１３及び図１７に「Prava」との略記がされている。
フルバスタチンについて，図１１ないし図１３及び図１７に「Fluva」との略記がされている。
ローバスタチンについて，図１１ないし図１３及び図１７に「Lova」との略記がされている。
(ｶ)公開特許公報（特開２００７－６３２８４。乙１２）アトルバスタチンについて，図１１ないし図１３及び図１７に「Atorva」との略記がされている。
シンバスタチンについて，図１１ないし図１３及び図１７に「Simva」との略記がされている。
プラバスタチンについて，図１１ないし図１３及び図１７に「Prava」との略記がされている。
フルバスタチンについて，図１１ないし図１３及び図１７に「Fluva」との略記がされている。
ローバスタチンについて，図１１ないし図１３及び図１７に「Lova」との略記がされている。
(ｷ)公開特許公報（特開２００７－２６２０６７。乙１３）アトルバスタチンについて，図１１ないし図１３及び図１７に「Atorva」との略記がされている。
シンバスタチンについて，図１１ないし図１３及び図１７に「Simva」との略記がされている。
プラバスタチンについて，図１１ないし図１３及び図１７に「Prava」との略記がされている。
フルバスタチンについて，図１１ないし図１３及び図１７に「Fluva」との略記がされている。
ローバスタチンについて，図１１ないし図１３及び図１７に「Lova」との略記がされている。
コ調剤薬局においても，スタチン系の薬剤を互いに区別するために，アトルバスタチンについて「アトルバ」との略称が，シンバスタチンについて「シンバ」との略称が，プラバスタチンについて「プラバ」との略称が，フルバスタチンについて「フルバ」との略称が，ロスバスタチンについて「ロスバ」との略称が使用されている。〔乙１９〕


サ原告は，平成２５年１０月１７日付けで，「ピタバ（標準文字）」を登録商標とする商標登録出願をしたが，特許庁審査官は，平成２６年３月４日付けで，「ピタバ」の文字は，指定商品を取り扱う業界において，「ピタバスタチンカルシウム」又は「ピタバスタチン」の略称として使用されているものであるから，これをその指定商品中「ピタバスタチンカルシウムを有効成分とする薬剤」に使用したときは，「ピタバスタチンカルシウムを有効成分とする商品」等の意味合いを理解させるに止まり，単に商品の原材料，品質を普通に用いられる方法で表示する標章のみからなる商標と認められるとして拒絶理由を通知し，同年６月１２日に拒絶査定をした。
〔乙２４，２６〕
(2)検討
上記(1)の認定事実によれば，被告各商品の有効成分である「ピタバスタチンカルシウム」という表記が医薬品の一般的名称として定められたものであり，これを有効成分とする医療用後発医薬品については，その販売名に，一般的名称及び剤型，含量，会社名（屋号等）を付さなければならないと定められていること，その理由は，薬剤師が調剤する際に処方された薬剤と類似する販売名の他の有効成分を含む薬剤とを混同して調剤を間違えたり，患者が誤飲したりといった，医薬品の販売名等が類似するがゆえに起きる医療事故を防止するためであること，被告は，その定めに従って被告各商品について販売名等を定めていること，医療業界においては，販売名等を錠剤に印刷ないし刻印することが一般的に行われている   こと，「ピタバスタチン」（Pitavastatin）の名称のうち，「スタチン」及び「statin」の部分は，コレステロール低下薬の一分類であるHMG-CoA還元酵素阻害薬の総称を意味する用語であって，これに属する薬剤としては，本件で問題となっているピタバスタチンの他，アトルバスタチン，ロスバスタチンなどがあり，これらは「スタチン系」と称されていること，これらスタチン系の薬剤においては，薬剤を特定して表記する際に，「スタチン」及び「statin」の部分を省略して表記されることがあること，「ピタバ」という表記も，スタチン系の薬剤の一般的名称から「スタチン」を省略して称する方法によって，「ピタバスタチン」から「スタチン」を省略して称するものであり，実際，「ピタバ」の略称が重要な学会の発表の場で，特に定義付けや注記もなく使用されているほか，調剤薬局でもスタチン系の薬剤を区別するために，上記の方法によって略称されていること，ピタバスタチンカルシウムに関する複数の特許公開公報等においても「Pitava」等の略記が使用されていること，加えて，商標登録出願においても，「ピタバ」は指定商品を取り扱う業界においてピタバスタチンカルシウム又はピタバスタチンの略称として使用されていること，被告各商品においては，そのＰＴＰシートのみならず，錠剤の表面にも，錠剤等の誤使用を避けるために錠剤等を識別する方法として日本製薬団体連合会に登録されている被告の会社コードであって，被告の登録商標でもある「ＭＥＥＫ」及びその略号である「ＭＫ」が被告各標章とともに記載されていること，以上が認められる。
そうすると，被告各商品である錠剤に付された「ピタバ」という被告各標章は，医薬品の販売名等の類似性に起因する調剤間違いや患者の誤飲等の医療事故を防止する目的で，被告各商品の有効成分がピタバスタチンカルシウムであることの注意を喚起するためにその略称を錠剤の表面に記載したものであると認められ，被告各商品のような医療用医薬品の主たる取引者，需用者である医師や薬剤師等の医療関係者及び患者が被告各商品に接したときにも，被告各商品に付された被告の会社コードでありかつ登録商標でもある「ＭＥＥＫ」等の表示と相まって，そのような表記として認識されると認めるのが相当である。
したがって，被告各商品に付された被告各標章は，商標としての自他商品識別機能若しくは出所表示機能を果たす態様で使用されているということはできず，本件商標の「使用」に該当すると認めることはできない。
(3)原告の主張について
これに対して原告は，取引者，需要者である患者が被告各商品を購入する場合には，ＰＴＰシートに包装された状態で，あるいは，「一包化調剤」の状態で交付されるが，一包化調剤の場合，患者は当然，錠剤の「ピタバ」の表示を視認して，また，ＰＴＰシートに包装された状態で交付される場合であっても，ＰＴＰシートの中身である錠剤の「ピタバ」の表示を視認して，被告各標章によって出所を識別するから，被告各商品に表示された被告各標章は出所識別能力を有する旨主張する。
しかし，被告各商品は処方せん医薬品に指定されており，原則として医師等からの処方せんなしに購入することができないから，患者が自ら錠剤の表示に基づいてその出所を識別して薬剤の処方を受けることは一般的ではないと考えられる。また，患者が処方される薬剤を選択する場面は，主に，保険薬局において薬品を調剤する際に処方せんに記載されている先発医薬品に代えて後発医薬品を調剤するか否かといった場合や，効き目や副作用の点から薬の変更や新しい薬の処方を依頼するといった場合であり，そのような場合に患者が薬剤の表面に付された表示に基づいてその出所を識別して薬剤の処方を受けることはほとんどないと考えられる。
また，原告は，被告が錠剤に「ピタバ」と印字あるいは刻印をしているのは，服用者が服用する際に他の薬剤と間違えて誤飲することを防ぐためであるというが，それは自他商品識別機能を奏するための表示にほかならないと主張する。
しかし，その表示の趣旨は主として，他の有効成分を含有する錠剤と誤って調剤することや，誤って服用することを防止することにあるから，それは自他商品の識別や出所の識別を果たすものではなく，あくまで薬剤の有効成分が何であるかを識別する機能を果たしているにすぎないというべきである。したがって，原告の上記主張はいずれも採用することができない。
(4)小括
よって，本件における被告による被告各標章の表示は商標権者の登録商標を使用する権利（商標法２５条）の侵害行為又は侵害とみなされる行為（同法３６条１項，３７条）には該当しない。
２結論
以上によれば，その余の争点について判断するまでもなく，原告の請求はいずれも理由がないから，これを棄却することとして，主文のとおり判決する。
東京地方裁判所民事第４０部
裁判長裁判官
東海林       保
裁判官
実本   滋
裁判官
足      立      拓      人
(別紙)
被告標章目録
＜以下略＞
（別紙）
商標権目録
登録番号第４９４２８３３号
出願日平成１７年８月３０日
登録日平成１８年４月７日
登録商標ＰＩＴＡＶＡ（標準文字）
商品及び役務の区分第５類
指定商品薬剤
（別紙）
被告商品目録


平成２７年７月１６日判決言渡同日原本交付    裁判所書記官東    敏美平成２５年（ワ）第３２６８８号損害賠償等請求事件
口頭弁論終結日平成２７年５月２１日
判決
東京都文京区＜以下略＞
原告                              株式会社エービープロモーション同訴訟代理人弁護士                               五十嵐   啓   二同                                飯嶋康宏同                               木   下   いずみ同                                村瀬敦子同                                大谷龍生
東京都世田谷区＜以下略＞
Ｘ１こと
被告                                          Ｘ（以下「被告Ｘ１」という。）
東京都世田谷区＜以下略＞
被告                              株式会社Ｙ（以下「被告会社」という。）
上記両名訴訟代理人弁護士                              弘   中   惇一郎同                                弘中絵里同                                大木   勇同                                品川   潤同                                山縣敦彦
主文
原告の請求をいずれも棄却する。
訴訟費用は原告の負担とする。
事実及   び理由
第１請求
１被告らは，原告に対し，連帯して，１億３５５４万８１２５円及びこれに対する平成２５年４月２４日から支払済みまで年６分の割合による金員を支払え。
２被告らは，原告に対し，連帯して，５１７０万１９２８円及びこれに対する平成２４年９月１日から支払済みまで年５分の割合による金員を支払え。３被告らは，別紙衣装目録記載の各衣装（以下「本件衣装」と総称する。）を複製し，展示し，譲渡し，貸与し，変形してはならない。４被告らは，別紙譜面目録記載の各譜面（以下「本件譜面」と総称する。）を複製し，演奏し，展示し，譲渡し，貸与し，編曲してはならない。５被告Ｘ１は，原告に対し，６２４万５０５０円及びこれに対する平成２５年４月２４日から支払済みまで年５分の割合による金員を支払え。６被告会社は，原告に対し，１０００万円及びこれに対する平成１４年２月２７日から支払済みまで年６分の割合による金員を支払え。７被告会社は，原告に対し，７７６万２３６１円及びこれに対する平成２５年４月２４日から支払済みまで年５分の割合による金員を支払え。
第２事案の概要
本件は，芸能プロダクションである原告が，①芸能人である被告Ｘ１と専属的所属契約を締結していたところ，被告Ｘ１が同契約を一方的に破棄して独立し，被告会社も被告Ｘ１と共同して上記独立を敢行したとして，被告らに対し，債務不履行に基づく損害賠償金（移籍金相当額）１億３５５４万８１２５円及びこれに対する請求の日の翌日である平成２５年４月２４日から支払済みまで商事法定利率年６分の割合による遅延損害金の連帯支払，②被告らが上記独立に当たり原告の所有する本件衣装及び本件譜面を無断で持ち出し原告の所有権を侵害したとして，被告らに対し，不法行為に基づく損害賠償金（各製作費相当額）合計５１７０万１９２８円及びこれに対する不法行為の後の日である平成２４年９月１日から支払済みまで民法所定の年５分の割合による遅延損害金の連帯支払，③原告は本件衣装の著作権者であり，上記無断持出し等の後も被告Ｘ１は芸能活動を継続しており被告らによる著作権侵害のおそれが生じているとして，被告らに対し，著作権に基づく侵害予防請求として，本件衣装の複製，展示，譲渡，貸与及び変形の差止め，④原告は本件譜面に係る音楽の著作権者であり，上記無断持出し等の後も被告Ｘ１は芸能活動を継続しており被告らによる著作権侵害のおそれが生じているとして，被告らに対し，著作権に基づく侵害予防請求として，本件譜面の複製，演奏，展示，譲渡，貸与及び編曲の差止め，⑤被告Ｘ１に金員を貸し付け，また，被告Ｘ１が支払うべき債務を立替払したとして，被告Ｘ１に対し，貸金返還請求として３００万円及び立替金返還請求として３２４万５０５０円並びにこれらに対する請求の日の翌日である平成２５年４月２４日から支払済みまで民法所定の年５分の割合による遅延損害金の支払，⑥被告会社に金員を貸し付けたとして，被告会社に対し，貸金返還請求として１０００万円及びこれに対する貸付けの日である平成１４年２月２７日から支払済みまで商事法定利率年６分の割合による利息の支払，⑦被告会社が支払うべき債務を立替払したとして，被告会社に対し，立替金返還請求として７７６万２３６１円及びこれに対する請求の日の翌日である平成２５年４月２４日から支払済みまで民法所定の年５分の割合による遅延損害金の支払を，それぞれ求めた事案である。
１争いのない事実等（後掲各証拠及び弁論の全趣旨により容易に認定することができる事実を含む。）
当事者等
ア原告は，芸能人の舞台，テレビ，ラジオ，映画その他の出演に対する仲介並びに斡旋の業務等を目的とする株式会社であり，昭和６３年１０月２５日に設立された。Ｘ２（以下「Ｘ２」という。）は，その代表者である。（甲１）
イ被告Ｘ１は，「Ｘ１」の芸名で歌手等として芸能活動を行っている者である。
ウ被告会社は，芸能タレントのマネージメント等を目的とする株式会社であり，平成３年３月２８日に設立され，被告Ｘ１がその代表者である。被告会社の業務のほとんどは被告Ｘ１の芸能活動のマネジメントである。
（甲２）
エ株式会社ＡＢプロ（以下「ＡＢプロ」という。）は，芸能人，タレント，モデル，アーティスト等の育成，養成，マネジメント，プロモート，キャスティング及びコンサルタント業等を目的とする株式会社であり，平成２４年８月２２日に設立された。Ｘ３（以下「Ｘ３」という。）は，その代表者である。（乙４）
原告と被告Ｘ１の間の所属契約
原告と被告Ｘ１は，原告が設立された頃，被告Ｘ１が原告に所属して芸能活動を行う旨の契約（以下「本件所属契約」という。）を締結し，以後，被告Ｘ１は原告所属のタレントとして芸能活動を行ってきた。
原告，Ｘ２及びＡＢプロの間の覚書


原告，Ｘ２及びＡＢプロは，平成２４年７月頃以降（時期については争いがある。），①ＡＢプロは原告及びＸ２の負債について責任を負わない，②Ｘ２はＡＢプロの顧問としてＡＢプロの利益となることを全面的に協力する，③ＡＢプロは原告及びＸ２に対し必要な調査を行うことができる，④ＡＢプロ，原告及びＸ２は本件に関する情報を他者に漏らさない旨の覚書（乙１。以下「本件覚書」という。）を締結した。
被告Ｘ１の原告からの「独立」
被告Ｘ１は，平成２４年８月１４日頃，記者会見において原告からの独立を検討中である旨発言し，さらに，同年９月５日頃，原告から独立する旨の記者会見を行った。そして，被告Ｘ１は，この頃以降，ＡＢプロの所属タレントとして芸能活動をするようになり，これに伴って本件所属契約はその頃事実上終了した。（甲１８，３７。以下，この本件所属契約の終了を「本件独立」ということがある。）。
原告及びＡＢプロの事務所
原告は，従前，被告会社所有の東京都港区＜以下略＞所在の建物の１室（以下「本件事務所」という。）を賃借して事務所として使用していた。現在，本件事務所はＡＢプロの事務所として使用されている。
本件衣装
本件衣装は，いずれも被告Ｘ１の舞台衣装である。
本件衣装は，従前，原告が借りた倉庫（トランクルーム。以下「旧倉庫」という。）に保管されていたが，平成２４年８月下旬頃，旧倉庫から搬出された。
本件譜面
本件譜面は，いずれも，被告Ｘ１が歌う楽曲の伴奏を舞台用に編曲したものであり，本件事務所に保管されていた。
時効の援用
被告Ｘ１は，原告に対し，平成２７年５月２１日の本件口頭弁論期日において，前記⑤の請求について時効を援用するとの意思表示をした。被告会社は，原告に対し，同期日において，前記⑥及び⑦の各請求について時効を援用するとの意思表示をした。
２争点及び争点に関する当事者の主張
本件所属契約の債務不履行に基づく損害賠償請求についてア被告Ｘ１による本件所属契約の債務不履行の有無
（原告の主張）
芸能プロダクションが所属タレントの商業的価値を築き，維持するためには，高額の費用及び多くの労力をかけて当該タレントの育成教育，多種多様なプロモーション活動等を継続的に行う必要がある。仮に所属タレントが当該プロダクションを通さずに芸能活動を行い，あるいは当該プロダクションから独立すると，投資が無に帰し，当該タレントの商業的価値を奪われ，多大な損害を被ることになる。したがって，芸能プロダクションに所属するタレントは，当該プロダクションとの間で，当該プロダクションに専属的に所属する旨の合意をし，当該プロダクションの許可なく独立あるいは他のプロダクションに移籍しない義務を負う。
本件においても，本件所属契約には，被告Ｘ１が原告から独立するには原告の承諾を要することが当然に含まれていた。
また，本件所属契約は契約期間の定めのない継続的契約であり，２０年もの長期間に及んでいるのであるから，その解消は合意解約又はやむを得ない理由に基づく解約申入れによらなければならない。ところが，被告Ｘ１は，平成２４年９月５日，原告の承諾なく一方的に原告から独立した。また，本件独立は，やむを得ない理由に基づく解約申入れでもない。
したがって，本件独立は，被告Ｘ１による本件所属契約の債務不履行に当たる。
被告らは，本件覚書を根拠に，被告Ｘ１が原告からＡＢプロに移籍することについて，原告，被告ら及びＡＢプロの間に合意が成立した旨主張する。
しかし，本件覚書は，原告が有していた被告Ｘ１の出演料支払請求権をＡＢプロに移転させること等に伴う金銭の精算を含めた相当額の移籍金の支払について円満な解決に至ることを前提として締結されたものであり，原告，Ｘ２及びＡＢプロの間では，本件覚書の効力を生じさせる停止条件として被告Ｘ１が原告に対し相当額の移籍金を支払うこと，当該移籍金の具体的金額及び支払条件等の詳細は追って協議して決定することが合意された。また，上記停止条件の合意に当たっては，原告，Ｘ２及びＡＢプロはもちろん，被告らにおいても，当該移籍金についての協議の存在及び内容を開示し，又は漏らしてはならないことが当然の前提となっていた。移籍金の支払が確立した商慣習なお，本件覚書が締結されたのは平成２４年７月頃であるが，上記の停止条件があることから日付は記載されなかった。
しかるに，被告Ｘ１は，原告の承諾を得ることなく，同年８月１４日，新事務所の設立も視野に入れて原告からの独立を考えていることを公表した。これにより上記移籍金についての協議を進める前提が崩され，協議を行うことさえできなくなったため，上記停止条件は成就せず本件覚書は効力を生じなかった。
（被告らの主張）
被告Ｘ１が原告から独立しＡＢプロの所属になることは，原告，被告ら及びＡＢプロの間で合意されていた。このことは，本件覚書が締結され，ＡＢプロが原告の債務を一切引き受けない旨，Ｘ２が顧問として引き続きＡＢプロの利益になるよう全面的に協力する旨合意していたことからも明らかである。なお，本件覚書が締結されたのは，平成２４年８月下旬ないし９月上旬である。
原告は，本件所属契約終了を前提に，同年７月２０日，原告従業員に対し退職勧告を行った上，同年８月分の本件事務所の賃料を支払わなかったもので，原告が本件所属契約の終了に同意していたことは明らかである。
原告は，相当額の移籍金の支払が本件覚書の効力を生じさせる停止条件であった旨主張するが，本件覚書には移籍金に関する定めは一切なく，口頭でも移籍金について定めていない。原告主張の移籍金支払の商慣習が存在しないことは，下記ウ（被告らの主張）のとおりである。また，移籍金の協議自体がなかったのであるから，被告らが移籍金についての協議の存在及び内容を開示し，又は漏らしてはならない旨の義務を負うことはあり得ない。
そもそも被告Ｘ１が本件独立に至ったのは，原告の財務状態が悪化し，資金繰りに窮するようになったことから，Ｘ２が被告Ｘ１に対し，これ以上会社を続けていけない，やめさせてほしい旨懇願したからである。現に，被告Ｘ１にもギャラが支払われず，原告の従業員も全員解雇され，原告は事実上の解散状態となっていたため，被告Ｘ１は原告を辞めざるを得なかった。
イ被告会社による債務不履行の有無
（原告の主張）


被告会社は，従前原告が行っていた被告Ｘ１のマネジメント作業を行うことのみを目的として設立され，実際，同作業以外はほとんど何も行っていない会社である。このような事情のため，被告会社は，設立と同時に，原告との間で，被告Ｘ１を原告の専属的所属タレントとして活動させる旨の合意をした。
しかるに，前記ア（原告の主張）のとおり，被告Ｘ１は原告の承諾なく一方的に本件独立を断行し，被告会社も被告Ｘ１と共同して本件独立を計画し断行したから，被告会社の上記行為は，原告に対する債務不履行に当たる。
（被告らの主張）
原告と被告会社との間に原告主張のような合意は存在しない。また，本件独立が原告の同意に基づくものであったことは上記ア（被告らの主張）のとおりである。
ウ損害額
（原告の主張）
本件独立により，原告は，これまで２０年以上の長きにわたって多大な労力及び費用をかけて形成維持してきた「Ｘ１」という商業的価値を一方的に奪われ，その後も，被告Ｘ１が上記商業的価値を利用して芸能活動を継続していることにより，本来原告が得るべき利益を奪われ続けている。
芸能界においては，通常，タレントが所属プロダクションから独立する場合，当該タレントは，当該プロダクションが将来にわたって得られたであろう利益の一部に相当する移籍金を支払うことが確立した商慣習になっており，当該移籍金の額は，慣習上，当該タレントの芸能活動により当該プロダクションが過去２年間に得た粗利益相当額を下らないものとされている。
被告らは，本件独立に際し，上記商慣習に反し，原告に対し何らの金銭的対価も支払っておらず，原告には移籍金相当額の損害が発生している。被告Ｘ１の芸能活動による原告の平成２２年及び平成２３年の売上げは合計６億７７７４万０６２５円，粗利率は２０％であるから，この間の原告の粗利益は１億３５５４万８１２５円であり，原告が被った損害の額はこれを下らない。
また，被告Ｘ１が本件独立後現に芸能活動を行い，その期間は３年を下回らないから，原告が本来得べかりし利益の額は本件独立後３年分の粗利益に相当する。平成２０年６月１日から平成２３年５月３１日までの間の原告の粗利益は合計３億３９７６万０６５９円であるのを求める。
（被告らの主張）
争う。原告主張の商慣習は存在しない。タレントがその所属するマネジメント会社との所属契約を終了させ他の会社等に移籍した場合に移籍金を支払うか否かは，ケースごとに当事者の合意によって決められるものにすぎない。
本件衣装の所有権侵害の不法行為による損害賠償請求について
ア被告らによる所有権侵害の有無
（原告の主張）
原告は，本件衣装の製作者から本件衣装の所有権を全て譲り受けた。被告らは，平成２４年８月頃，本件独立に伴い，原告に無断で本件衣装の全てを旧倉庫から共同して持ち出し，その後，一部を破棄し，その余を現在に至るまで占有し続けている。これは，原告の本件衣装に対する所有権を侵害するものである。被告らは，合意に基づく占有移転である旨主張するが，そのような合意をした事実はない。本件衣装の現在の保管場所がＡＢプロの契約する倉庫であったとしても，ＡＢプロを通じて被告らが間接的に占有していることになる。なお，被告Ｘ１は，平成２５年３月１１日，代理人を通じ，原告に対し，本件衣装の一部はカビが生えていたので被告Ｘ１において廃棄したがその余は返却したい旨述べており，被告らによる持出し及び占有の継続を自認している。
（被告らの主張）
原告が本件衣装を所有していることは不知。
被告Ｘ１は，平成２４年７月頃，資金繰りに窮した原告からの申出により，やむなくＡＢプロに移籍せざるを得なくなった。これに伴い，被告Ｘ１の衣装は，よりコストのかからない貸倉庫に移すことになり，同年８月頃，ＡＢプロの従業員が原告から旧倉庫の鍵の提供を受けて，本件衣装をＡＢプロが新たに賃借した倉庫に移動させた。すなわち，本件衣装の占有は，合意の上で，原告からＡＢプロに移転したのであり，被告らは本件衣装の管理には一切関与していない。したがって，被告らが本件衣装の占有を取得したことはなく，原告の主張は前提において誤っている。
イ損害額
（原告の主張）
被告らによる前記アの共同不法行為によって，原告は，本件衣装の一部の所有権を喪失し，その余についても所有権の行使を完全に制限された結果，本件衣装の製作代金に相当する金額の損害を被った。本件衣装の製作代金は，合計４３７８万１０８３円である。被告らは，本件衣装の劣化を主張するが，本件衣装はいずれも各年，各用途ごとに製作されたもので，使用頻度は極めて少ない上，一流の演歌歌手である被告Ｘ１が着用したことにより，当該衣装には多大な経済的価値が生じている。
（被告らの主張）
被告らは本件衣装を速やかに引き取ってもらいたいと考えてきたのであり，原告においてその実現はいつでも可能であったから，原告に損害は生じていない。
さらに，衣装は着用しなくても経年劣化する。特に，本件衣装は全て舞台衣装として実際に着用されており，使用前と比して相当に劣化しているはずである。したがって，原告に，本件衣装の製作代金に相当する額の損害が生じていると考える余地はない。
本件譜面の所有権侵害の不法行為による損害賠償請求について
ア被告らによる所有権侵害の有無
（原告の主張）
原告は，本件譜面の各製作者から本件譜面の所有権を譲り受けた。原告は本件譜面を本件事務所に保管していたが，被告らはこれを原告に無断で持ち出し，自ら占有している。Ｘ２は，平成２４年１０月７日，ＡＢプロの事務所となっていた本件事務所を訪れ，ＡＢプロに対し，本件譜面，帳簿，名刺，パソコン，ブルーレイプレイヤー等原告の所有物一切の返却を求めたが，ＡＢプロは，帳簿，名刺等の返却には応じたものの，本件譜面等の返却を不当に拒否したのであり，本件譜面に対する原告の占有が原告の意思に反して被告らに移転したことは明らかである。
なお，被告Ｘ１は，平成２５年３月１１日，代理人を通じ，原告に対し，本件譜面の大部分を返却したい旨述べており，被告らによる持出し及び占有の継続を自認している。
（被告らの主張）
原告が本件譜面を所有していることは不知。