「特にテープに採用されているトラック追従サーボ・システムの一例として，（中略）タイミング・ベースのサーボ・パターンから成るものがある。このサーボ・パターンは，連続した長さで非平行の角度で記録された磁束変化領域から構成されている。」（【０００３】）「図２を参照して，このようなテープ駆動装置は，通常，ヘッド組立体２４を横切ってテープ２０を移動させる，カートリッジ１４のリールを回転させるモーター（図示せず）を備えている。ヘッド組立体２４は，（中略）比較的狭いサーボ再生ヘッド２６を備えている。サーボ再生ヘッド２６は，テープ２０のサーボ・トラック２７に記録されているサーボ・パターンを検出する。ヘッド組立体２４のデータ・ヘッド２８は，（中略）テープ２０のデータ・トラック領域２９の上に位置している。（中略）図２には，説明を簡単にするために，１個のサーボ再生ヘッドおよび１個のデータ・ヘッドが示してある。当業者が認識し得るように，ほとんどのテープ・システムは，複数の平行サーボ・トラック，複数のサーボ再生ヘッド，および複数のデータ再生・記録ヘッドを備えている。」（段落【００１６】）「図５（ａ）および図５（ｂ）は，サーボ・パターン中にデータを符号化すなわち変調することのできるサーボ・パターンの例を示す図である。サーボ位置エラー信号を生成するため，およびデータを符号化するために使うことのできる，１つのフレーム中の変化ストライプの最小数は，変化ストライプのペアがただ１つである。ペアの各変化ストライプは，同じように傾斜した変化ストライプの別々のバースト中に存在する。図示した例では，２グループの「５，４」フレームのうち，５ストライプ・グループの２ペアの変化ストライプを使っている。図５（ａ）に示すように，“１”は次のようにして符号化する。すなわち，変化ストライプ８０と８１とを離れるように移動させ，変化ストライプ８２と８３とを互いに近付くように移動させる。図５（ｂ）に示すように，“０”は次のようにして符号化する。すなわち，変化ストライプ８４と８５とを互いに近付くように移動させ，変化ストライプ８６と８７とを離れるように移動させる。ペアの各変化ストライプが移動する距離は同じであるが，方向は逆である。図５（ａ）および図５（ｂ）では，４ストライプ・グループは，不変であり，データを持たない変化ストライプの普通の間隔を表している。」（段落【００３２】）
「したがって，図５（ａ）では，“１”を符号化した変化ストライプ間の間隔「ａ」「ｄ」「ｅ」および「ｈ」は減少しており，間隔「ｂ」「ｃ」「ｆ」および「ｇ」は増加している。図５（ｂ）では，“０”を符号化した変化ストライプ間の間隔「ａ」「ｄ」「ｅ」および「ｈ」は増加しており，間隔「ｂ」「ｃ」「ｆ」および「ｇ」は減少している。」（段落【００３３】）
キ乙Ａ２の２（特表２００３－５０４７９１号公報）「リニアテープオープン（“ＬＴＯ”）フォーマットといった各オープンフォーマットテープストレージ技術は，この希望を満足させるために指向したものである。詳細には，ＬＴＯフォーマットは，各データバンドに区分する５つのサーボバンドにより，テープの幅方向に対して横断するように分離された４つの分離データバンドを提供している。これらのサーボバンド内のデータは，テープユニットがどのデータバンドであるかを特定することが可能とするように，テープが走行する軸線に沿って指定された量だけ長手方向にオフセットされている。前記各データバンドは，各データバンドを区分している上方のサーボバンドと下方のサーボバンドとの間のタイミングオフセットを計測することにより位置決めされている。隣接する各サーボバンド間の長手方向オフセットは，＋３３．３３，－３３．３３，＋６６．６６，－６６．６６マイクロメートル（μｍ）である。よって，このフォーマットにおいて各サーボバンド内に符号化されるタイミングデータは，所望の各長手方向オフセットを満たすように高精度で配置されねばならない。」（段落【０００４】）
「ＬＴＯフォーマットは，各サーボバンド内の多数のサーボ位置を規定している。サーボ位置の数は実施形態に依存している。隣接する２つのサーボ位置間の距離は，各データバンド間の距離に一致している。（中略）ＬＴＯといったオープンテープフォーマットは，容量及び性能を最大化するために，タイミングベースサーボ制御，（中略）リニア多チャンネル二方向テープフォーマットの有利点を組み合わせている。」（段落【０００５】）
「図２を参照すると，データストレージのために使用する前に，テープ上の上述した各サーボバンドの符号化に対して，前処理（previousapproach）が以下の手法においてなされていた。ヘッド４０は，単一の巻線１０を有する１つの大きなコア２０から構成されている。ヘッド内の各ギャップ３０は，適切な長手方向の各オフセット５０を与えるように精確に加工されていた。前処理は，いくつかの点で欠点を有している。第１に，各ギャップの配置に必要な精度を有しつつヘッドを製造する作業が，少しも平易でないことである。（中略）第２に，各ギャップがヘッド表面の全域の長手方向に分布しているので，テープヘッドインターフェースの非接触エリアが非常に広い。（中略）最後に，分布した各ギャップのそれぞれから必要される磁束を達成するために，コア内の単一巻線のインダクタンスが比較的大きくなければならない。」（段落【０００８】）
「【課題を解決するための手段】
本発明は上述した欠点及び他の欠点を克服している。本発明の教示によれば，磁気テープメディアに対して垂直方向に整列された多数の独立サーボ書込みコアを有する書込みヘッドが提供されている。サーボ書込みコアの全ては，好ましくは，独立した駆動装置及びデータ生成器を有しており，これにより各駆動装置及び各データ生成器が磁気テープメディア上にデータを独立的に符号化することを可能としている。他の書込みコア駆動装置に対して精確な微小ステップでオフセット可能であるように，各サーボ書込みコア駆動装置は，好ましくは，精度源（precisionsource）により刻時パルスを独立して送られている。」（段落【０００９】）「図３は，本発明の好適な実施形態についてのサーボ書込みヘッドを示している。本発明の好適な実施形態についての図３は，以下の点及び他の点において，前処理についての図２とは異なっていることに注意されたい。第１に，各ギャップ６０が中心線７０に沿ってヘッド１００に配置されている。他の各サーボバンドに対して各サーボバンド内にデータの書き込みをオフセットする目的のための著しいオフセットはない。第２に，独立した各コア９０を有する５つの独立した書込み巻線８０があり，各コアは５つのギャップ６０とそれぞれ対応している。よって，分離した各書込みコアを有する５つの独立した巻線の垂直方向整列が，ヘッド１００内に形成されている。」（段落【００１１】）


「この構成により，本発明は，ＬＴＯテープの各サーボバンドにデータを書き込む前処理を克服し，かつ取って代わり，かつ大変革している。これは，実現し又は達成することが難しかった各物理パラメータを容易に扱われる電気的パラメータに変換することにより達成している。５つの個別の書込みコアを独立した巻線と垂直方向に位置決めすることにより，このことが可能となっている。第１に，タイミングオフセットが，各ギャップの物理的位置の関数というよりは，今や独立した各巻線に対する駆動信号のタイミングの関数であるので，各ギャップの位置決めにおいて精確さを有しつつヘッドを製造する作業が省かれている。これにより，製造時におけるばらつきのために各ヘッドを廃棄するといったことが排除されている。第２に，各ギャップが今やヘッドの表面全域で垂直方向に整列されているので，テープ接触エリアが最小化されており，これにより，テープに対するヘッドの接触が向上している。これにより，サーボデータを非常に高速なテープ速度にて符号化することが可能となっている。第３に，個別の各コアに対してそれぞれ５つの独立した巻線があるので，これらの巻線のインダクタンスが非常に小さい。従って，信号電子装置が，ヘッドを非常に容易に駆動できる。さらに，５つの巻線があるので，各巻線に対する駆動電流において各巻線間のばらつき又は各ギャップにおける磁束密度が補償される。結局，フォーマット変更の場合には，新しい基準を厳守するように，独立した各巻線に対する各信号のタイミングを変化させてもよい。」
（段落【００１３】）
「図５は，本発明の範囲内で使用されるようなデータ生成器１６０と書込み駆動電子装置１５０を示すブロック図である。本発明の書込みヘッドは，前述したＬＴＯフォーマットといったテープフォーマットに対する書込み性能及び順応性を向上させるために，磁気テープメディアに対して鉛直方向にかつ垂直方向に整列された多数の書込み要素１７０（例えば，多数のサーボ書込みコア）を有している。本発明の範囲内において，書込み要素との記載は，サーボ書込みコア構成要素といった書込み操作を実施するためにヘッド内で使用される構成要素を含んでいる。本発明の各サーボ書込みコア構成要素は，独立した駆動装置１５０とデータ生成器１６０を有しており，これらが磁気テープメディア上に独立してデータを符号化することが可能としている。好適な実施形態では，多チャンネルデータ生成器が使用される。各サーボ書込みコア駆動装置１５０が，多チャンネルデータ生成器の各出力のうちの１つにより駆動される。ここで，多チャンネル生成器の各出力は，精度基準による時間でプログラム可能オフセットを提供している。」（段落【００１４】）
「各書込み要素が個別の書込み駆動電子装置により駆動されているので，各書込み要素は他の各書込み要素とは電気的に独立している。各書込み要素は，制御されたパルス幅と，振幅と，立上り時間と，立下り時間と，波形とを有する各パルスから構成されている書込み信号を受信する。よって，以下の書込み信号特性のうちの１つ又は２つ以上を書込み要素のために変更することが可能である：すなわち，少なくとも１つの書込み要素に供給される書込み信号パルス幅を他の書込み要素に供給される書込み信号パルス幅とは異なるようにすることが可能である；少なくとも１つの書込み要素に供給される書込み信号振幅を他の書込み要素に供給される書込み信号振幅とは異なるようにすることが可能である；少なくとも１つの書込み要素に供給される書込み信号立上り時間を他の書込み要素に供給される書込み信号立上り時間とは異なるようにすることが可能である；少なくとも１つの書込み要素に供給される書込み信号立下り時間を他の書込み要素に供給される書込み信号立下り時間とは異なるようにすることが可能である；少なくとも１つの書込み要素に供給される書込み信号波形を他の書込み要素に供給される書込み信号波形とは異なるようにすることが可能である。」
（段落【００１５】）
「５つの個別のデータ生成器を使用することにより，独特の長手方向オフセットを有する，又はデータ符号化する，又はテープに透かしを入れるテストテープといった特別な目的のためのサーボテープを生成することに対応可能である。」（段落【００２０】）
ク乙Ａ３の２（特開平１０－３３４４３５号公報）「【発明の属する技術分野】本発明は，水平方向の記録のためのタイミング・ベースのサーボに関し，特に，データまたはアドレス指定情報をタイミング・ベースのサーボ情報に重畳すること，（中略）に関する。」（段落【０００１】）
「【従来の技術】磁気テープ装置が容量を最大化するために使用する１つの方法は，テープ上の平行なトラックの数を最大化することである。トラックの数を最大化する典型的な方法は，トラック追従を提供し，トラックが非常に接近して配置されることを可能にするサーボ・システムを使用することである。」（段落【０００３】）
「トラック追従サーボ作用の例は，水平方向のデータ・トラックのグループ間に横たわる，予め記録された平行な水平方向のサーボ・トラックのグループを提供することである。それにより，１つ以上のサーボ・ヘッドがサーボ情報を読出すことができ，付随するトラック追従サーボがサーボ・ヘッドが対応するサーボ・トラック上の中央に維持されるように，ヘッドまたはテープの垂直方向の位置を調整する。サーボ・ヘッドは所定の距離だけデータ・ヘッドから間隔を開けられ，サーボ・ヘッドのセンタリングにより，データ・ヘッドがデータ・トラック上でセンタリングされる。」
（段落【０００４】）
「図４は，データをサーボ・トラックに符号化するために，遷移が磁気テープに対して水平方向にシフトされた図３のシェブロン及びダイヤモンドを示す。データはサーボ・タイミングが正しければ，任意の態様で符号化され得る。」（段落【００２５】）


「重要な点は，サーボ・タイミングの観点から，シェブロンが対になって同一方向若しくは反対方向に，またはパターン内のあらゆる変化が互いにオフセットするようにシフトされることである。」（段落【００３４】）「このことは，サーボ性能に影響を与えること無く，データがシェブロン・パターンの位置に符号化され得ることを意味する。符号化データは，タコメータ情報若しくはセクタ識別番号などのアドレス情報を符号化するために，またはテープ長，メーカ，媒体タイプなどのカートリッジに関する他の情報を符号化するために使用され得る。」（段落【００３５】）「図５は，データをサーボ・パターンに符号化する最も簡単な方法を示す。サーボ位置誤差信号を生成し，データを符号化するために使用されるグループ内のシェブロンの最小数は２である。」（段落【００３６】）「一般的な符号化アルゴリズムは，シェブロンを遠ざけることにより"１"を符号化し，シェブロンを一緒に近づけることにより"０"を符号化する。各シェブロンが移動される距離は大きさは同一であるが，方向は反対である。シェブロンは対になって移動されなければならないので，ダイヤモンドを構成する両方のシェブロンが対として一緒に移動される。図５では，上方のダイヤモンド５０は，データの無いシェブロンの公称スペーシングを示し，下方のダイヤモンド５１のパターンは，左から右にビット列"００１１"を符号化するように示される。」（段落【００３７】）ケ乙   Ａ４の   １（ISO/IEC22050   ）及び   乙Ａ４   の２（   日本工   業規格   JISX6175:2006）
「11.サーボバンドの記録方法
11.1概要テープは，５本のサーボバンドをあらかじめ記録し，それぞれのサーボバンドに複数のサーボ位置を定める。サーボ位置は，カートリッジがカートリッジ装置内で作動中にトラック追随のために用いる。サーボバンドは，カートリッジにデータの記録及び再生に使用する前に書き込み，すべてのサーボ位置は，テープ基準縁から特定の距離に位置する。（中略）
各サーボバンドは，１８本のサーボストライプからなりサーボフレームを含む。サーボフレームは，テープの長さに沿って長手方向の位置を表すＬＰＯＳワードを符号化する。サーボバンドに沿ってサーボフレームを長手方向に移動することによって，サーボバンドを一意に識別する。サーボバンドの詳細は，図２５，図２６及び図２８に示す。」「11.3サーボフレーム符号化   サーボフレーム符号化は，テープの長手方向の絶対位置，製造業者のデータ及びサーボバンド識別情報とする。11.3.1位置及び製造業者データの符号化方法   位置及び製造業者データの符号化方法は，サーボサブフレーム１のストライプの相対位置を移動して，サーボフレームの情報を符号化する（図２８参照）。サーボフレームは，“１”又は“０”の一つのビットを符号化する。（図略）“１”は，Ａバーストの第２ストライプを第１ストライプの方向へ０．２５μｍ移動し，Ａバーストの第４ストライプを第５ストライプの方向へ０．２５μｍ移動して符号化する。Ａバースト及びＢバーストの対応するストライプ間で正しいタイミングを維持するため，同じ移動は，Ｂバーストの第２ストライプ及び第４ストライプにも適用する。“０”は，Ａバーストの第２ストライプを第１ストライプから遠ざかる方向へ０．２５μｍ移動及びＡバーストの第４ストライプを第５ストライプから遠ざかる方向へ０．２５μｍだけ移動して符号化する。Ａバースト及びＢバーストの対応するストライプ間で正しいタイミングを維持するために，同じ移動は，Ｂバーストの第２ストライプ及び第４ストライプにも適用する。」
コ乙Ａ５（特開２００２－２５００１号公報）
「図１は，磁気テープ１００の記録領域の構成とデータの書き込みおよび読み取りを行う磁気ヘッド２０１を模式的に記載した図である。磁気テープ１００には，０ないし３の４個のデータ・バンドと各データ・バンドの両側に０ないし４の４個のサーボ・バンドが配置されている。データ・バンドは記録領域として利用され，また，各サーボ・バンドにはテープ１００の幅方向および長さ方向における磁気ヘッドの位置を検出するための情報等が書き込んである。」（段落【００１４】）
「磁気ヘッド２０１は，たとえば図１に示すようにデータ・バンド１に関して，サーボ・バンド１とサーボ・バンド２のサーボ情報を読み取ってテープ幅方向に微量だけ移動して所望のラップ（図示せず。）を選択する。磁気ヘッド２０１は，さらにテープ幅方向に大きく移動して他のデータ・バンドに対応するサーボ情報を読み取って当該データ・バンド内の所望のラップにアクセスすることができる。」（段落【００１５】）
サ乙Ａ２７（米国特許４５０２０８２号）
「サーボビット「sm」は，トラックに沿ってワークビットに対して半直交に整列される。ビット「sm」は，以下に説明するように「センタリングダイビット」として特徴付けられ，トラックに関して「ラムダ構成」とし
て理解される」（６欄６３～６７行）
「斜めの互いに直交するダイビットの形態のサーボビット「sm」は，所定のトラックTに沿って所定の方法で分配され，ワークビット「wb」と（トラック/セクタ）識別ビット｢sb｣との間に挿入されると理解される。」（７欄５８～６２行）
「次のプリレコーディングされたサーボダイビットすなわち「シェブロン」，「sm」は，このサーボ出力を開始し（図2A，2B，2Cのように），「センタリングチェック」だけではなく，トラック，データブロックなどを識別するために使用される。」（１１欄２３～２７行）
「（整列された）セクタ・ビット「sb」によって示されるトラック番号及びセクタ番号を読み出すことができる。」（１１欄４１～４３行）「したがって，ヘッドh1がヘッドh1に「従属」され，サーボ中心にサーボされることが明らかであり，それゆえに，ヘッドh1は「制御サーボトラック」（又はトラックセグメントT-1，ダイギャップ/ダイビットにセンダリングされる），ヘッドh2はT-1及びディスクDDと同心である関連データトラックを「追従」して書き込む（例えば，T-aはT-1に従属し，T-bはT-2に「従属する」）」（１２欄２５～３３行）
「本発明のさらなる改変も可能である。例えば，本明細書に開示される手段及び方法は，特定のテープシステムなど，又は特定のドラムなどにも適用可能であり得る。また，本発明は，光学的にデータの記録及び再生が行われるような他の形式の記録/再生系を使用したある種の「スパイラルレコーディング」の提供についても適用できる。）」（２０欄６５行～２１
欄４行）
(2)争点３－１について
本件発明は，本件特許の請求項１の従属項である請求項６に係る発明である。そして，請求項１発明は「磁気テープ」に係る発明であるのに対し，本件発明は，該「磁気テープ」の「製造方法」であって，さらに「第一工程」ないし「第三工程」を有する発明であるから，本件発明の進歩性の有無を判断するには，先行技術の中から最も適している主引用発明を選び，そこから出発して，「製造方法」の発明である本件発明に容易に到達する論理付けができるか否かを検討すべきである。


しかるに，被告らは，本件発明の進歩性欠如を主張する際に，まず，物の発明である請求項１発明について複数の引用発明から容易に想到することができるとした上で，さらに，請求項１発明とはカテゴリーも異なる製造方法の発明である本件発明について，別個の引用発明（乙１８発明）を組み合わせて容易に想到することができると主張するが（争点３－１－５，３－１－７を除く。），そもそも，そのように多段階にわたって先行技術を適用することを前提として，当業者が本件発明を容易に発明することができたということはできない。
したがって，争点３－１に係る被告らの主張（争点３－１－５，３－１－７を除く。）は，個別に検討するまでもなく失当であるが，以下では，念のため，被告らの主張する手法に従い，請求項１発明を当業者が容易に発明できたか否かについて検討する。
(3)争点３－１－１について
被告らは，乙１４発明を主引用発明として乙１５発明を組み合わせれば，請求項１発明を容易に発明できたと主張する。
ア乙１４の前記記載によれば，請求項１発明と乙１４発明の相違点は次のとおりと認められる。
請求項１発明においては，「データ」が，「複数のサーボバンドのうちのそのサーボ信号が位置するサーボバンドを特定するためのデータ」である（構成要件Ａ－２）のに対して，乙１４発明においては，「複数のサーボバンドのうちのそのサーボ信号が位置するサーボバンドを特定するためのデータ」についての開示がない点。
イ上記相違点に係る容易想到性について検討するに，乙１４には，非平行な縞の磁気遷移からなるサーボパターンを使用したタイミング・ベース・サーボにおいて，サーボフレームを形成するストライプをずらすことにより，サーボバンドに記録される信号中にデータを埋め込む技術が記載されている。そして，乙１４(５３頁，表５)には，サーボバンドを識別する方法が記載されている以上，乙１４発明において，サーボバンドを特定する必要性があることは明らかである。
一方，乙１５発明は，サーボ搬送信号の交互の消去及び非消去の部分からなるサーボトラック構成を備えたアンプリチュードサーボにおいて，サーボトラック構成の消去部分の長さを他のサーボ帯域と異ならせて情報を埋め込むというものである。すなわち，乙１５の３３頁下から４行～３４頁の８行，及び図１３には，「サーボ帯域１６１ないし１６３が，サーボ帯域自身が他のサーボ帯域から一意に同定され得るような，異なる符号を用いて符号化されても良い。（中略）任意個数の消去部分がサーボ帯域ごとに変化する長さを備えることで，サーボ帯域を一意に同定，つまり一意なサーボ帯域符号を具備しても良い」と記載されており，サーボ帯域自身が他のサーボ帯域から一意に同定され得るような，異なる符号を用いて符号化されること，その例として，サーボ帯域の消去部分の長さを他のサーボ帯域と異ならせる方式で符号化することが開示されている。以上によれば，乙１４発明は，タイミング・ベース・サーボに係るものであり，かつ，サーボフレームを形成するストライプをずらすことにより，サーボバンドに記録される信号中にデータを埋め込む発明であるのに対し，乙１５発明は，アンプリチュードサーボに係るものであり，かつ，サーボ帯域の消去部分の長さを他のサーボ帯域と異ならせる方式で符号化する発明であるから，結局，両者は，そのシステム自体も，また，データの符号化方式も異なるものである。そうであれば，乙１４発明に乙１５発明を適用することは容易であるとはいえず，かえって阻害要因があるというべきであるし，仮に乙１４発明に乙１５発明を適用しても，相違点に係る構成には容易に想到し得ない。
ウこれに対して，被告らは，サーボパターンを構成する要素の位置をテープ長手方向にずらすことによりデータをサーボ信号中に埋め込むものであるという点において，乙１４発明と乙１５発明は共通しており，サーボバンドを特定するためのデータをサーボ信号中に埋め込む方法として，サーボフレームを構成する縞の一部をテープ長手方向にずらすという，乙１４発明が既に開示している方法を用いることは容易であると主張する。しかし，上記のとおり，あくまで，乙１４発明は，非平行な縞の磁気遷移からなるサーボパターンを使用したタイミング・ベース・サーボにおいて，サーボフレームを形成するストライプをずらすことにより，サーボバンドに記録される信号中にデータを埋め込むという発明であるし，乙１５発明は，サーボ搬送信号の交互の消去および非消去の部分からなるサーボトラック構成を備えたアンプリチュードサーボにおいて，サーボトラック構成の消去部分の長さを他のサーボ帯域と異ならせて情報を埋め込むという発明であるから，両発明について，それらの具体的構成を離れて，被告らが主張するように，サーボパターンを構成する要素の位置をテープ長手方向にずらすことによりデータをサーボ信号中に埋め込むものであると抽象化した上で，両発明を組み合わせることが当業者にとって容易であるとは認められず，被告らの上記主張は採用できない。
(4)争点３－１－２について
被告らは，乙１６発明を主引用発明として乙１５発明と乙１７発明を組み合わせれば，請求項１発明を容易に発明できたと主張する。ア乙１６の前記記載を踏まえて，請求項１発明と乙１６発明とを対比すると，①「各サーボ信号に，複数のサーボバンドのうちのそのサーボ信号が位置するサーボバンドを特定するためのデータがそれぞれ埋め込まれ」ている点（構成要件Ａ－２），及び②「各データは，各縞を構成する線の位置を，サーボバンド毎にテープ長手方向にずらすことにより前記各サーボ信号中に埋め込まれている」点（構成要件Ａ－３）で相違する。イ上記相違点①の容易想到性については，乙１４発明の場合と同様である。すなわち，乙１６には，非平行な縞の磁気遷移からなるサーボパターンを使用したタイミング・ベース・サーボに係る技術が記載されており，一方，乙１５発明は，アンプリチュードサーボに係るものであり，かつ，サーボ帯域の消去部分の長さを他のサーボ帯域と異ならせる方式で符号化する発明であるから，結局，両者は，そのシステム自体も，また，データの符号化方式も異なるものである。そうであれば，乙１６発明に乙15発明を適用することは容易であるとはいえず，かえって阻害要因があるというべきであるし，仮に乙１６発明に乙１５発明を適用しても，相違点に係る構成には容易に想到し得ない。
(5)争点３－１－３について
被告らは，乙１５発明を主引用発明として乙１７発明と周知技術を組み合わせれば，請求項１発明を容易に発明できたと主張する。ア乙１５の前記記載を踏まえて，請求項１発明と乙１５発明とを対比すると，「各サーボ信号は，一つのパターンが非平行な縞からなり，各データは，各縞を構成する線の位置を，サーボバンド毎にテープ長手方向にずらすことにより前記各サーボ信号中に埋め込まれている」点（構成要件Ａ－３）で相違する。


イ上記相違点に係る容易想到性について検討するに，乙１５は，サーボ搬送信号の交互の消去及び非消去の部分からなるサーボトラック構成を備えたアンプリチュードサーボに関し，サーボ帯域に形成された「消去部分」及び「非消去部分」において，サーボ読取り要素７１の中心線が消去部分６２の端に正確に位置決めされる限り，読取り素子７１の出力信号は，非消去部分６４上にある間は最大振幅の信号バーストであり，消去部分６２上にある間は半分の振幅の信号バーストが続き，磁気ヘッドがテープに対して移動した場合，上記信号バーストの振幅の比が変化するため，これを利用して，磁気ヘッドの再位置決めを行うサーボ技術に関する発明である。被告らが主張するように，非平行な縞からなるサーボパターンを使用したタイミング・ベース・サーボが周知であり，また，乙１７に非平行な縞を構成する線の位置をテープ長手方向にずらすことで，データを符号化し，サーボ信号中に埋め込むことが開示されているとしても，これらの技術を，アンプリチュードサーボに係る乙１５発明に適用すれば，乙１５の上記サーボ技術が機能しなくなることは明らかであることから，乙１５発明に，周知技術及び乙１７発明を適用する上での阻害要因が存在することは明らかであるし，仮に乙１５発明に周知技術および乙１７発明を適用しても，相違点に係る構成には容易に想到し得ない。
(6)争点３－１－４について
被告らは，乙Ａ１発明を主引用発明として周知技術（乙Ａ５～１７）を組み合わせれば，請求項１発明を容易に発明できたものであると主張する。ア乙Ａ１の前記記載によれば，請求項１発明と乙Ａ１発明の相違点は次のとおりと認められる。
請求項１発明においては，「データ」が，「複数のサーボバンドのうちのそのサーボ信号が位置するサーボバンドを特定するためのデータ」である（構成要件Ａ－２）のに対して，乙Ａ１発明においては，「複数のサーボバンドのうちのそのサーボ信号が位置するサーボバンドを特定するためのデータ」についての開示がない点。
イ被告らは，当業者であれば，周知技術（乙Ａ５～１７）に基づいて，上記相違点に係る構成に容易に想到することができたと主張するので，検討する。
(ｱ)乙Ａ１２ないし１６について
乙Ａ１２ないし１６は，光記録再生に係る技術であって，乙Ａ１の磁気記録再生とは，記録再生の原理そのものが異なり，また，タイミング・ベース・サーボ技術も，タイミング・ベース・サーボ技術における符号化技術も，明記されていないことからすれば，乙Ａ１発明に乙Ａ１１ないし１６に開示された技術を組み合わせても，相違点に係る構成を容易に想到し得るとはおよそいえない。
(ｲ)乙Ａ６，８，９，１１について
乙Ａ６は，乙１５と同一の公知文献であり，乙Ａ６発明は，サーボ搬送信号の交互の消去および非消去の部分からなるサーボトラック構成を備えたアンプリチュードサーボにおいて，符号化トラックピッチの消去部分の長さを他のサーボ帯域と異ならせて情報を埋め込むというものである。そうすると，乙Ａ６発明は，タイミング・ベース・サーボ技術に係る乙Ａ１発明とは，そのシステム自体が異なり，また，データの符号化方式も異なることから，乙Ａ１発明に乙Ａ６を組み合わせることは困難であり，むしろ阻害要因が存在するし，仮に乙Ａ１発明に乙Ａ６発明を適用しても，相違点に係る構成には容易に想到し得ない。乙Ａ８には，磁気テープ横方向における望ましくない動作（ＬＴＭ）を補償するために，レーザにより磁気素材を欠落させたくぼみである光サーボマーク７２により光サーボパターンを生成し，光サーボパターンのトラックを，どの光サーボパターンがたどられているのかを決定する固有の値またはコードで符号することが記載され（段落【０００４】，【００１７】，【００１８】，図３），また，光サーボパターン上に磁気信号が書込まれ，光サーボパターンにより振幅変調された磁気信号を２つのサーボ読取ヘッドによって読み取られ，両者の振幅の差を位置誤差信号として用いることが記載されている（段落【００２０】～【００２３】，図５，図６）。そうすると，乙Ａ８は，乙Ａ６と同様，アンプリチュードサーボに係る技術であり，また，乙Ａ８は，磁気素材を欠落させたくぼみから構成された光サーボパターンを必須の構成としていることからすれば，乙Ａ１発明に係る技術と，そのシステム自体が異なり，また，データの符号化方式も異なることから，乙Ａ１発明に乙Ａ８発明を組み合わせることには阻害要因が存在するし，仮に乙Ａ１発明に乙Ａ８発明を適用しても，相違点に係る構成には容易に想到し得ない。乙Ａ９には，「隣接するサーボトラックは，消去済み又は未記録のテープ部分のエッジを通る縦線によって画定される」こと（概要），「サーボトラックペア番号及び／又はサーボサンプル番号に関する情報は，消去済み又は未記録のテープ部分に記録することができ，前記サーボトラックからの信号と共に復号して読み戻すことができる」（５欄７～１１行），「矩形４は，（中略）消去されている。各サーボトラック３，３’の中心線は，消去された又は記録されていない矩形４，４’の縁に沿ってそれぞれ配置される。（中略）サーボ・サンプル番号のサーボトラックペアの番号を矩形４，４’に記録し，必要に応じてテープ位置を決定し，（中略）ロー・パス／バンド・パス・フィルタリング・バージョンから同じ読取り信号を受け取り，（中略）サーボ復調器に渡すことができる。」（８欄１１～２６行）ことがそれぞれ開示されている。そうすると，乙Ａ９は，乙６と同様なアンプリチュードサーボに係る技術であることからすれば，乙Ａ１発明に係る技術とは，そのシステム自体が異なり，また，データの符号化方式も異なるため，乙Ａ１発明に乙Ａ９発明を組み合わせることは困難であり，むしろ阻害要因が存在するというべきであるし，仮に乙Ａ１発明に乙Ａ９発明を適用しても，相違点に係る構成には容易に想到し得ない。


乙Ａ１１には，トラックバンドルに特別トラックを設け，当該特別トラックは，第１の特性及び第２の特性を提供する表面領域を有し，当該表面領域がトラッキング情報を符号化するように用いられるパターンを形成する（【請求項１１】，段落【００１８】，【００２２】）とともに，ヘッド読み出し部の２つのチャネルが，特別トラックの内側の２つのトラックを読み出し，２つの信号を再生された信号の振幅に基づいてトラッキング信号を得る（段落【００２４】）ことが記載されている。また，乙Ａ１１の段落【００３０】には，「図４による幅方向及び長さ方向の位置情報のプロセスは，あるいはトラックバンドルを識別できる特別トラックの表面領域内に含まれた識別情報を実現してもよい」と記載されている。そうすると，乙Ａ１１も乙６と同様，アンプリチュードサーボに係る技術であり，乙Ａ１発明に係る技術とは，そのシステム自体が異なり，また，データの符号化方式も異なることから，乙Ａ１発明に乙Ａ１１発明を組み合わせることは困難であり，むしろ阻害要因が存在するし，仮に乙Ａ１発明に乙Ａ１１発明を適用しても，相違点に係る構成には容易に想到し得ない。
(ｳ)乙Ａ５について
段落【００１４】には，磁気テープの構成として，「磁気テープ１００には，４０ないし３の４個のデータ・バンドと各データ・バンドの両側に０ないし４の４個（判決注：５個の誤り）のサーボ・バンドが配置されている。」と記載され，また，同段落には，「各サーボ・バンドにはテープ１００の幅方向および長さ方向における磁気ヘッドの位置を検出するための情報等が書込んである」と記載されている。しかし，「テープの幅方向における磁気ヘッドの位置を検出するための情報」が，どのような「情報」であるのか明確に記載されていないこと，及び，テープ幅方向への移動に関して，所望のラップ２（「データトラック」のこと（段落【０００２】）。）にアクセスする際に用いる「サーボ情報」（段落【００１５】，【００１７】，【００２０】，【００２７】，【００２８】，【００３２】，【００４１】参照。）について記載されているものの，他のデータバンドへの移動については具体的な制御方法について明記されていないことから，「テープの幅方向における磁気ヘッドの位置を検出するための情報」は，「サーボバンドを特定するためのデータ」を含むのか定かではない。したがって，乙Ａ１発明に乙Ａ５発明を組み合わせたとしても，相違点に係る構成を容易に想到し得るとはおよそいえない。
(ｴ)乙Ａ１０について
乙Ａ１０には，トラック切換数以下の複数本のサーボトラックをデータトラックに平行かつデータトラックのピッチの整数倍のピッチで設け，当該サーボトラック毎に，異なる周波数のサーボ信号を記録し，周波数を切り替え可能なフィルタを介して２つのサーボ用再生ヘッドにより１つのサーボトラックのサーボ信号をそれぞれ再生し，両ヘッドの再生信号の振幅同士が等しくなるようトラッキングを行うこと（１頁「特許請求の範囲」，５頁左上欄３行～６頁右下欄６行）が記載されている。そうすると，乙Ａ１０では，各サーボトラックを特定するために，サーボトラックに記録されるサーボ信号の「周波数」を異ならせているものの，サーボ信号にサーボトラックを特定するための「データ」は記録されていない。よって，乙Ａ１発明に乙Ａ１０発明を組み合わせたとしても，相違点に係る構成を容易に想到し得るとはおよそいえない。
(ｵ)乙Ａ７及び１７について
乙Ａ７には，３６トラック対応の磁気ヘッドを用いた場合のマルチトラックの磁気記録方式が図５に示され，段落【００３１】には，磁気テープをｎ個のエリアに等分割し，３６トラック分が磁気テープ幅の１／ｎ以下に納まる磁気ヘッドによりｎ往復して磁気記録を行うことが，段落【００３３】には，エリア１つにつき１つであり，データグループに共通のサーボトラックを書込み，エリアが区別できるように，サーボトラックに記録される識別情報を変化させ，この識別情報を読み出することにより，サーボトラック１４にサーボヘッド素子を位置付ければ磁気ヘッドを位置付けたいデータグループに位置付けできることが，段落【０００３６】には，サーボトラックの読み取りにより磁気ヘッド１が位置するデータグループの属するエリアを確認することが，それぞれ記載されている。さらに，段落【００２３】，【００２４】，【００３８】，【００４０】の各記載から，乙Ａ７には，サーボトラックからの情報により，磁気ヘッド１の位置付けを行い，さらに，トラックずれを検出しこれを補正することが記載されている。そうすると，乙Ａ７には，エリアが区別できるように変化される識別情報を各サーボトラックに記録する発明が開示されているところ，これを乙Ａ１発明に適用したとしても，請求項１発明の「サーボバンドを特定するためのデータ」が「サーボ信号」に「埋め込まれる」構成（構成要件Ａ－２）には達しない。さらに，乙Ａ１発明では，「データ」を符号化する方法として，サーボ信号が有するパターンの非平行な縞を構成する線の位置を，テープ長手方向にずらす構成を採用しているところ，乙Ａ７発明には，タイミング・ベース・サーボ技術，及び，タイミング・ベース・サーボ技術における符号化技術は，明記されていないことからすれば，そもそも，乙Ａ１発明に乙Ａ７発明を組み合わせることは容易に想到し得ない。
また，乙Ａ１７には，磁気記録媒体上に８個のデータトラックの集合体からなる８個のデータ領域と，１７個のサーボトラックからなる１個のサーボ領域とを形成し，トラックアクセスの際，サーボヘッド素子が２個のサーボトラックからの信号を再生し，両者の信号振幅の差の信号（「トラッキングエラー信号」）が０になるように，サーボヘッド素子が２個のサーボトラックの境界に位置決めされると，記録ヘッド素子・再生ヘッド素子が，それぞれのデータ領域の選択されたデータトラックの中央に同時に位置決めされることが記載されており（５頁左上欄１２行～右下欄２行），また，サーボヘッド素子がどのサーボトラックに位置決めされたかを知るために，サーボトラックにトラック番号を記録しておくことも記載されている。そうすると，乙Ａ１７には，乙Ａ７発明と同様に，「トラック番号をサーボトラックに記録する発明」が開示されているところ，これを乙Ａ１発明に適用したとしても，「サーボバンドを特定するためのデータ」が「サーボ信号」に「埋め込まれる」構成には達しない。さらに，乙Ａ１７発明には，そもそも，タイミング・ベース・サーボ技術，及び，タイミング・ベース・サーボ技術における符号化技術は，明記されていないことからすれば，そもそも，乙Ａ１発明に乙Ａ１７発明を組み合わせることは容易に想到し得えない。ウ以上のとおり，請求項１発明が乙Ａ１発明及び周知技術（乙Ａ５～１７）に基づいて当業者が容易に発明できたものであるとは認められない。
(7)争点３－１－５及び３－１－６について


被告らは，請求項１発明は乙Ａ２発明と同一である，仮に同一でなくても乙Ａ２発明と周知技術（乙Ａ５～１７）を組み合わせれば容易に発明できたと主張する。
ア乙Ａ２の前記記載を踏まえて，請求項１発明と乙Ａ２発明とを対比すると，①「各サーボ信号に，複数のサーボバンドのうちのそのサーボ信号が位置するサーボバンドを特定するためのデータがそれぞれ埋め込まれ」ている点（構成要件Ａ－２），及び②「各サーボ信号は，一つのパターンが非平行な縞からなり，各データは，各縞を構成する線の位置を，サーボバンド毎にテープ長手方向にずらすことにより前記各サーボ信号中に埋め込まれている」点（構成要件Ａ－３）で相違する。
なお，被告らは，乙Ａ４の１のＬＴＯフォーマットも参照すれば，上記相違点②に係る構成は乙Ａ２に開示されていると主張するが，乙Ａ２には，ＬＴＯフォーマットに係る記載は散見されるものの，「サーボ信号」の「パターン」の構成，及び，「符号化」の方法について記載されていないし，そもそも，乙Ａ２の発行日（２００２年８月１３日）より後に発行された乙Ａ４の１に基づいて，乙Ａ２に記載されたＬＴＯフォーマットが乙Ａ４の１のＬＴＯフォーマットであると当業者が認識することはできないから，被告らの上記主張は採用できず，請求項１発明が乙Ａ２発明と同一であるとは認められない。
イそして，上記相違点①については，乙Ａ１発明で検討したのと同様に，乙Ａ７，乙Ａ１７等の先行技術を乙Ａ２発明に組み合わせたとしても，「サーボバンドを特定するためのデータ」が「サーボ信号」に「埋め込まれる」構成には達しない。
また，上記相違点②は，「各サーボ信号は，一つのパターンが非平行な縞からなり，各データは，各縞を構成する線の位置を，サーボバンド毎にテープ長手方向にずらすことにより前記各サーボ信号中に埋め込まれている」点であるところ，前記のとおり，乙Ａ２，乙Ａ７，乙Ａ１７には，サーボ信号のパターン構成及びサーボ信号にデータを埋め込む方法は記載されていないため，上記乙Ａ２発明に乙Ａ７発明又は乙Ａ１７発明を組み合わせたとしても，相違点②に係る構成には達しない。仮に，乙Ａ３や乙Ａ４に記載されたようなタイミングサーボパターン及びデータを埋め込む方法が周知であったとしても，相違点②に係る構成とするためには，乙Ａ２発明に当該周知技術を組み合わせた上で，さらに，乙Ａ７発明，乙Ａ１７発明を組み合わせる必要があるため，このように２段階にわたって先行技術を組み合わせることが当業者にとって容易に想到し得たこととはいえない。
以上から，請求項１発明は，乙Ａ２発明及び周知技術に基づいて当業者が容易に発明できたものではない。
(8)争点３－１－７及び争点３－１－８について被告らは，請求項１発明は乙Ａ３発明と同一である，仮に同一でなくても乙Ａ３発明と周知技術を組み合わせれば容易に発明できたと主張する。ア乙Ａ３の前記記載によれば，請求項１発明と乙Ａ３発明の相違点は次のとおりと認められる。請求項１発明においては，「データ」が，「複数のサーボバンドのうちのそのサーボ信号が位置するサーボバンドを特定するためのデータ」である（構成要件Ａ－２）のに対して，乙Ａ３発明においては，「複数のサーボバンドのうちのそのサーボ信号が位置するサーボバンドを特定するためのデータ」についての開示がない点。なお，被告らは，乙Ａ３の２では，サーボ情報に記録されたセクタ識別番号を読み取ることによりサーボバンドを特定できるため，乙Ａ３の２には，「セクタ識別番号などのアドレス情報」として，複数のサーボバンドのうちのサーボ信号が位置するサーボバンドを特定するためのデータがサーボ信号に埋め込まれていることが開示されているといえると主張するが，「セクタ識別番号を読み取ることにより，サーボバンドを特定」することは，乙Ａ３の２には全く開示されていないから，上記主張は採用できず，請求項１発明が乙Ａ３発明と同一であるとは認められない。イそして，上記相違点に係る容易想到性についても，乙Ａ１発明を主引用発明とする場合と同様である。
被告らは，乙Ａ３では，セクタ識別番号を読み取ることにより，磁気ヘッドが位置するサーボバンドを特定することができるところ，磁気テープにおいて複数のサーボバンドが書込まれることは周知の事項であるから，データの記録密度を上げてデータトラックの数と共にサーボトラック（サーボバンド）を複数記録することは当業者であれば容易に想到し得ると主張する。しかし，磁気テープに複数のサーボバンドを書込むことが周知であったとしても，上記で述べたように，乙Ａ３発明には，「セクタ識別番号を読み取ることにより，サーボバンドを特定すること」は全く記載されておらず，また，「セクタ識別番号」と「サーボバンド」との関係性を示唆する記載も見当たらない。したがって，上記主張は採用できない。よって，請求項１発明は，乙Ａ３発明及び周知技術に基づいて当業者が容易に発明できたものではない。
(9)争点３－１－９について
被告らは，請求項１発明は乙Ａ５発明と周知技術を組み合わせれば容易に発明できたと主張する。
ア乙Ａ５の前記記載を踏まえて，請求項１発明と乙Ａ５発明とを対比すると，乙Ａ２発明の場合と同様に，①「各サーボ信号に，複数のサーボバンドのうちのそのサーボ信号が位置するサーボバンドを特定するためのデータがそれぞれ埋め込まれ」ている点（構成要件Ａ－２），及び②「各サーボ信号は，一つのパターンが非平行な縞からなり，各データは，各縞を構成する線の位置を，サーボバンド毎にテープ長手方向にずらすことにより前記各サーボ信号中に埋め込まれている」点（構成要件Ａ－３）で相違する。


イこの点，被告らは，乙Ａ５において，「各サーボバンド内に書き込まれたサーボ信号に，（中略）サーボバンドを特定するためのデータがそれぞれ埋め込まれ」ていると考えるべき理由として，①どのサーボバンドであるかを特定するための情報が各サーボバンドに書き込まれていなければ，磁気ヘッドは，自分がテープの幅方向のいかなる位置にいるかを判断することはできないこと，②実際，複数のサーボバンドを有する磁気テープにおいて，サーボバンドを識別する必要があったことは周知の課題であり，乙Ａ５においても，サーボバンドを特定するための情報が書き込まれることが想定されていること，③記録媒体上のある位置を特定する方法として，当該位置に，当該位置を示す情報（アドレス情報）を記録することは技術常識であるから，乙Ａ５においても，テープの幅方向及び長さ方向における磁気ヘッドの位置を検出するための情報として，かかるアドレス情報を当該位置に書き込むことは，当然に想定されていること等を挙げる。しかし，本件明細書の段落【０００３】に従来技術として掲載されているように（【特許文献１】特開平１１－２７３０４０号公報（公開日：平成１１年１０月８日）），隣接するサーボバンドのサーボパターンをテープ長手方向にオフセットさせ，それらのサーボバンドの信号を同時に読み取って比較することで，サーボバンドを特定する技術が知られている以上，被告の上記①の主張は採用できない。
また，複数のサーボバンドを有する磁気テープにおいて，サーボバンドを識別する必要があったことが周知の課題であった（上記②）としても，それを解決するために，必ずしも，サーボバンドを識別する情報を書き込む技術を採用するとは限らないし，また，記録媒体上の位置に，当該位置を示す情報（アドレス情報）を記録することが技術常識である（上記③）としても，乙Ａ５発明において，テープの「幅方向」における磁気ヘッドの位置を検出するための情報として，「アドレス情報」が当該位置に書き込まれることを裏付ける根拠は，乙Ａ５には何ら見当たらない。そして，乙Ａ５に記載された「テープの幅方向における磁気ヘッドの位置を検出するための情報」（段落【００１４】）が，どの様な「情報」であるのか明確に記載されておらず，テープ幅方向への移動に関して，所望のラップ２（「データトラック」のこと（段落【０００２】）。）にアクセスする際に用いる「サーボ情報」（段落【００１５】，【００１７】，【００２０】，【００２７】，【００２８】，【００３２】，【００４１】参照。）については記載されているものの，他のデータバンドへの移動について具体的な制御方法について明記されていないことからすれば，乙Ａ５に，「各サーボバンド内に書き込まれたサーボ信号に，複数のサーボバンドのうちのそのサーボ信号が位置するサーボバンドを特定するためのデータがそれぞれ埋め込まれ」ていることが開示されているとは認められない。
ウ上記相違点に係る容易想到性についても，乙Ａ２発明の場合と同様である。なお，被告らは，乙Ａ５発明においてタイミング・ベース・サーボを採用し，さらに，各サーボバンド内に書き込まれたサーボ信号に，複数のサーボバンドのうちのそのサーボ信号が位置するサーボバンドを特定するためのデータをそれぞれ埋め込む方法として，非平行な縞を構成する線の位置をテープ長手方向にずらす方法を採用することは，当業者が容易になし得ることであると主張するが，このように周知技術を２段階にわたって重ねて適用して請求項１発明の構成とすることは，当業者にとって容易であるとはいえない。
以上から，請求項１発明は，乙Ａ５発明及び周知技術に基づいて当業者が容易に発明できたとはいえない。
(10)   争点３－１－１０について
被告らは，請求項１発明は乙Ａ２７発明と周知技術を組み合わせれば容易に発明できたと主張する。
ア乙Ａ２７の前記記載を踏まえて，請求項１発明と乙Ａ２７発明とを対比すると，①「各サーボ信号に，複数のサーボバンドのうちのそのサーボ信号が位置するサーボバンドを特定するためのデータがそれぞれ埋め込まれ」ている点（構成要件Ａ－２），及び②「各データは，各縞を構成する線の位置を，サーボバンド毎にテープ長手方向にずらすことにより前記各サーボ信号中に埋め込まれている」点（構成要件Ａ－３）で相違する。イこの点，被告らは，乙Ａ２７のサーボビットは，センタリングチェック（トラッキング制御）に加えてトラックを識別するために使用されるため，乙Ａ２７には，サーボビットにサーボトラック（サーボバンド）を識別するためのデータを埋め込むことが開示されていると主張する。しかし，乙Ａ２７には，「符号化」について，「ワークビット「ｗｂ」は，（中略）同一の符号化された磁気極性およびアライメントの一連の磁気遷移信号を含むと理解される」（６欄４３～４７行），「１つの特徴によれば，ビット符号化方式は，各トラックについて，ワークビットおよびサーボビットのための所定のアライメントを確立する」（６欄５４～５７行）等と記載され，また，トラック番号を識別するために，制御サーボパルス列を「基準パルス」として使用すること（１５欄６０～６２行）は記載されているものの，「サーボビット」に，「サーボトラック（サーボバンド）を識別するためのデータを埋め込むこと」は明記されていない（被告らも，この点がどこに開示されているのか具体的に指摘していない。）。したがって，被告の上記主張は採用できない。


ウ上記相違点①に係る容易想到性は，乙Ａ１発明の場合と同様である。なお，被告らは，乙Ａ２７発明のサーボ技術はタイミング・ベース・サーボと親和性が高く，また，タイミング・ベース・サーボにおいてシェブロンの形を用いるものも知られていたから，乙Ａ２７のサーボ信号に代えて，乙Ａ１，乙Ａ３，乙Ａ４，乙Ａ１８及び乙Ａ２３に開示されている，一つのパターンが非平行な縞からなるサーボ信号を用いて，平行な縞からなるサーボ信号にデータを埋め込むにあたって，縞を構成する線の位置を，サーボバンド毎にテープ長手方向にずらす方法を採用することは容易であったと主張する。しかし，乙Ａ２７には，被告が提示する乙Ａ１，乙Ａ３，乙Ａ４，乙Ａ１８及び乙Ａ２３に見られるようなタイミング・ベース・サーボ技術を採用する動機が見当たらない。また，乙Ａ２７は，ヘッドｈのギャップｇ１，ｇ２とビット対Ａ，Ｂとの相対位置に基づいてトラッキング制御を行うものであって，仮に，このビット対Ａ，Ｂに，乙Ａ１，乙Ａ３，乙Ａ４，乙Ａ１８及び乙Ａ２３に開示されている，縞を構成する線の位置を，サーボバンド毎にテープ長手方向にずらす技術を採用すると，乙Ａ２７において，正確なトラッキング制御を行うことができないことから，乙Ａ２７発明に，乙Ａ１，乙Ａ３，乙Ａ４，乙Ａ１８及び乙Ａ２３に開示されている技術を適用することには阻害要因がある。したがって，乙Ａ２７発明に乙Ａ１，乙Ａ３，乙Ａ４，乙Ａ１８及び乙Ａ２３に開示される周知技術を組み合わせることは，当業者が容易に想到し得ないことである。
(11)   争点３－２について
前記のとおり，乙Ａ２発明ないし乙Ａ３発明に基づいて請求項１発明の新規性ないし進歩性を否定することはできないから，そうであれば，これらの発明に基づいて，請求項１発明の構成を含む本件発明の新規性ないし進歩性を否定することもできない。
(12)   小括
以上のとおり，本件発明に係る本件特許に無効理由がある旨の被告らの主張はいずれも理由がない。
４争点４（本件特許の請求項６は●（省略）●に当たるか（権利濫用の成否））
について
(1)原告ＡＰ－７５契約８条２項の●（省略）●の意義
ア準拠法について
法律行為の効力は，当事者が当該法律行為の当時に選択した地の法による（法の適用に関する通則法７条）ところ，原告ＡＰ－７５契約１１条１１項には，同契約が●（省略）●法（以下，単に●（省略）●法」という。）に従って解釈する旨の規定がある（甲１５）から，原告ＡＰ－７５契約８条２項の●（省略）●の意義は，同契約の当事者が選択した地の法である●（省略）●法に従って解釈すべきである。
イ●（省略）●の意義
証拠（甲２４，２５）及び弁論の全趣旨によれば，●（省略）●法によれば，裁判所が契約ないしその文言が曖昧でないと判断した場合には，各文言に明白かつ通常の意味を割り当て，外的証拠によらずに契約を解釈すべきであり，一方，裁判所が契約ないしその文言が曖昧であると判断した場合には，交渉過程における契約当事者間のやりとりなどの外的証拠を検討し得るとされているものと認められる。
そこで，以上に従って検討すると，原告ＡＰ－７５契約８条２項には，●（省略）●（甲１５）。また，同契約１条６項には，●（省略）●と規定されている（甲１５）。
そして，原告ＡＰ－７５契約の規定する内容によれば，上記の●（省略）●に関する条項（８条２項）は，●（省略）●であることは明らかである。このような契約全体の規定内容も踏まえて，上記の●（省略）●に関する条項（８条２項）の文言を解釈すれば，●（省略）●と解すべきことは明らかである。
なお，念のため，契約当事者であるＴＰＣｓと原告との間の交渉経緯等をみても，上記の文言解釈を左右する事情は見当たらない。すなわち，証拠（甲１６，１９，２０）によれば，●（省略）●が認められる。
以上の事実を踏まえると，●（省略）●以上のとおり，原告ＡＰ－７５契約の交渉経緯等をみても，上記の文言解釈を左右する事情は見当たらない。
なお，原告は，●（省略）●旨主張する。しかしながら，上記のとおり，原告ＡＰ－７５契約における●（省略）●の解釈は，当事者（ＴＰＣｓ及び原告）の合理的意思により解釈されるべきものであり，原告の立場や意思のみを考慮して解釈されるべきものではない。また，●（省略）●また，●（省略）●よって，原告の上記主張は採用できない。以上を前提に，●（省略）●について検討する。
(2)●（省略）●について
ア●（省略）●
(ｱ)原告が主張する●（省略）●
(ｲ)●（省略）●
a証拠（甲１４）及び弁論の全趣旨によれば，●（省略）●bもっとも，●（省略）●から，その前提を欠き，採用できない。なお，原告は，●（省略）●旨主張する。確かに，●（省略）●cまた，●（省略）●について，被告は，●（省略）●旨主張するのに対し，原告は，●（省略）●主張している。●（省略）●dまた，原告は，●（省略）●と主張し，被告らは，●（省略）●と主張する。
●（省略）●もっとも，被告が指摘するように，●（省略）●そう
すると，●（省略）●しかしながら，●（省略）●
(ｳ)●（省略）●
aまず，被告は，●（省略）●主張するところ，●（省略）●そして，
●（省略）●
●（省略）●
b原告は，●（省略）●主張する。これに対して，被告は，●（省略）●主張する。原告は，●（省略）●主張しており（原告準備書面１５・６頁，同１８・４頁），●（省略）●
なお，●（省略）●旨主張する。確かに，●（省略）●しかし，●
（省略）●
c原告は，●（省略）●主張する。これに対して，被告らは，●（省略）●と主張する。●（省略）●もっとも，●（省略）●
しかしながら，●（省略）●
d原告は，●（省略）●と主張する。これに対して，被告らは，●（省略）●
なお，●（省略）●
eその他，原告は，●（省略）●主張し，●（省略）●


(ｴ)●（省略）●
被告は，●（省略）●主張する。これに対し，原告は，●（省略）●主張する。確かに，●（省略）●なお，●（省略）●
そこで検討するに，●（省略）●
(ｵ)小括
以上からすれば，●（省略）●
また，●（省略）●そうすると，●（省略）●
イ●（省略）●
(ｱ)原告が主張する●（省略）●
(ｲ)●（省略）●
そして，●（省略）●
ウ●（省略）●
(ｱ)原告が主張する●（省略）●は，●（省略）●
(ｲ)●（省略）●
●（省略）●
しかしながら，●（省略）●
●（省略）●
エ●（省略）●
(ｱ)原告が主張する●（省略）●は，●（省略）●
(ｲ)●（省略）●
●（省略）●
(ｳ)●（省略）●
被告らは，●（省略）●旨主張する。これに対して，原告は，●（省略）●
しかしながら，●（省略）●
(ｴ)小括
以上からすれば，●（省略）●
オその他の●（省略）●
原告が主張する●（省略）●
カ小括
以上からすれば，●（省略）●から，本件特許の請求項６は，原告ＡＰ－７５契約１条６項の●（省略）●に当たり，同請求項は，同契約８条２項の●（省略）●に当たる。
(3)権利濫用の抗弁について
ア被告自社製品に係る差止請求，廃棄・除却請求について
(ｱ)●（省略）●
他方，●（省略）●
以上を踏まえると，●（省略）●
(ｲ)証拠（乙４ないし９）によれば，●（省略）●また，●（省略）●なお，原告は，●（省略）●主張するようであるが，●（省略）●(ｳ)したがって，原告の被告らに対する被告自社製品に係る差止請求，廃棄・除却請求は，権利の濫用（民法１条３項）に当たり，許されない。
イ損害賠償請求について
(ｱ)前記ア(ｱ)のとおり，●（省略）●
他方，●（省略）●
以上を踏まえると，●（省略）●
(ｲ)まず，●（省略）●
(ｳ)次に，●（省略）●については，被告らは，●（省略）●と主張する。そこで検討するに，被告らは，●（省略）●と主張するが，●（省略）●また，被告らは，仮に原告が，請求項１についての実施料に加えて，請求項６についての実施料相当額の支払を被告ソニーから受けられるとすると，実質的に実施料の二重取りを認める結果となり，不当であるとも主張するが，両請求項が●（省略）●に当たるとしても，それを踏まえて，●（省略）●実施料をどのように定めるかという問題にすぎないし，そもそも，被告らは請求項１について実施料を支払っているものとも認められないから，何ら二重取りを認めることになるものではない。被告は本件発明が何ら技術的な価値を付加するものではないと主張するが，本件発明が新規性及び進歩性を有することは前記３のとおりである。したがって，●（省略）●権利の濫用には当たらない。
５争点５（被告らに共同不法行為が成立するか）
(1)本件期間①について
前記前提事実(5)アのとおり，●（省略）●（本件期間①），被告ＳＳＭＭは，被告製品を製造してこれを被告ソニーに販売し，被告ソニーは，被告製品を販売，輸出していたことが認められるところ，同期間において，被告ＳＳＭＭ及び被告ソニーは，共同して本件特許権を侵害する行為を行っていたものであるから，本件特許権の侵害について共同不法行為が成立する。
(2)本件期間②について
前記前提事実(5)イのとおり，●（省略）●（本件期間②），被告ＳＳＭＭは，被告製品を製造してこれを被告ＳＳＭＳに販売し，被告ＳＳＭＳは，被告製品を被告ソニーに販売し，被告ソニーは，被告製品を販売，輸出していたことが認められるところ，同期間において，被告らは，共同して本件特許権を侵害する行為を行っていたものであるから，本件特許権の侵害について共同不法行為が成立する。
(3)本件期間③について
前記前提事実(5)ウのとおり，●（省略）●被告自社製品につき●（省略）●被告ＯＥＭ製品につき●（省略）●（本件期間③），被告ＳＳＭＭは，被告製品を製造してこれを被告ＳＳＭＳに販売し，被告ＳＳＭＳは，被告製品を販売，輸出していたことが認められる。また，被告ＳＳＭＭ及び被告ＳＳＭＳは，被告ソニーがＴＰＣｓと契約した被告ＡＰ－７５契約に基づいて被告製品を製造，販売等しているものであり，弁論の全趣旨によれば，被告ソニーは，販売した被告製品ごとに，被告ＡＰ－７５契約に基づき，ＴＰＣｓに対してロイヤリティを支払っており，平成２９年４月以降は，被告ＳＳＭＳが，被告ソニーとの間の契約に基づき，被告ソニーがＴＰＣｓに対して支払ったロイヤリティの額を，被告ソニーに対して償還していたことが認められる。以上の事実に照らせば，本件期間③において，被告らは，共同して本件特許権を侵害する行為を行っていたものと認められるから，本件特許権の
侵害について共同不法行為が成立する
６争点６（損害の有無及び額）
(1)前記４(3)及び前記５からすれば，原告は，原告ＡＰ－７５契約８条２項の●（省略）●でのライセンス料相当額（本件ライセンス料相当額）について，被告らに対して損害賠償を請求することができる。
(2)本件ライセンス料相当額について


ＬＴＯ－７規格の技術分野及びその規模，ＦＳＰ間の競争関係，当該技術分野の実施料率の相場（具体的には，社団法人発明協会発行「実施料率〔第五版〕」（甲８５）では，「電子計算機・その他の電子応用装置」のうち，ハードウェアに関する実施料率は，多い方から１％，１０％，３％，４％，５％の順である（平成４～１０年度の総件数）こと，また，経済産業省知的財産政策室編「ロイヤルティ料率データハンドブック～特許権・商標権・プログラム著作権・技術ノウハウ～」（甲８６）では，「情報記憶（G11）」を含む「器械」について，正味販売高に対する料率は，２～３％未満と４～５％未満がいずれも２３．４％（１５件），３～４％未満（１８．８％，１２件），１～２％未満（１４．１％，９件）であること），被告製品の１巻あたりの販売価格（原告は被告製品の小売価格については８８００円としており，被告らもこれを特に争っていないこと），以上の事情に加え，●（省略）●（乙３）も考慮すると，本件ライセンス料相当額は，１巻につき●（省略）●円を下回るものではないと認められる。
この点，原告は，本件ライセンス料相当額が１巻につき●（省略）●円を下回るものではないと主張するが，上記のとおり，●（省略）●を考慮すると，原告の上記主張は採用できない。
他方，被告らは，●（省略）●と主張する。
しかしながら，●（省略）●かえって，●（省略）●よって，被告らの主張はその前提を欠き，採用できない。
(3)被告自社製品に係る損害
アライセンス料相当損害額
弁論の全趣旨によれば，平成２７年１２月から平成３０年６月までの各本件期間に被告らが製造・販売等した被告自社製品の個数は，下記「販売個数」記載のとおりと認められる。よって，各本件期間において被告らが被告自社製品を製造・販売等したことに対するライセンス料相当損害額は，各販売個数に前記(2)の本件ライセンス料相当額である１巻につき●（省略）●円を乗じた下記「損害額」記載の各金額のとおりである。
(ｱ)本件期間①
販売個数：●（省略）●個
損害額：●（省略）●円
(ｲ)本件期間②
販売個数：●（省略）●個
損害額：●（省略）●円
(ｳ)本件期間③
販売個数：●（省略）●個
損害額：●（省略）●円
イ弁護士・弁理士費用
本件事案の内容，複雑さ，上記損害額等を考慮すると，被告自社製品の製造，販売等による本件特許権の侵害と相当因果関係のある弁護士費用相当損害額は，本件期間①につき●（省略）●円，本件期間②につき●（省略）●円，本件期間③につき●（省略）●円を下らない。
ウ損害合計額
以上から，被告らの被告自社製品の製造，販売等による本件特許権の侵害により原告が被った損害の合計は，本件期間①につき●（省略）●円，本件期間②につき●（省略）●円，本件期間③につき●（省略）●円であり，その合計は，●（省略）●円であると認められる。
(4)被告ＯＥＭ製品に係る損害
アライセンス料相当損害額
証拠（乙Ａ３２，３３）及び弁論の全趣旨によれば，平成２７年１２月から平成３０年６月までの各本件期間に被告らが製造・販売等した被告ＯＥＭ製品の個数は，下記「販売個数」記載のとおりと認められる。よって，各本件期間において被告らが被告ＯＥＭ製品を製造・販売等したことに対するライセンス料相当損害額は，各販売個数に前記(2)の本件ライセンス料相当額である１巻につき●（省略）●円を乗じた下記「損害額」記載の各金額のとおりである。
(ｱ)本件期間①
販売個数：●（省略）●個
損害額：●（省略）●円
(ｲ)本件期間②
販売個数：●（省略）●個
損害額：●（省略）●円
(ｳ)本件期間③
販売個数：●（省略）●個
損害額：●（省略）●円
イ弁護士・弁理士費用
本件事案の内容，複雑さ，上記損害額等を考慮すると，被告ＯＥＭ製品の製造，販売等による本件特許権の侵害と相当因果関係のある弁護士費用相当損害額は，本件期間①につき●（省略）●円，本件期間②につき●（省略）●円，本件期間③につき●（省略）●円を下らない。
ウ損害合計額
以上から，被告らの被告ＯＥＭ製品の製造，販売等による本件特許権の侵害により原告が被った損害の合計は，本件期間①につき●（省略）●円，本件期間②につき●（省略）●円，本件期間③につき●（省略）●円であり，その合計は，●（省略）●円であると認められる。
第４結論
よって，原告の請求は，主文第１項ないし第４項記載の限度で理由があるからこれを認容し，その余の請求は理由がないからこれを棄却することとして，主文のとおり判決する。
東京地方裁判所民事第４７部
裁判長裁判官            沖中康   人裁判官            奥              俊      彦
裁判官            髙櫻慎   平
別紙
当事者目録
第１事件・第２事件・第３事件原告富   士フイ   ルム株   式会社（以下，単に「原告」という。）
原告訴   訟代理   人弁護   士片   山英二
服部   誠
中村   閑
黒田   薫
第１事件原告訴訟復代理人弁護士
兼第２事件・第３事件原告訴訟代理人弁護士佐志原     将   吾
第１事件・第２事件原告訴訟復代理人弁護士
兼第３事件原告訴訟代理人弁護士高岸     亘
原告訴   訟代理   人弁理   士    黒川   恵
古橋伸   茂
第１事   件・第   ３事件   被告           ソニ    ー株    式会    社（以下「被告ソニー」という。）
第２事   件・第   ３事件   被告           ソニーストレージメディア
マニュファクチャリング株式会社
（以下「被告ＳＳＭＭ」という。）
第２事   件・第   ３事件   被告           ソニーストレージメディア
ソリューションズ株式会社
（以下「被告ＳＳＭＳ」という。）
上記３名訴訟代理人弁護   士          窪    田    英一    郎
乾   裕介
中   岡   起代子
今井優   仁


平成２５年９月２４日判決言渡同日原本領収    裁判所書記官平成２３年（ワ）第３４１２６号，平成２４年（ワ）第３３０７３号損害賠償，
同中間確認各請求事件
口頭弁論の終結の日平成２５年６月２５日
判          決
東京都千代田区＜以下略＞
原              告      株式会   社アク   セスネ   ット同訴訟代理人弁護士      篠      原      一      廣同訴訟復代理人弁護士    齋      藤              恵
埼玉県鶴ヶ島市＜以下略＞
被              告      ソフト   ウェア   部品株   式会社
主          文
１被告は，原告に対し，２０６万５０００円及びこれに対する平成２３年３月１５日から支払済みまで年６分の割合による金員を支払え。２本件中間確認の訴えを却下する。
３訴訟費用は被告の負担とする。
４この判決は，第１項に限り，仮に執行することができる。
事実及   び理由
第１請求
１原告
主文第１項と同旨
２被告
ソフトウェア「部品屋２００７サーバー」中のプログラム「ミドルソフト」（ハードロック及びソフトロックに関する部分を除く。）がソフトウェア「ＢＳＳ－ＰＡＣＫサーバー（ＷｉｎｄｏｗｓＮＴ版）」，「ＢＳＳ－ＰＡＣＫサーバー（ＵＮＩＸ）」及び「ＢＳＳ－ＰＡＣＫ（ＶＡＸ／ＶＭＳ）」中の各プログラム「ミドルソフト」（ハードロックに関する部分を除く。）の各著作権を侵害しないことを確認する。
第２事案の概要
本件は，原告が，被告との間のパートナー契約において，被告から提供されたソフトウェア中のプログラムにつき，著作権上の瑕疵があるとして，被告に対し，債務不履行に基づき，損害金２０６万５０００円及びこれに対する催告の後の日である平成２３年３月１５日から支払済みまで商事法定利率年６分の割合による遅延損害金の支払を求め，これに対し，被告が，中間確認の訴えとして，上記プログラムが他のプログラムの著作権を侵害しないことの確認を求める事案である。
１前提事実（当事者間に争いのない事実並びに各項末尾掲記の証拠及び弁論の全趣旨により容易に認められる事実）
(1)当事者等
ア原告は，情報通信システムの企画，提案，設計及び開発並びにコンピュータソフトウェアの企画，制作，販売及び輸出入等を業とする株式会社である。
イ被告は，ソフトウェアの開発，仕入れ，輸入，販売及び輸出等を業とする株式会社である。
ウ株式会社ビーエスエス（以下「ビーエスエス」という。）は，コンピューターシステムの設計，製造，輸入及び販売並びにコンピューターソフトウェアの開発，製造，請負，輸出及び販売等を業とし，被告代表者の夫であるＡ１が代表取締役を務める株式会社であり，ソフトウェア部品開発株式会社（以下「ソフトウェア部品開発」という。）は，ソフトウェアの開発，請負，販売及び輸出等を業とし，被告代表者が代表取締役を務め，Ａ１が取締役を務める株式会社である。
（甲１２，乙１６）
(2)パートナー契約の締結及び解除等
ア原告は，平成２１年１０月１日，被告との間で，ソフトウェア「部品屋２００７」シリーズ（以下「本件ソフト群」という。）について，被告がこれを標準価格に基づく価格から３０％割り引いた価格で原告に提供し，原告がこれを使用，再販及び複製等することなどを内容とするパートナー契約（以下「本件契約」という。）を締結し，平成２２年１０月１日，本件契約を更新した。
本件ソフト群は，Ａ１の発意の下に，平成１８年１２月ころから，ビーエスエスとその事業を譲り受けたソフトウェア部品開発によって順次開発されたもので，ソフトウェア「部品屋２００７サーバー」や「部品屋２００７クライアント」（以下，「部品屋２００７サーバー」と併せて「本件両ソフト」という。），「ソフトウェア部品開発ツール」（以下「ソフトウェア部品開発ツール」という。）等から構成され，平成２１年８月ころから，ソフトウェア部品開発の事業を譲り受けた被告がこれを販売している。本件ソフト群は，企業の基幹業務を一元的に統合して管理するＥＲＰ（EnterpriseResourcePlanning）ソフトウェアに属するもので，通常は，Ｗｉｎｄｏｗｓ等の基本ソフトであるＯＳ（OperatingSystem）を変えると，Ｗｏｒｄ等の応用ソフトであるアプリケーションソフトをも変える必要があるが，本件ソフト群を用いることにより，ＯＳを変えたときに，本件両ソフト中のプログラム「ミドルソフト」（以下「本件ミドルソフト」という。）を変えるだけで，アプリケーションソフトに当たる本件両ソフト中のプログラム「ソフトウェア部品」（以下「本件ソフトウェア部品」という。）を変える必要がなくなるというものである。
（甲２，３，乙１，４ないし６）
イ原告は，被告に対し，本件契約を締結する際に３１万５０００円の契約金を，平成２２年１０月１日の更新の際に同額の更新料をそれぞれ支払ったほか，平成２１年１０月及び１１月に本件ソフト群の取扱方法についての研修費として３３万６０００円を支払った。
また，原告は，被告から，平成２１年１０月２２日にソフトウェア「部品屋２００７サーバー」１個を７万円，同「部品屋２００７クライアント」１個を４万９０００円で仕入れ，平成２２年２月２６日及び同年４月９日にソフトウェア「部品屋２００７クライアント・プロテクションキー」各１０個をそれぞれ４９万円で仕入れ，被告に対し，代金合計１０９万９０００円を支払った。
（甲６の１及び２，７の１ないし３，８の１及び２）
ウ原告は，平成２３年２月２８日，被告に対し，本件ソフト群中のプログラムがソフトウェア「ＢＳＳ－ＰＡＣＫ」シリーズ（以下「先行ソフト群」という。）中のプログラムについて，日本電子計算株式会社（以下「日本電子計算」という。）が有する著作権を侵害するもので，原告がこれを利用したり，再販することができないとして，本件契約を解除するとの意思表示をするとともに，損害金２０６万５０００円を同年３月１４日までに支払うよう催告した。
(3)先行ソフト群の開発と複製権の譲渡等


ア先行ソフト群は，Ａ１の発意の下に，平成４年ころから，ビーエスエスによって順次開発されたもので，ソフトウェア「ＢＳＳ－ＰＡＣＫ（ＶＡＸ／ＶＭＳ）」や「ＢＳＳ－ＰＡＣＫサーバー（ＵＮＩＸ）」，「ＢＳＳ－ＰＡＣＫサーバー（ＷｉｎｄｏｗｓＮＴ版）」，「ＢＳＳ－ＰＡＣＫクライアント（メニュークリエイト）」（以下，「ＢＳＳ－ＰＡＣＫサーバー（ＷｉｎｄｏｗｓＮＴ版）」と併せて「先行両ソフト」という。），「部品マイスター」（以下「部品マイスター」という。）等から構成されている。先行ソフト群は，ＥＲＰソフトウェアに属し，これを用いることにより，ＯＳを変えたときに，ソフトウェア「ＢＳＳ－ＰＡＣＫ（ＶＡＸ／ＶＭＳ）」や「ＢＳＳ－ＰＡＣＫサーバー（ＵＮＩＸ）」，先行両ソフト中のプログラム「ミドルソフト」（以下「先行ミドルソフト」という。）を変えるだけで，アプリケーションソフトに当たる上記各ソフトウェア中のプログラム「ソフトウェア部品」（以下「先行ソフトウェア部品」という。）を変える必要がなくなるというものである。
（甲３，４の１及び２，１５，１７，１８，乙１ないし３，７，１８）イ先行両ソフト及び部品マイスター中の各プログラム（以下「先行各プログラム」という。）は，いずれも著作物である。
ウビーエスエスは，株式会社サンライズ・テクノロジー（以下「サンライズ」という。）に対し，平成１８年４月７日に先行ミドルソフトのうちハードロックに関する部分を除いたものの複製権を，同年９月２７日に部品マイスターの複製権をそれぞれ譲渡し（以下，これらの譲渡を「本件各譲渡」という。），これらの複製権者は，平成２１年５月２２日以降，いずれも日本電子計算である。
（甲４の１及び２，１５，１８）
２争点及びこれについての当事者の主張
本件の争点は，被告が原告に著作権上の瑕疵がある本件ソフト群を提供したか否かであり，具体的には，①本件両ソフト及びソフトウェア部品開発ツール中の各プログラム（以下「本件各プログラム」という。）が先行各プログラムを複製又は翻案したものであるか，②原告と被告以外の第三者が先行各プログラムの著作権（複製権又は翻案権）を有するかである。(1)争点①（本件各プログラムが先行各プログラムを複製又は翻案したものであるか）について
（原告の主張）
本件各プログラムは，いずれも，Ａ１の発意の下に，ビーエスエスが先行各プログラムに幾つかのプログラムを加えて開発したものである。①本件ミドルソフトは先行ミドルソフトに，②本件ソフトウェア部品の一部は先行ソフトウェア部品に，③本件ソフトウェア部品をカスタマイズするソフトウェア部品開発ツールは先行ソフトウェア部品をカスタマイズする部品マイスターにそれぞれ相当する。そして，①本件ミドルソフトと先行ミドルソフトには，同一の関数が多数使われている上，ソフトウェア「部品屋２００７サーバー」が対応するＷｉｎｄｏｗｓ２０００，ＷｉｎｄｏｗｓＸＰ及びＷｉｎｄｏｗｓ２００３は，ソフトウェア「ＢＳＳ－ＰＡＣＫサーバー（ＷｉｎｄｏｗｓＮＴ版）」が対応するＷｉｎｄｏｗｓＮＴの後継であって，これと基本設計を同じくして互換性を有するものであり，平成１８年当時，既にＷｉｎｄｏｗｓＮＴが用いられていないにもかかわらず，サンライズがソフトウェア「ＢＳＳ－ＰＡＣＫサーバー（ＷｉｎｄｏｗｓＮＴ版）」を含む先行各プログラム等の著作権を１１億５０００万円で購入したように，当時の先行ミドルソフトは，Ｗｉｎｄｏｗｓ２０００やＷｉｎｄｏｗｓＸＰ，Ｗｉｎｄｏｗｓ２００３にも対応するものであったから，本件ミドルソフトは，先行ミドルソフトの表現上の本質的な特徴を維持している。また，②本件ソフトウェア部品の一部は，先行ソフトウェア部品と同一である。さらに，③ソフトウェア部品開発ツールと部品マイスターは，同一のプログラム「ソフトウェア部品」を同様にカスタマイズするから，ソフトウェア部品開発ツールも，部品マイスターの表現上の本質的な特徴を維持している。そうであるから，本件各プログラムは，先行各プログラムを複製又は翻案したものである。
（被告の主張）


本件各プログラムのうち，②本件ソフトウェア部品の一部は先行ソフトウェア部品と同一であるが，その余は，いずれも，プログラム「ソフトウェア部品」の構造を熟知したビーエスエスが本件各譲渡後に先行ミドルソフトと部品マイスターの各プログラムを消去した上で，新たに開発したものである。①本件ミドルソフトと先行ミドルソフトに同一の関数が多数使われているのは，本件ソフトウェア部品に先行ソフトウェア部品と同一のものがあるからであるが，上記関数は，規約に当たり，著作権法による保護が及ばないし，Ｗｉｎｄｏｗｓ２０００，ＷｉｎｄｏｗｓＸＰ及びＷｉｎｄｏｗｓ２００３は，ＷｉｎｄｏｗｓＮＴと基本設計を異にし，本件ミドルソフトは，マルチシステム等の新機能を多数追加してコーディングも大幅に変更しているから，本件ミドルソフトは，先行ミドルソフトの表現上の本質的な特徴を維持していない（サンライズが平成１８年に先行各プログラム等に関する複製権を１１億５０００万円で購入したのは，購入対象に現在も用いられているＯＳ「ＵＮＩＸ」に対応するソフトウェア「ＢＳＳ－ＰＡＣＫサーバー（ＵＮＩＸ）」中のプログラム「ミドルソフト」に関する複製権が含まれていたからであるし，代金全額がコンサルティング報酬と相殺されるものであったから，上記代金額に意味はない。）。また，本件ソフトウェア部品や先行ソフトウェア部品をカスタマイズするのは，ソフトウェア「ＭｉｃｒｏｓｏｆｔＶｉｓｕａｌＳｔｕｄｉｏ」であるし，③ソフトウェア部品開発ツールや部品マイスターは，本件ソフトウェア部品や先行ソフトウェア部品をカスタマイズするための各種情報を集積したものにすぎない上，対応するプログラム「ミドルソフト」が全く異なるから，ソフトウェア部品開発ツールも，部品マイスターの表現上の本質的な特徴を維持していない。そうであるから，本件各プログラムは，先行各プログラムを複製又は翻案したものでない。
(2)争点②（原告と被告以外の第三者が先行各プログラムの著作権（複製権又は翻案権）を有するか）について
（原告の主張）
ビーエスエスは，サンライズに対し，本件各譲渡の際，先行ミドルソフトのうちハードロックに関する部分と先行ソフトウェア部品の各複製権及び先行各プログラムの翻案権をも譲渡した。そして，先行各プログラムの複製権者及び翻案権者は，平成２１年５月２２日以降，いずれも株式会社フロンテックを経由して先行各プログラムの複製権及び翻案権を譲り受けた日本電子計算である。
（被告の主張）
ビーエスエスは，平成８年ころ，譲渡担保権者から指導を受け，先行ソフト群の知名度を上げて売上げを伸ばすなどの目的で，代理店や先行ソフト群を購入する者等に先行ソフトウェア部品のソースコードを開示し，平成９年ころ，先行ソフトウェア部品の著作権を放棄した。
また，ビーエスエスは，先行ミドルソフトのうちハードロックに関する部分の複製権や先行ミドルソフトと部品マイスターの各翻案権を譲渡したことがなく，サンライズも異議を唱えていないのであって，先行ミドルソフトのうちハードロックに関する部分の複製権者及び先行ミドルソフトと部品マイスターの各翻案権者は，いずれもソフトウェア部品開発を経由してビーエスエスの事業を譲り受けた被告である。
第３当裁判所の判断
１争点①（本件各プログラムが先行各プログラムを複製又は翻案したものであるか）について
(1)本件ソフトウェア部品について
証拠（甲９，１１，１３の１，乙１，４，１４，証人Ａ１）及び弁論の全趣旨によれば，ビーエスエスとソフトウェア部品開発は，平成１９年までに，約１５００個の先行ソフトウェア部品に，新たに開発した約２００個のプログラム「ソフトウェア部品」を加え，約１７００個の本件ソフトウェア部品を制作したことが認められる。この事実によると，ビーエスエスやソフトウェア部品開発は，先行ソフトウェア部品に依拠し，これと一部が同一の本件ソフトウェア部品を制作したものと認められる。
したがって，本件ソフトウェア部品の一部は，先行ソフトウェア部品を複製したものである。
(2)その余の本件各プログラムについて
その余の本件各プログラムが先行各プログラムを複製又は翻案したものであることを認めるに足りる証拠はない。


原告は，①本件ミドルソフトについては，これと先行ミドルソフトに同一の関数が多数使われている上，Ｗｉｎｄｏｗｓ２０００，ＷｉｎｄｏｗｓＸＰ及びＷｉｎｄｏｗｓ２００３は，ＷｉｎｄｏｗｓＮＴの後継で，これと基本設計を同じくして互換性を有するし，当時の先行ミドルソフトはＷｉｎｄｏｗｓ２０００やＷｉｎｄｏｗｓＸＰ，Ｗｉｎｄｏｗｓ２００３にも対応するものであったから，先行ミドルソフトの表現上の本質的な特徴を維持している，②ソフトウェア部品開発ツールについても，これと部品マイスターが同一のプログラム「ソフトウェア部品」を同様にカスタマイズするから，部品マイスターの表現上の本質的な特徴を維持していると主張する。しかしながら，①本件ミドルソフトについてみると，弁論の全趣旨によれば，上記関数は，プログラム「ソフトウェア部品」に対応したインターフェースであることが認められるから，それ自体には著作権法による保護が及ばないし（同法１０条３項２号），その記述が思想又は感情を創作的に表現したものであることを認めるに足りる証拠はない。また，Ｗｉｎｄｏｗｓ２０００，ＷｉｎｄｏｗｓＸＰ及びＷｉｎｄｏｗｓ２００３がＷｉｎｄｏｗｓＮＴと基本設計を同じくして互換性を有することを認めるに足りる証拠はなく，仮に基本設計を同じくして互換性を有するものであるとしても，証拠（甲３，乙４，１４，証人Ａ１）及び弁論の全趣旨によれば，本件ミドルソフトは，先行ミドルソフトにマルチシステム機能や新法等に対応した機能が追加され，ソースコードの記述が随所にわたって変更されたことが認められるから，この事実に照らすと，本件ミドルソフトにおけるソースコードの記述が先行ミドルソフトにおけるソースコードの記述と同一であるとか，その表現上の本質的な特徴の同一性を維持していると認めることはできない。②ソフトウェア部品開発ツールについてみると，これと部品マイスターが同一のプログラム「ソフトウェア部品」を同様にカスタマイズすることを認めるに足りる証拠がなく，ソフトウェア部品開発ツールにおける表現が部品マイスターにおける表現と同一であるとか，その表現上の本質的な特徴の同一性を維持していると認めることはできない。原告の上記主張は，採用することができない。２争点②（原告と被告以外の第三者が先行各プログラムの著作権（複製権又は翻案権）を有するか）について
証拠（甲４の１及び２，１５，１８，証人Ｂ１）によれば，ビーエスエスは，サンライズに対し，平成１８年４月７日に先行ソフトウェア部品を含む先行両ソフトの著作権を，同年９月２７日に部品マイスターの著作権をそれぞれ譲渡したこと，先行各プログラムの著作権は，平成１９年９月１９日には株式会社フロンテックに，平成２１年５月２２日には日本電子計算に順次譲渡されたことが認められる。


被告は，ビーエスエスが，平成８年ころに譲渡担保権者から指導を受け，先行ソフト群の知名度を上げて売上げを伸ばすなどの目的で代理店や先行ソフト群を購入する者等に先行ソフトウェア部品のソースコードを開示し，平成９年ころに先行ソフトウェア部品の著作権を放棄したと主張し，乙１（被告代表者の陳述書），乙４（Ａ１の陳述書）及び証人Ａ１の供述中には，これに沿う内容の陳述がある。証拠（甲１３の１，１７，乙１，７，９，１４，証人Ｃ１及び同Ａ１）によれば，ビーエスエスは，平成８年ころから，先行ソフト群の知名度を上げて売上げを伸ばす目的で，代理店や先行ソフト群を購入した者等に対し，先行ソフトウェア部品のソースコードを記録したＣＤ－ＲＯＭを提供する方法により，上記ソースコードを開示していたことが認められる。しかしながら，ビーエスエスが先行ソフトウェア部品のソースコードを開示していたとしても，このことから，当然にビーエスエスが先行ソフトウェア部品の著作権を放棄したということにはならない。そして，証拠（乙９）によれば，ビーエスエスは，上記方法を通じて，先行ソフトウェア部品の著作権者として，先行ソフト群を購入した者等による先行ソフトウェア部品の改変を許諾していたことが認められる。また，証拠（甲４の２，２０，乙１，３，９，１７の１及び２，１８）によれば，ビーエスエスは，平成９年ころ，先行ソフトウェア部品等に譲渡担保権を設定し，複数の金融機関から億単位の貸付けを受けて，先行ソフトウェア部品の開発を継続していたことが認められるところ，ビーエスエスが先行ソフトウェア部品の著作権を放棄するには，全譲渡担保権者の明確な同意を要すると解されるが，上記金融機関がこれを同意したことは窺えない。さらに，証拠（甲４の１及び２，１８，乙１７の１）によれば，ビーエスエスは，平成７年１０月に，ソフトウェア「ＢＳＳ－ＰＡＣＫクライアント（メニュークリエイト）」について，著作物の内容を「これは業務処理用のアプリケーションプログラムである「ＢＳＳ－ＰＡＣＫ」のクライアント用に開発されたプログラムである。ライブラリー化されている業務処理プログラムを抽出・選択して，業務担当者ごとに処理メニューを構築する機能を有している。」として登録し，平成９年３月１４日に，ソフトウェア「ＢＳＳ－ＰＡＣＫサーバー（ＷｉｎｄｏｗｓＮＴ版）」について，著作物の内容を「本プログラムは，統合業務管理システムＢＳＳ－ＰＡＣＫサーバーのＷｉｎｄｏｗｓＮＴ版である。ＢＳＳ－ＰＡＣＫは，企業体の業務処理をほぼ網羅するプログラム群で構成されており，これらのプログラムを組み合わせることにより，統合されたシステム化が実現できるものである。」として登録して，ビーエスエスが保有する著作物に先行ソフトウェア部品を含めて登録したこと，上記各登録後も，ビーエスエスは，金融機関等の債権者やサンライズとの間で，先行両ソフトの著作権につき，その範囲を限定することなく，譲渡担保権を設定したり譲渡したりする旨の契約書を取り交わしていたことが認められる（なお，ビーエスエスが平成１３年３月３０日に金融機関等の債権者との間で取り交わした譲渡担保権設定契約書には，譲渡担保権の設定対象物からビーエスエスが著作権を放棄した著作物を除く旨の記載があるが（乙１７の１），登録されていない著作物に係るものであって，登録された著作物に係るものではない。）。これらの事情に照らすと，被告の主張に沿う内容の上記各陳述は，たやすく採用することができない。そして，他に被告の主張事実を裏付ける的確な証拠がないことを併せ考えると，ビーエスエスは，先行ソフトウェア部品の著作権を放棄しなかったものと認められる。そうであるから，被告の主張は，ビーエスエスがサンライズに対し先行両ソフトの著作権を譲渡したとの前記認定を左右するものでなく，これを採用することはできない。
３被告は，本件契約において，著作権上の瑕疵がない本件ソフト群を提供する義務を負っていたにもかかわらず，原告に対し先行ソフトウェア部品を複製した本件ソフトウェア部品を含む本件ソフト群を提供したのであるから債務の本旨に従った履行をしていない。
そして，被告が日本電子計算から先行各プログラムの利用の許諾を得る見込みはなく，給付の追完は不可能であって，原告は，被告の債務不履行により，本件契約をした目的を達することができなくなったのであるから，前記第２の１(2)イのとおり，被告に支払った合計２０６万５０００円に相当する額の損害を被ったと認められる。
４したがって，被告は，原告に対し，債務不履行による損害賠償として，２０６万５０００円及びこれに対する催告の後の日である平成２３年３月１５日から支払済みまで商事法定利率年６分の割合による遅延損害金を支払う義務があるから，原告の請求は，理由がある。
なお，被告の中間確認の訴えは，要するに，被告が原告に提供した本件ミドルソフト（ハードロック及びソフトロックに関する部分を除く。）が著作権を侵害しないとして，被告の原告に対する債務不履行に基づく損害賠償債務が存在しないことの確認を求める趣旨であると解されるが，これは，原告の訴えとして当裁判所に係属する事件であるから（民事訴訟法１４２条），不適法である。
５よって，原告の請求は，理由があるからこれを認容し，被告の中間確認の訴えは，不適法であるからこれを却下することとして，主文のとおり判決する。
東京地方裁判所民事第４７部


平成２８年３月３０日判決言渡同日原本受領    裁判所書記官平成２７年（行ケ）第１００９４号審決取消請求事件
口頭弁論終結日平成２８年３月１６日
判     決
原        告        小橋工業株式会社同訴訟代理人弁護士        高    橋      雄一    郎同              北    島      志    保同      弁理士        林              佳    輔同              福    永      健    司被        告        松山株式   会社同訴訟代理人弁理士        樺    澤              襄同              樺    澤              聡同              山    田      哲    也
主     文
１特許庁が無効２０１４－８０００７１号事件について平成２７年４月１０日にした審決を取り消す。
２訴訟費用は被告の負担とする。
事実及び理由
第１請求
主文１項と同旨
第２事案の概要
１特許庁における手続の経緯等
(1)原告は，平成２０年１０月１５日，発明の名称を「ロータリ作業機のシールドカバー」とする発明について特許出願（特願２００８－２６６２６９号。以下「本件出願」という。同年３月２６日にした特許出願（特願２００８－８１３１３号）の分割出願）をし，平成２６年１月１７日，設定の登録（特許第５４５４８４５号）を受けた（請求項の数２。甲７。以下，この特許を「本件特許」という。）。(2)被告は，平成２６年５月２日，本件特許について特許無効審判を請求し，無効２０１４－８０００７１号事件として係属した。
(3)原告は，平成２７年２月１７日，本件特許に係る特許請求の範囲等を訂正する旨の訂正請求をした（甲８の１・２。以下「本件訂正」という。）。(4)特許庁は，平成２７年４月１０日，「請求のとおり訂正を認める。特許第５４５４８４５号の請求項１及び２に係る発明についての特許を無効とする。」との別紙審決書（写し）記載の審決（以下「本件審決」という。）をし，その謄本は，同月２０日，原告に送達された。
(5)原告は，平成２７年５月１４日，本件審決の取消しを求める本件訴訟を提起した。
２特許請求の範囲の記載
本件訂正後の特許請求の範囲の請求項１及び２の記載は，次のとおりである（甲８の２。なお，「／」は原文の改行部分を示す。以下同じ。）。以下，請求項１及び２に係る発明をそれぞれ「本件発明１」及び「本件発明２」といい，併せて「本件発明」という。また，本件訂正後の明細書（甲８の２）を本件特許の図面（甲７）を含めて「本件明細書」という。
【請求項１】
トラクタの後部に装着され，トラクタと共に走行する作業機本体に支持される作業ロータと，その上方を覆うシールドカバー本体とその進行方向後方側に連結され，前記作業ロータの後方を覆うエプロンを有するシールドカバーを備えるロータリ作業機において，／その進行方向後方側の位置で固定され，その進行方向前方側の端部から前記後方側の位置までの区間が自由な状態であり，前記端部寄りの部分が自重で垂れ下がる，弾性を有する土除け材が，前記シールドカバー本体の前記作業ロータ側の面に２枚以上固定されるとともに，前記エプロンの前記作業ロータ側の面に１枚以上固定され，／前記土除け材は前記シールドカバー本体と前記エプロンの周方向に隣接して複数枚配置され，／前記土除け材の内，前記シールドカバー本体に固定された各土除け材の固定位置すべてが，隣接する他の土除け材と互いに重なっていることを特徴とするロータリ作業機のシールドカバー。
【請求項２】
前記土除け材の内，前記作業ロータの回転方向上流側に位置する土除け材が，前記シールドカバー本体に固定された下流側に位置する土除け材を前記作業ロータ側から覆う状態で重なっていることを特徴とする請求項１に記載のロータリ作業機のシールドカバー。
３本件審決の理由の要旨
(1)本件審決の理由は，別紙審決書（写し）のとおりである。要するに，本件発明は，下記アの引用例１に記載された発明（以下「引用発明１」という。）及び下記イの引用例２に記載された発明（以下「引用発明２」という。）に基づいて，当業者が容易に発明をすることができたものであるから，本件特許は，特許法２９条２項の規定に違反してされたものであり，同法１２３条１項２号に該当し，無効とすべきである，というものである。
ア引用例１：実願昭６３－１０６９１７号（実開平２－２９２０２号）のマイ
クロフィルム（甲１）
イ引用例２：特開平６－３０３８０２号公報（甲２）(2)本件審決が認定した引用発明１は，次のとおりである。トラクタの後部に装着され，トラクタと共に走行するロータリ機枠２に支持されるロータリ耕耘部６と，その上方を覆う主カバー１２とその進行方向後方側に連結され，ロータリ耕耘部６の後方を覆う後部カバー１３を有するロータリカバー１１を備えるロータリ耕耘機１において，／主カバー１２のロータリ耕耘部６側の面に，弾性を有する土付着防止部材２０が，その進行方向後方側の位置で複数枚固定され，／前記土付着防止部材２０は，進行方向前方側の端部から前記後方側の位置までの区間が自由な状態であり，前記端部寄りの部分が自重で垂れ下がるもので，／前記土付着防止部材２０は，主カバー１２の周方向に隣接して複数枚配置され，／前記土付着防止部材２０の内，固定位置のある進行方向後方側に隣接する土付着防止部材２０が存在しない土付着防止部材２０を除いて（言い換えると，進行方向において最も後方側の土付着防止部材２０を除いて），主カバー１２に固定された各土付着防止部材２０の固定位置すべてが，隣接する他の土付着防止部材２０と互いに重なっているロータリ耕耘機１のロータリカバー１１。
(3)本件発明１と引用発明１との対比
本件審決が認定した本件発明１と引用発明１との一致点，相違点は次のとおりである。
ア一致点


トラクタの後部に装着され，トラクタと共に走行する作業機本体に支持される作業ロータと，その上方を覆うシールドカバー本体とその進行方向後方側に連結され，前記作業ロータの後方を覆うエプロンを有するシールドカバーを備えるロータリ作業機において，／その進行方向後方側の位置で固定され，その進行方向前方側の端部から前記後方側の位置までの区間が自由な状態であり，前記端部寄りの部分が自重で垂れ下がる，弾性を有する土除け材が，前記シールドカバー本体の前記作業ロータ側の面に２枚以上固定され，／前記土除け材は前記シールドカバー本体の周方向に隣接して複数枚配置され，／前記土除け材の内，シールドカバー本体に固定された進行方向において最も後方側の土除け材を除いて，シールドカバー本体に固定された各土除け材の固定位置すべてが，隣接する他の土除け材と互いに重なっているロータリ作業機のシールドカバー。
イ相違点
本件発明１では，「その進行方向後方側の位置で固定され，その進行方向前方側の端部から前記後方側の位置までの区間が自由な状態であり，前記端部寄りの部分が自重で垂れ下がる，弾性を有する土除け材が，」「前記エプロンの前記作業ロータ側の面に１枚以上固定され」，シールドカバー本体とエプロンに固定された土除け材はシールドカバー本体とエプロンの周方向に隣接して配置され，シールドカバー本体に固定された進行方向において最も後方側の土除け材の固定位置が，隣接するエプロンに固定された土除け材と互いに重なっているのに対し，引用発明１では，エプロン側に土除け材がなく，そのような構成を有していない点。(4)本件審決が認定した引用発明２は，次のとおりである。リヤカバー１３のロータリー１１側の面に，弾性を有する弾性部材２３が，その進行方向後方側の位置で固定されるとともに，固定部を除いて前方側が自由な状態であり，その弾性部材２３が，メインカバー１２の補強板１８に対する低摩擦係数の部材１４の固定位置において，その低摩擦係数の部材１４と互いに重なっているロータリカバー。
４取消事由
相違点の容易想到性の判断の誤り
第３当事者の主張
〔原告の主張〕
(1)本件審決による引用発明２の認定の誤り
本件審決は，引用発明２の「低摩擦係数の部材１４の後端部１４ａのプレート２１による固定部」が，「メインカバー１２の補強板１８に対する低摩擦係数の部材１４の固定位置」であると認定し，当該プレート２１による固定部が，本件発明１の「シールドカバー本体に固定された各土除け材の固定位置」に相当すると判断した。
しかし，本件発明１における「シールドカバー本体に固定された各土除け材の固定位置」とは，土除け材のうち，カバー部材に固定されて自由に振動することができない部分をいう。
これに対して，引用発明２では，低摩擦係数の部材１４の前端部１４ｂから後端部１４ａまでの全体が，「メインカバー１２の裏面にすきまなく密着して取り付けられ」ているため（引用例２【００１０】），低摩擦係数の部材１４のうち，「プレート２１による固定部」のみならず，メインカバー１２の裏面に隙間なく密着して取り付けられている前端部１４ｂから後端部１４ａまでの全体が，本件発明１の「シールドカバー本体に固定された各土除け材の固定位置」に相当する。そうすると，引用例２には，せいぜい，弾性部材２３が，「シールドカバー本体に固定された各土除け材の固定位置」の一部である「低摩擦係数の部材１４の後端部１４ａのプレート２１による固定部」と互いに重なることが開示されているにすぎず，低摩擦係数の部材１４のうち「低摩擦係数の部材１４の後端部１４ａのプレート２１による固定部」以外の部分は，弾性部材２３と互いに重なっていないから，「前記シールドカバー本体に固定された各土除け材の固定位置すべてが，隣接する他の土除け材と互いに重なっている」という本件発明１の構成は開示されていないし，本件審決が認定した相違点のうち，「シールドカバー本体に固定された進行方向において最も後方側の土除け材の固定位置が，隣接するエプロンに固定された土除け材と互いに重なっている」という構成は開示されていない。(2)引用発明１に引用発明２を組み合わせて本件発明１に想到することができ
ないこと
ア引用発明１に引用発明２を組み合わせる動機付けがないこと
(ア)課題の共通性がないこと
本件発明１の課題は，土除け材がその周方向の一端で固定され，他端側が自由な状態になる構成において，土除け材自身の振動が生じない固定位置に土砂が集中的に付着するという課題を解決するものであり，本件明細書の【０００５】の記載から，特に，土除け材の固定位置の中でも，シールドカバーの後方側に固定される土除け材の固定位置への土砂の付着を課題とするものである。これに対して，引用発明１の課題は「ロータリカバー側に土が付着するのを防止すること」であるが，引用発明１において，進行方向において最も後方側のボルト２１が，他の土付着防止部材２０によって覆われないことから，引用発明１では，固定位置の中でも，特にシールドカバーの後方側に固定される土除け材の固定位置への土砂の付着という本件発明１の課題は全く認識されていない。また，引用発明２の課題は，引用例２の【図６】において，メインカバー１に固着した土付着防止部材４は自重で垂れ下がりやすく，飛散した土の流れが悪くなり，メインカバー１とロータリとの間に土が詰まりやすくなること，メインカバー１とリヤカバー２との「枢着」部分に，双方の土付着防止部材４と５との間隙が生じ，この間隙から飛散した土が侵入して「枢着」部分に土がたまりやすくなることである（引用例２【０００３】，【０００４】）。したがって，引用発明２は，そもそも自重で垂れ下がる土付着防止部材を用いないから，土除け材がその周方向の一端で固定され，他端側が自由な状態になる構成において，土除け材自身の振動が生じない固定位置に土砂が集中的に付着するという本件発明１の課題は全く認識されていない。
以上のとおり，本件発明１の課題は，引用発明１及び引用発明２のいずれの課題とも共通性がない。
(イ)作用効果の共通性がないこと


本件発明１は，土除け材がその周方向の一端で固定され，他端側が自由な状態になることで，作業機本体の振動に起因して発生する振動時の振幅が最大限発揮されるため，付着した土砂の落下を誘発する効果が高まり，土砂の付着と堆積を回避する効果が得られるとともに，土除け材の固定位置を覆うように隣接する土除け材を重ねて固定することによって，付着した土砂が落下しにくい固定位置への土砂の付着自体を生じにくくすることができ，この結果，振動による落下を期待するまでもなく，土砂を落下させる必要がない状態を得ることが可能になり，土砂の付着と堆積を有効に防止することができる（本件明細書【００１６】，【００１８】，【００２８】，【００２９】）という顕著な作用効果を有する。これに対して，引用発明１の作用効果は，土付着防止部材２０が付着した土の重量で下降すると，回転する耕耘爪１０によって土が掻き落とされ，土が掻き落とされた後に，土付着防止部材２０が元の位置に復元するというものである。したがって，付着した土砂が落下しにくい固定位置への土砂の付着自体を生じにくくするという本件発明１の作用効果を目的とするものではなく，また，前記(ア)のとおり，引用発明１では，進行方向において最も後方側のボルト２１が他の土付着防止部材２０によって覆われないことから，特に土砂の付着しやすいシールドカバーの後方側に固定される土除け材の固定位置において，土砂の付着と堆積を防止するという作用効果も有しない。
また，引用発明２の作用効果は，引用例２の【０００６】に記載されたとおりであり，弾性を有する土除け材の振動による土砂の落下を誘発する効果を最大限発揮させるという本件発明１の作用効果を目的とするものではなく，他端側が自由な状態である土除け材の固定位置において土砂の付着と堆積を防止するという作用効果も有しない。
以上のように，本件発明１の作用効果は，引用発明１及び引用発明２のいずれの作用効果とも共通性がない。
(ウ)引用例１の内容中に示唆がないこと
本件審決は，引用例１には，後部カバー１３に土付着防止部材を設けることが示唆されていると判断した。
しかし，引用例１の第６図に記載された発明において，主カバー１２及び後部カバー１３は，共に矩形状の鉄製の枠体３４で構成されており，第１図から第３図に記載された引用発明１に対応する実施例とはロータリーカバー１１の構成が異なる。したがって，引用例１の第６図に記載された可とう性を有する部材２０ｂは本件発明１の土除け材に相当するものではないから，引用例１には後部カバー１３に本件発明１の土除け材を設けることは示唆されていない。イ引用発明１に引用発明２を組み合わせることに阻害要因があること引用発明２は，従来のゴム等の弾性部材からなる土付着防止部材が自重で垂れ下がることによる不都合を課題とする発明であるから（引用例２【０００４】），自重で垂れ下がる土付着防止部材を用いることを排除するものである。これに対して，引用発明１は，土付着防止部材２０が付着した土の重量で下降すると，回転する耕耘爪１０によって土が掻き落とされ，土が掻き落とされた後に，土付着防止部材２０が元の位置に復元するとの作用を有し，進行方向前方側の端部が自由な状態であり，自重で垂れ下がる土付着防止部材を用いることを前提としている。
そうすると，引用発明１に，引用発明２を組み合わせることには阻害要因があり，当業者であっても引用発明２に記載された低摩擦係数の部材１４や弾性部材２３の前端部２３ａを，進行方向前方側の端部が自重で垂れ下がるように変更することは通常行わないし，引用発明２の目的にも反する。
(3)相違点の容易想到性の判断の誤り
ア本件審決は，引用発明２の弾性部材の端部寄りの部分が自重で垂れ下がるものであるなどとして，相違点の容易想到性を肯定した。しかし，引用発明２は，従来のゴム等の弾性部材からなる土付着防止部材が自重で垂れ下がることによる不都合を課題とする発明である（引用例２【０００４】）。したがって，弾性部材２３の前端部２３ａはブラケット１９に密着しており，自重での垂れ下がりがなく，このことは，「図３に示した弾性部材の前端部２３ａを更に前方へ延設し，前記低摩擦係数の部材１４と重ね合わせた状態」にした場合も同様である（引用例２【００１５】）。
そうすると，引用発明２の弾性部材２３について端部寄りの部分が自重で垂れ下がるような材質のものに変更することは，土付着防止部材が自重で垂れ下がることによる不都合を課題とする引用発明２の目的に反するから，当業者が適宜になし得ることではない。
イ被告は，引用発明２は，引用例２の【図６】におけるリヤカバー２に固着された土付着防止部材（弾性部材）５が自重で垂れ下がることによる不都合を課題とするものではなく，メインカバー１に固着された土付着防止部材（弾性部材）４が自重で垂れ下がることによる不都合を課題とするものである旨主張する。しかし，引用例２の【０００４】の記載によれば，耕耘作業によって飛散した土が，ロータリの回動領域に沿って配置されるメインカバー及びリヤカバーからなるロータリカバーとロータリとの間に流れることは明らかであるから，リヤカバーに固着された土付着防止部材が自重で垂れ下がる場合も，飛散した土の流れが悪くなることは同様である。
また，引用例２の【０００４】，【０００６】の記載に照らすと，リヤカバーに固着された土付着防止部材（弾性部材）を自重で垂れ下がるように構成すると，リヤカバー２の枢着部分では，メインカバーに取り付けた低摩擦係数の部材と，リヤカバーに取り付けた弾性部材との接合部に間隙が生じるため，ここに土がたまりやすくなるという引用発明２の課題を解決できない。よって，引用発明２の弾性部材２３について端部寄りの部分が自重で垂れ下がるような材質のものに変更することは，引用発明２の目的に反する。


ウ被告は，引用発明２の弾性部材２３の前端部２３ａを前方へ延設して低摩擦係数の部材１４と重ね合わせた状態にした場合，端部寄りの部分が自重で垂れ下がることは当然に生じる事象にすぎないが，メインカバー側の低摩擦係数の部材１４とリヤカバー側の弾性部材２３との接合部には間隙は生じないため，接合部に土がたまりやすくなるという引用発明２の課題を解決できる旨主張する。しかし，引用例２の【図３】において，弾性部材２３のリヤカバー１３に対する最も前方の固定位置は，固定具２７の鍔部２７ａの部分である。仮に弾性部材２３が自重で垂れ下がる程度の弾性係数を有する部材で形成されているとすると，弾性部材２３の延長された前方側の端部寄りの部分は，鍔部２７ａを支点として前方に向かって徐々に垂れ下がりが大きくなり，ブラケット１９の下面と弾性部材２３との間に隙間が生じてしまうため，ここに土がたまりやすくなるという引用発明２の課題を解決できない。
特に，引用発明２で，リヤカバー１３を下降させた状態において，既に前方側の端部寄りの部分が自重で垂れ下がるような弾性部材２３を用いた場合，リヤカバー１３を上方へ回動させると，弾性部材２３の垂れ下がり位置はリヤカバー下降時よりさらに下方になるため，リヤカバーの枢着部分では，メインカバーに取り付けた低摩擦係数の部材と，リヤカバーに取り付けた弾性部材との接合部にさらに間隙が生じ，ここに土がたまりやすくなってしまい，引用発明２の作用効果（【００１５】）を奏することができない。そうすると，上記作用効果を奏するためには，リヤカバー１３を下降させた状態において，既に前方側の端部寄りの部分が自重で垂れ下がるような弾性部材２３を用いることはできない。したがって，被告の上記主張は理由がない。
(4)本件発明１に顕著な作用効果があること
本件発明１は，前記(2)ア(イ)に記載したとおりの顕著な作用効果を有する。これに対して，引用発明１では，前記(2)ア(イ)のとおり，進行方向において最も後方側のボルト２１が他の土付着防止部材２０によって覆われないことから，特に土砂の付着しやすいシールドカバーの後方側に固定される土除け材の固定位置において，土砂の付着と堆積を防止するという作用効果を有しない。また，引用発明２では，そもそも土除け材がその周方向の一端で固定され，他端側が自由な状態になることで，作業機本体の振動に起因して発生する振動時の振幅が最大限発揮されるという構成を有しないため，他端側が自由な状態である土除け材の固定位置において土砂の付着と堆積を防止するという作用効果を有しない。したがって，本件発明１は，引用発明１にも引用発明２にもない顕著な作用効果を有する。
(5)小括
以上のとおり，本件審決は，引用発明２の認定を誤り，その結果，相違点の容易想到性の判断を誤っているから，取り消されるべきである。
〔被告の主張〕
(1)本件審決による引用発明２の認定に誤りがないこと本件審決は，引用発明２において，プレート２１による固定部である「メインカバー１２の補強板１８に対する低摩擦係数の部材１４の固定位置」が，本件発明１の「シールドカバー本体側の他方の土除け材のシールドカバー本体への固定位置」に相当すると判断しているのであって，「シールドカバー本体に固定された「各」土除け材の固定位置」に相当するとの判断をしているものではない。そして，引用例２の【図３】には，低摩擦係数の部材１４の後端部１４ａがメインカバー１２の補強板１８にプレート２１によって固定された構成が記載されており，その低摩擦係数の部材１４の後端部１４ａのプレート２１による固定部は，前方へ延設（延出）された弾性部材２３の前端部２３ａによって覆われて，この前端部２３ａと互いに重なっている。
また，引用例２の【００１０】には，前端部１４ｂ及び後端部１４ａがメインカバー１２に対する低摩擦係数の部材１４の固定箇所（固定部）であることが明記されており，同記載内容からみて，引用発明２の「低摩擦係数の部材１４の後端部１４ａのプレート２１による固定部」が，「メインカバー１２の補強板１８に対する低摩擦係数の部材１４の固定位置」であることは明らかである。仮に，低摩擦係数の部材１４の全体が「土除け材の固定位置」に相当すると仮定したとしても，原告が自認するように，プレート２１による固定部（後端部１４ａ）は，「土除け材の固定位置」の一部であるから，「土除け材の固定位置」に相当する。
さらに，「低摩擦係数の部材１４の前端部１４ｂのプレート１６による固定部」が，「土除け材の固定位置」に含まれたとしても，「低摩擦係数の部材１４の後端部１４ａのプレート２１による固定部」が「土除け材の固定位置」であることに変わりはない。
なお，本件審決は，引用例２に「前記シールドカバー本体に固定された各土除け材の固定位置すべてが，隣接する他の土除け材と互いに重なっている」という構成が開示されているとの認定をしているものではない。
したがって，本件審決による引用発明２の認定に誤りはない。(2)引用発明１に引用発明２を組み合わせることによって本件発明１に想到す
ることができること
ア引用発明１に引用発明２を組み合わせることについての動機付けがあること引用発明１はロータリカバー（シールドカバー）に土が付着するのを防止することを課題とするところ，引用発明２もロータリカバー（シールドカバー）に土が付着するのを防止することを課題とするから，引用発明１と引用発明２とは課題が共通する。なお，本件発明１も，引用発明１及び引用発明２と同様，シールドカバーに土が付着するのを防止することを課題とする。
また，引用発明１と引用発明２とは，課題が共通することから，作用効果も共通する。
さらに，引用例１の第６図に記載されたロータリ耕耘機は，「主カバー１２」及び「後部カバー１３」を有するから，第１図ないし第３図に記載された引用発明１とはロータリーカバーの構成が異なるものではなく，また，可とう性を有する部材２０ｂは土付着防止部材（土除け材）に相当するから，引用例１には，後部カバー１３（エプロン）に土付着防止部材（土除け材）を設けることが示唆されている。そもそも引用発明１と引用発明２とは，ともにロータリカバー及びその土付着防止に関する技術分野に属するものであるから，技術分野が共通し，また，引用発明１に引用発明２を適用して引用発明１のエプロンに土除け材を設けることは技術的に困難なことでもない。


したがって，引用発明１に引用発明２を組み合わせる動機付けがある。イ引用発明１に引用発明２を組み合わせることに阻害要因はないこと引用例２の【０００４】の記載及び特許請求の範囲の請求項１にはメインカバー及びリヤカバーのうち，メインカバーに対してのみ，「（自重で垂れ下がる）弾性部材」ではなく，「低摩擦係数の部材」を密接して取り付けると規定されていること，引用例２の【図６】におけるリヤカバー２に固着された土付着防止部材５が自重で垂れ下がる旨の記載や，リヤカバー２とロータリとの間に土が詰りやすくなる旨の記載はないことからすれば，引用発明２は，メインカバー１に固着された土付着防止部材（弾性部材）が自重で垂れ下がることによる不都合を課題とするものであって，リヤカバーに固着された土付着防止部材（弾性部材）が自重で垂れ下がることによる不都合を課題とするものではない。したがって，リヤカバーに取り付ける弾性部材について，自重で垂れ下がる土付着防止部材を用いることを何ら排除していない。このため，引用発明２のリヤカバー側の弾性部材２３について進行方向前方側の端部寄りの部分が自重で垂れ下がるような材質のものに変更することは，引用発明２の目的に反するものではない。
したがって，引用発明１に引用発明２を組み合わせることに阻害要因はない。(3)本件審決による相違点の容易想到性の判断に誤りがないことア引用例２の【００１２】には，弾性部材２３はゴム等の弾力に富んだ材質のものであることが明記されていることから，弾性部材２３の弾性係数や延設長さ等によってその垂れ下がる量は異なるものの，弾性部材２３のうち，前方へ延設された端部寄りの部分が自重で垂れ下がることは，当然に生じる事象にすぎない。そして，弾性部材２３の前端部２３ａを前方へ延設して低摩擦係数の部材１４と重ね合わせた状態にした場合でも，弾性部材２３の前端部２３ａはブラケット１９に密着した状態となっており，メインカバー側の低摩擦係数の部材１４とリヤカバー側の弾性部材２３との接合部には間隙は生じないため，接合部に土がたまりやすくなるという引用発明２の課題を解決することができる。
また，前記(2)イのとおり，引用発明２の課題は，メインカバー１に固着された土付着防止部材（弾性部材）４が自重で垂れ下がることによる不都合であって，リヤカバー２に固着された土付着防止部材（弾性部材）５が自重で垂れ下がることによる不都合を課題とするものではない。
そうすると，引用発明２のリヤカバー側の弾性部材２３について前方側の端部寄りの部分が自重で垂れ下がるような材質のものに変更することは，メインカバーに固着された土付着防止部材が自重で垂れ下がることによる不都合を課題とする引用発明２の目的に反するものではない。リヤカバー（エプロン）に固着された土付着防止部材（土除け材）である弾性部材２３を，進行方向前方側の端部寄りの部分が自重で垂れ下がるような材質のものとすることは，当業者が適宜になし得る程度のことにすぎない。
したがって，本件審決による容易想到性の判断に誤りはない。イ原告は，リヤカバーに固着された土付着防止部材（弾性部材）を自重で垂れ下がるように構成すると，リヤカバー２の枢着部分では，メインカバーに取り付けた低摩擦係数の部材と，リヤカバーに取り付けた弾性部材との接合部に間隙が生じるため，ここに土がたまりやすくなるという引用発明２の課題も解決できず，引用発明２の目的に反する旨主張する。
しかし，原告は，リヤカバー側の弾性部材を自重で垂れ下がるように構成すると，低摩擦係数の部材と弾性部材との接合部に間隙が生じると単に抽象的に主張するのみで，接合部に間隙が生じる具体的な理由の説明がない。また，仮に弾性部材を自重で垂れ下がるように構成する際に低摩擦係数の部材と弾性部材との接合部に間隙が生じるおそれがあれば，接合部に間隙が生じないように，弾性部材の弾性係数や延設長さ等を決定することは，当業者が適宜なし得ることにすぎない。したがって，原告の上記主張は理由がない。
(4)本件発明１には顕著な作用効果はないこと
引用発明１及び引用発明２は，土除け材によりシールドカバーへの土の付着が防止されるものであって，シールドカバー本体側の土除け材の固定位置においても，土の付着が防止されるものである。
そして，引用発明１に引用発明２を組み合わせたものでは，シールドカバー本体の進行方向後方側の位置で固定された土除け材の固定位置が，エプロンの進行方向後方側の位置で固定された土除け材の前方端部側によって覆われて，土の付着が防止され，結局，シールドカバー本体に固定された各土除け材の固定位置全てが，隣接する他の土除け材と互いに重なった構成となる。そうすると，土砂の付着と堆積を有効に防止できる等の本件発明１の作用効果は，引用発明１及び引用発明２の作用効果からみて，当業者が予測し得る程度のものにすぎない。したがって，本件発明１に顕著な作用効果はない。
(5)小括
以上のとおりであるから，原告主張に係る取消事由は理由がない。
第４当裁判所の判断
１本件発明について
(1)本件発明に係る特許請求の範囲は，前記第２の２記載のとおりであるところ，本件明細書（甲８の２）の発明の詳細な説明には，おおむね，以下の記載がある（下記記載中に引用する図１は，別紙１を参照。）。
ア技術分野
【０００１】本発明はトラクタの後部に昇降可能に装着され，作業ロータを備えるロータリ作業機において，作業ロータが跳ね上げる土砂の付着を防止する機能を有するシールドカバーに関するものである。
イ背景技術
【０００２】耕耘作業機のような，ロータリ軸の周りに複数の耕耘爪等の爪が突設された作業ロータを備えるロータリ作業機では，爪が跳ね上げる土砂が作業機本体に及ぶことを防止するために，作業ロータの上方にシールドカバーが固定される。シールドカバーはトラクタのＰＴＯ軸から動力を受けるギアボックスを中心として作業機本体の幅方向に張り出し，ロータリ軸に動力を伝達する伝動フレームと，ギアボックスを挟んで伝動フレームに連続する支持フレームに支持される。【０００３】シールドカバーの内周面が直接，ロータリ軸に面する場合には，土砂はシールドカバーの内周面（作業ロータ側の面）に付着することになるが，付着した土砂は回転する爪の抵抗になり，作業効率を低下させる問題を招く。そこで，シールドカバーの内周面への土砂の付着と堆積を防止する目的で，シールドカバーの内周面に土砂付着防止用の板を固定することがある（特許文献１参照）。
ウ発明が解決しようとする課題


【０００６】特許文献１のようにシールドカバーの内周面に例えばゴム製の付着防止板を固定した場合，付着防止板に付着した土砂は作業機の走行中の振動によってある程度，土砂が付着した時点で，自重で落下することを期待することはできる。【０００７】しかしながら，特許文献１では付着防止板を幅方向，すなわちシールドカバーの周方向の両側位置でシールドカバーに固定していることから（段落００１７），付着防止板自体がシールドカバーから独立して振動を起こしにくいため，効果的に土砂を落下させることは難しい。付着防止板は固定位置以外の中間部では振動することができるものの，両側が固定されている以上，振動の自由度が低いことによる。
【０００８】特に土砂は付着防止板の中では振動しない，ボルト等による固定位置に集中的に付着していく傾向があるため，固定位置では付着防止板自身による土砂の除去効果を期待することができない。
【０００９】本発明は上記背景より，付着防止板自身が付着した土砂の除去機能を有し，特に付着防止板の固定位置への土砂の付着を排除する機能を有するロータリ作業機のシールドカバーを提案するものである。
エ課題を解決するための手段
【００１６】土除け材の固定位置はそれ自身の振動によっても振動を生じない箇所であるから，付着した土砂が落下しにくく，土砂が堆積し易い。そこで，前方側の土除け材の固定位置を後方側の土除け材が覆うことで，または逆に後方側の土除け材の固定位置を前方側の土除け材が覆うことで，固定位置への土砂の付着自体を生じにくくすることができる。この結果，振動による落下を期待するまでもなく，土砂を落下させる必要がない状態を得ることが可能になる。【００１７】土除け材がその周方向一方側の位置で固定されることで，他方の端部側が自由な状態にあるため，土除け材は固定位置を固定端部として作業ロータの半径方向に自由に振動することができる。
【００１８】土除け材がその周方向の一端で固定され，他端側が自由になることで，作業機本体の振動に起因して発生する振動時の振幅が最大限，発揮されるため，付着した土砂の落下を誘発する効果が高まり，土砂の付着と堆積を回避する効果が得られる。従って土除け材は固定位置を除き，土除け材の全周に亘って土砂の付着防止効果を発揮する。土除け材に付着した土砂は土除け材自身の振動による他，ロータリ軸の回転と共に回転する爪が掻き落とすことによっても土除け材から落下する。【００２１】複数枚の土除け材がシールドカバー本体の周方向に隣接して配列し，一方の土除け材が他方の土除け材のシールドカバー本体への固定位置において互いに重なることで，作業ロータの半径方向に見たとき，重なり部分で作業ロータ側に位置する土除け材がシールドカバー本体側に位置する土除け材の固定位置の部分を作業ロータ側から覆うことになる。この結果，少なくともシールドカバー本体側に位置する土除け材の固定位置に土砂が付着することが防止，もしくは抑制される。【００２２】この場合，土砂が付着する領域は固定位置以外の部分に制限されるため，土砂は土除け材の固定位置以外の領域に付着することになるが，固定位置以外の部分はシールドカバー本体に拘束されていないため，土除け材は固定位置を固定端部として作業機本体の振動に伴い，作業ロータの半径方向に自由に振動することができる。このため，土除け材は前記の通り，それ自身の振動によって付着した土砂を落下させる効果を発揮するため，固定位置への付着防止効果と併せて土除け材の全周に亘って土砂の除去（排除）効果が期待される。【００２３】従って前記のように爪が圃場面に対し，作業機本体の進行方向前方から後方へ向かってダウンカット回転する場合には，シールドカバー本体の周方向に隣接し，互いに重なる２枚の土除け材の内，相対的に作業機本体の進行方向前方側に位置する土除け材がその重なり部分においてシールドカバー本体に固定されていれば，後方側に位置する土除け材が固定部分への土砂の付着を阻止する機能を発揮する。
オ発明の効果
【００２８】弾性を有する土除け材をその周方向一方側の位置でシールドカバー本体，またはシールドカバー本体とエプロンに固定することで，他方の端部側を自由な状態にするため，土除け材を，固定位置を固定端部として作業ロータの半径方向に自由に振動させることができる。
【００２９】この結果，作業機本体の振動に起因して発生する振動時の振幅が最大限，発揮されるため，付着した土砂の落下を誘発する効果が高まり，土砂の付着と堆積を防止する効果が得られる。特に土除け材の固定位置を覆うように隣接する土除け材を重ねて固定した場合には，付着した土砂が落下しにくい箇所への付着を防止することができるため，土砂の付着と堆積を有効に防止することができる。
カ発明を実施するための最良の形態
【００４１】図１に示すようにシールドカバー本体２とエプロン３の作業ロータ５側の面に，複数枚の土除け材４がシールドカバー本体２の周方向に配列し，固定される。
【００４２】土除け材４には主に数ｍｍ～１０数ｍｍ程度の肉厚を持つ硬質のゴムが使用され，作業機本体１０の振動に伴って自ら振動できる程度の弾性を持ち，また図１に示すようにロータリ軸６の断面上は後述のようにシールドカバー本体２への拘束のない周方向の端部寄りが自重で垂れ下がる程度の剛性を有する。土除け材４がここで言う適度の弾性と剛性を有すれば，土除け材４の材料は限定されず，プラスチック製や金属製の板も使用される。
【００５１】シールドカバー本体２への固定位置が土除け材４の周方向後方側であることで，土除け材４の前方側の端部から固定位置までの区間は拘束がないため，土除け材４の前方側の端部寄りの部分は自重で垂れ下がった状態になる。土除け材４の前方側端部から固定位置までの区間が自由であることで，この区間は作業機本体１０の振動に伴って自由な振動が生じ，土除け材４は自身の振動によって付着している土砂を落下させる機能を有する。
(2)本件発明の特許請求の範囲及び前記(1)の記載によれば，本件発明に関し，以下の点が開示されていることが認められる。
本件発明は，トラクタの後部に昇降可能に装着されるロータリ作業機のシールドカバー，特にロータリ作業機の作業ロータが跳ね上げる土砂の付着を防止する機能を有するシールドカバーに関する（【０００１】）。


ロータリ軸の周りに複数の爪が突設された作業ロータを備えるロータリ作業機では，爪が跳ね上げる土砂が作業機本体に及ぶことを防止するために，作業ロータの上方にシールドカバーが固定されるが（【０００２】），シールドカバーの内周面（作業ロータ側の面）が直接ロータリ軸に面する場合，シールドカバーの内周面に土砂が付着し，その土砂が回転する爪の抵抗になって作業効率を低下させるので，シールドカバー内周面への土砂の付着・堆積を防止するため，シールドカバーの内周面にゴム製の付着防止板が固定される（【０００３】，【０００６】）。付着防止板に付着した土砂は，ロータリ作業機の走行中の振動によって自重で落下することが期待できるが（【０００６】），付着防止板をシールドカバーの周方向の両側位置で固定した場合，付着防止板は，固定位置以外の中間部では振動するものの，両側が固定されている以上，振動の自由度は低く，シールドカバーから独立して振動しにくいので，効果的に土砂を落下させることは難しいという課題があり（【０００７】），特に，付着防止板の固定位置では，付着防止板が振動しないため，土砂が集中して付着する傾向がある一方で，付着防止板自身による土砂の除去効果を期待できないという課題があった（【０００８】）。本件発明は，上記課題に鑑み，付着防止板自身が付着した土砂の除去機能を有し，特に付着防止板の固定位置への土砂の付着を排除する機能を有するロータリ作業機のシールドカバーを提案するものである（【０００９】）。本件発明のシールドカバーは，弾性を有する土除け材がシールドカバー本体の作業ロータ側の面に２枚以上，エプロンの作業ロータ側の面に１枚以上，それぞれ固定されており，各土除け材がその進行方向後方側の位置で固定され，その進行方向前方側の端部からその進行方向後方側の位置までの区間が自由な状態とされて，その進行方向前方側の端部寄りの部分が自重で垂れ下がるものであるから，ロータリ作業機本体の振動に伴って，各土除け材がその固定位置を固定端部として作業ロータの半径方向に自由に振動し，その振動時の振幅が最大限発揮されるため，付着した土砂の落下を誘発する効果が高まり，土除け材自身の振動によって付着した土砂を落下させ，固定位置を除く土除け材の全周にわたって土砂の付着を防止する効果を発揮する（【請求項１】，【００１７】，【００１８】，【００２２】，【００２８】，【００２９】，【００４２】，【００５１】）。
また，本件発明のシールドカバーは，シールドカバー本体に固定された土除け材の固定位置全てが隣接する他の土除け材と互いに重なっているものであるから，土除け材の固定位置は土除け材自身の振動によっても振動を生じないため付着した土砂が落下しにくく堆積しやすいにもかかわらず，土除け材の固定位置への土砂の付着自体を防止又は抑制して，振動による落下を期待するまでもなく，土砂を落下させる必要がない状態を実現する効果を発揮する（【００１６】，【００２１】，【００２３】，【００２９】）。
２引用発明１について
(1)引用例１（甲１）には，おおむね，以下の記載がある（下記記載中に引用する第１図ないし第３図は，別紙２を参照。）。
ア実用新案登録請求の範囲
横軸回りに回転駆動される耕耘爪１０を有するロータリ耕耘部６と，このロータリ耕耘部６の上方を覆うロータリカバー１１とが備えられたロータリ耕耘機において，／前記ロータリカバー１１の下面に，このカバー１１に土が付着するのを防止する土付着防止部材２０が設けられ，この土付着防止部材２０は，付着した土の重量によりその土が耕耘爪１０よってかき落される位置まで下降可能，且つ，土がかき落されると上方に復元可能にロ―タリカバー１１に取付けられていることを特徴とするロータリ耕耘機。
イ産業上の利用分野
本考案は，ロータリ耕耘機に関する。
ウ従来の技術
ロータリ耕耘機は，横軸回りに回転駆動される耕耘爪を有するロータリ耕耘部と，このロ―タリ耕耘部の上方を覆うロータリカバーとが備えられている。
エ考案が解決しようとする課題
ところが上記のものは，耕耘作業中に，土がロータリカバーの下面に付着し易く，カバーに土が付着すると耕耘効率が低下するという問題が生じたり耕耘後付着した土を落とすのが面倒であった。
本考案は，上記課題に鑑み，ロータリカバー側に土が付着するのを防止することを目的とする。
オ課題を解決するための手段
本考案が上記目的を達成するために講じた技術的手段は次の通りである。横軸回りに回転駆動される耕耘爪１０を有するロータリ耕耘部６と，このロ―タリ耕耘部６の上方を覆うロータリカバ－１１とが備えられたロ―タリ耕耘機において，前記ロータリカバー１１の下面に，このカバー１１に土が付着するのを防止する土付着防止部材２０が設けられ，この土付着防止部材２０は，付着した土の重量によりその土が耕耘爪１０によってかき落される位置まで下降可能，且つ，土がかき落されると上方に復元可能にロータリカバー１１に取付けられている点にある。
カ作用
耕耘作業時に，土がロータリカバー１１に設けられた土付着防止部材２０に付着すると，土付着防止部材２０は付着した土の重量で下降し回転している耕耘爪１０に土がかき落される。
土がかき落された後に，土付着防止部材２０は上昇し耕耘爪１０の回転軌跡よりも上方のもとの位置に復元する。
キ実施例
本考案の実施例を図面を参照して詳述する。
第１図～第３図は本考案の実施例を示し，同図において１はロータリ耕耘機を示し，２はロータリ機枠で，このロ一タリ機枠２はトップリンク３及び左右一対のロアリンク４を介して図外のトラクタに装着されている。ロータリ機枠２はギヤケース２３と，このケース２３両側から左右に突設された一対のサポートアーム２４と，各アーム２４外側端から下設されたチェンケース５，及びサイドプレート７等から成る。
６はロータリ耕耘部で，チェーンケース５とサイドフレーム７とに回転自在に支持された爪軸８に，多数の耕耘爪１０を設けて構成され，耕耘爪１０は矢印Ａ方向に回転駆動される。


１１はロータリカバーで，耕耘部６が上方を覆う主カバー１２と，この主カバー１２の前方に位置する前補助カバー１２ａと，主カバー１２の後部に枢支連結された後部カバー１３と，側部カバー１４とを有しいる。１５は後部カバー１３に連結された均平圧調整機構，１６はゲージ支持枠，１７はゲージ輪である。２０は主カバー１２に土が付着するのを防止する土付着防止部材で，帯板状のゴム材料から成り，主カバー１２の下面に設けられている。この土付着防止部材２０はその長手方向が主カバー１２の略全幅に亘って配設され，且つ，耕耘爪１０の回転方向Ａの後方側の一方が複数のボルト２１で主カバー１２の下面に当て板２２を介して取付けられている。また，この部材２０の他方は自由端とされ，全体として上下方向に弾性変形自在に円弧状に保持されている。そして，この土付着防止部材２０は主カバー１２の前後方向に多数設けられ且つこれらは互いに平行に配置されている。また，これら土付着防止部材２０は主カバー１２の下面全域とボルト２１を覆うように，前記各ボルト２１の前後方向の間隔は，土付着防止部材２０の前後方向の長さよりも小さくされている。
以上において，耕耘作業時に耕耘爪１０の矢印Ａ方向への回転耕耘により土が土付着防止部材２０に付着した場合，その重量により土付着防止部材２０の自由端側が弾性力に抗して下降し，付着した土は耕耘爪１０にかき落される。なお，上記実施例では，土付着防止部材２０は耕耘爪１０の回転方向Ａの後方側のー方が取付けられ，他方が自由端とされているので，耕耘爪１０と主カバー１２との間を主カバー１２前方から後方に流れる土の流れが悪くなったり，主カバー１２と土付着防止部材２０との間に土が溜ったりしない。土がかき落された後に，土付着防止部材２０は弾性力でもとの位置に復元する。尚，本考案は上記の実施例に限定されるものではなく，上記と反対方向に耕耘爪１０の回転するロータリ耕耘機にも前記土付着防止部材２０を設けることができ，この場合も，土付着防止部材２０の取付側と自由端側との耕耘爪回転方向に対する関係は上記実施例と同様とするのが好ましい。
(2)前記(1)の記載によれば，引用例１には，引用発明１に関し，以下の点が開示されていることが認められる。
ア引用発明１は，ロータリ耕耘機に関するものである（前記(1)イ）。従来のロータリ耕耘機は，ロータリ耕耘部と，ロ―タリ耕耘部の上方を覆うロータリカバーとが備えられていたが，耕耘作業中に，土がロータリカバーの下面に付着しやすく，カバーに土が付着すると耕耘効率が低下したり，耕耘後付着した土を落とすのが面倒であるとの問題があった。引用発明１は，耕耘作業中に，ロ―タリ耕耘機のロータリカバーに土が付着するのを防止することを目的とする（前記(1)ウ，エ）。
引用発明１は，ロータリ耕耘部６と，このロ―タリ耕耘部６の上方を覆うロータリカバ－１１とが備えられたロ―タリ耕耘機において，ロータリカバー１１の下面に，このカバー１１に土が付着するのを防止する土付着防止部材２０を設け，土付着防止部材２０に土が付着すると，その土の重量により土付着防止部材２０は耕耘爪１０の回転軌跡まで下降し，その土が回転している耕耘爪１０によってかき落された後，土付着防止部材２０は上昇して耕耘爪１０の回転軌跡より上方の元の位置に戻る構成を採用することにより，上記の課題を解決するものである（前記(1)オ，カ）。
イ実施例（前記(1)キ）において，ロータリ耕耘機１のロータリ機枠２は，トップリンク３及び左右一対のロアリンク４を介してトラクタに装着されるから，トラクタの後部に装着され，トラクタと共に走行する。
ロータリ機枠２は，チェンケース５及びサイドプレート７を有している。そして，ロータリ耕耘部６は，チェンケース５とサイドプレート７とに回転自在に支持された爪軸８に，多数の耕耘爪を設けて構成され（別紙２の第２図，第３図），ロータリ機枠２に支持されている。
ロータリ耕耘機１は，ロータリ耕耘部６の上方を覆うロータリカバー１１を有し（前記(1)ア），ロータリカバー１１は，ロータリ耕耘部６の上方を覆う主カバー１２と，主カバー１２の後部に枢支連結され，ロータリ耕耘部６の後方を覆う後部カバー１３とを有する（別紙２の第２図）。
主カバー１２の下面（ロータリ耕耘部６側の面）には，帯板状のゴム材料からなる土付着防止部材２０が設けられている。この土付着防止部材２０は，耕耘爪１０の回転方向Ａの後方側の一方がボルト２１によって主カバー１２に取り付けられ，他方は自由端とされ，全体として上下方向に弾性変形自在に円弧状に保持されている（別紙２の第１図，第２図）。そのため，土付着防止部材２０は，耕耘爪１０の回転方向Ａの前方側の端部から後方側のボルト２１による固定位置までの区間が自由な状態であり，前方側の端部が自重で垂れ下がっている。土付着防止部材２０は，主カバー１２の前後方向（すなわち，周方向）に複数枚設けられ，これら複数の土付着防止部材２０は，主カバー１２の下面全域とボルト２１を覆うように，各ボルト２１同士の前後方向の間隔は，土付着部材２０の前後方向の長さよりも小さくされている（別紙２の第１図，第２図）。そのため，耕耘爪１０の回転方向Ａの最も後方側にある土付着防止部材２０を除けば，土付着防止部材２０のボルト２１は，隣接する（耕耘爪１０の回転方向Ａの後方側にある）土付着防止部材２０と重なっている。


以上において，耕耘作業時に耕耘爪１０の矢印Ａ方向への回転耕耘により土が土付着防止部材２０に付着した場合，その重量により土付着防止部材２０の自由端側が弾性力に抗して下降し，付着した土は耕耘爪１０にかき落される。土がかき落された後に，土付着防止部材２０は弾性力で元の位置に復元する。ここで，耕耘爪１０の回転方向Ａは，別紙２の第１図及び第２図に矢印Ａで示されたものと反対でもよく，この場合も，土付着防止部材２０の取付側及び自由端側の耕耘爪回転方向に対する関係は，上記と同様にすることが好ましいとされている。したがって，引用例１には，耕耘爪１０の回転方向Ａが別紙２の第１図及び第２図に矢印Ａで示されたものと反対であるロータリ耕耘機１も記載されているということができる。その場合，上記で検討した耕耘爪１０の回転方向Ａの前方及び後方は，ロータリ耕耘機１の進行方向の前方及び後方と言い換えることができる。(3)そして，引用例１には前記第２の３(2)のとおりの引用発明１が記載されていること及び本件発明１と引用発明１との一致点，相違点が前記第２の３(3)のとおりであることについては，当事者間に争いがない。
３本件発明１の容易想到性について
(1)引用発明２について
ア引用例２の記載事項
引用例２（甲２）には，おおむね，以下の記載がある（下記記載中に引用する図１ないし３及び図６は，別紙３を参照。）。
(ア)産業上の利用分野
【０００１】本発明は，耕耘作業時に飛散した土が，ロータリのカバーに付着しないようにするための土付着防止装置に関するものである。
(イ)従来の技術
【０００２】図６は従来の土付着防止装置を示し，ロータリのメインカバー１の裏面及びリヤカバー２の裏面に座３，３…を固設し，カバーから一定の間隔を有して，土付着防止部材４及び５をボルト６，６…により固着してある。土付着防止部材４及び５の材質は一般にゴム等の弾性部材が使用され，この弾性を利用して土の付着を防止している。
(ウ)発明が解決しようとする課題
【０００３】従来は，メインカバー１及びリヤカバー２の裏面に夫々座３，３…を設けていたので，部品点数が多く構造が複雑となっていた。そして，ボルト６，６…の頭部が突出しているため，そこから土の付着が始まり易く，而も突出したボルト６，６…が邪魔になって清掃がやりにくいという問題があった。【０００４】また，メインカバー１に固着した土付着防止部材４は自重で垂れ下がり易く，然るときは飛散した土の流れが悪くなり，メインカバー１とロータリ（図示せず）との間に土が詰り易くなる。更に，リヤカバー２の枢着部分では，双方の土付着防止部材４と５との接合部に間隙が生じ，ここに土が溜り易くなっている。そこで，耕耘作業時に飛散した土がロータリのカバーに付着しないようにするとともに，土付着防止装置の構成を簡素化するために解決すべき技術的課題が生じてくるのであり，本発明はこの課題を解決することを目的とする。
(エ)課題を解決するための手段
【０００５】本発明は，上記目的を達成するために提案されたものであり，ロータリのメインカバーの裏面に低摩擦係数の部材を密接して取り付けるとともに，ロータリのリヤカバーの裏面に一定の間隔を有して弾性部材を取り付け，前記低摩擦係数の部材と弾性部材の接合部を重ね合わせた土付着防止装置を提供するものである。
(オ)作用
【０００６】ロータリのメインカバーに取り付けた部材は低摩擦係数であるため，弾性を利用しないで土の付着を防止できる。また，メインカバーに密接しているので，メインカバーとロータリとの間隙部に余裕が生じ，ロータリの伝動系の構成部品を小型化できる。更に，メインカバーに取り付けた低摩擦係数の部材と，リヤカバーに取り付けた弾性部材との接合部を重ね合わせてあるため，飛散した土が接合部に溜ることがなくなる。
(カ)実施例
【０００７】以下，本発明の一実施例を図１乃至図５に従って詳述する。図１はロータリカバーを示したものであり，ロータリ１１の上方にメインカバー１２が設けられ，その後端部にリヤカバー１３の上端を枢着する。前記メインカバー１２の裏面（ロータリ１１がある側）には，低摩擦係数の部材１４を密接して取り付ける。上記部材１４は表面摩擦抵抗の少ない樹脂，例えば超高分子量ポリエチレン等の平板を使用する。
【０００８】図２はメインカバー１２の前端部を示し，メインカバー１２の左右幅と略同寸法のステー１５を固設し，該ステー１５に段付きのプレート１６をボルト１７，１７…により着脱自在に設ける。図３はメインカバー１２の後端部を示し，補強板１８を介してブラケット１９が固設され，このブラケット１９に設けた軸２０にリヤカバー１３の上端を枢着してある。更に，補強板１８とブラケット１９の接合部近傍に，メインカバー１２の幅と略同寸法の段付きのプレート２１を固着する。
【０００９】而して，前記低摩擦係数の部材１４を取り付けるに当っては，先ず上記部材１４の後端部１４ａを，図３に示した後部のプレート２１の間隙部へ挿入する。次に，上記部材１４をメインカバー１２の形状に沿って湾曲させ，メインカバー１２の裏面に密接する。そして，上記部材１４の前端部１４ｂを図２に示した前部のプレート１６で挟持し，ボルト１７，１７…を緊締してプレート１６をステー１５へ固着する。


【００１０】従って，前記低摩擦係数の部材１４はその後端部１４ａと前端部１４ｂを，夫々プレート２１及び１６により挟持され，メインカバー１２の裏面にすきまなく密接して取り付けられる。また，ゴム等の弾性部材のように自重での垂れ下がりがなく，メインカバー１２への固定個所が少なくなる。而も，上記部材１４を取り付けた状態であっても，メインカバー１２の下部には何ら突起部が存在しない。之等のことから，メインカバー１２と前記ロータリ１１との間隙部に余裕が生じ，ロータリ１１の伝動系の構成部品を簡素化且つ小型化することができる。【００１２】一方，図１及び図３に示すように，リヤカバー１３の裏面（ロータリ１１がある側）に一定の間隔を有して弾性部材２３を取り付ける。上記弾性部材２３は，ゴム等の弾力に富んだ材質を使用し，前記低摩擦係数の部材１４より厚い平板を使用する。リヤカバー１３の裏面の所々には中空円筒状の座２４，２４…を固設してあり，夫々の座２４，２４…の中心位置に螺子部２５，２５…を設ける。【００１３】而して，前記弾性部材２３を座２４，２４…へ当接すれば，リヤカバー１３と弾性部材２３との間に一定の間隔Ｄが生じる。そして，弾性部材２３が座２４，２４…へ当接する部位に，予め取付孔２６，２６…を開穿しておき，夫々の取付孔２６，２６…へ鍔部２７ａを備えた固定具２７，２７…を嵌入し，該固定具２７，２７…へボルト２８，２８…を挿入して螺子部２５，２５…へ締結する。【００１４】従って，上記弾性部材２３は，取付孔２６の周囲を座２４と固定具の鍔部２７ａとで挟持され，リヤカバー１３に対して一定の間隔を有して取り付けられる。そして，飛散した土が上記弾性部材２３へ衝突したときは，上記弾性部材２３がリヤカバー１３との間隙を利用して反撥する作用により，飛散した土が弾性部材へ付着することを防止する。そして，ボルト２８の頭部が固定具２７の凹部内に収納されているため，上記弾性部材２３を取り付けた状態であっても，リヤカバー１３には何ら突起部が存在せず，極めて土が付着しにくい。更に，前記固定具２７の底部２７ｂがリヤカバー１３の裏面に直接締着されるため，座２４のつぶれ防止用芯金等が不要である。
【００１５】また，メインカバー１２へ取り付けた低摩擦係数の部材１４の後端部１４ａと，リヤカバー１３に取り付けた弾性部材２３の前端部２３ａは夫々メインカバー１２の補強板１８及びブラケット１９に密着しており，リヤカバー１３が上方へ回動したときであっても飛散した土が入り込むことがない。尚，図３に示した弾性部材の前端部２３ａを更に前方へ延設し，前記低摩擦係数の部材１４と重ね合わせた状態にしてもよい。然るときは，図１に於いてロータリ１１は反時計方向へ回転するため，飛散した土の侵入がより一層防止できる。
イ引用発明２の内容
前記アの記載によれば，引用例２には，引用発明２に関し，以下の点が開示されていることが認められる。
(ア)引用発明２は，耕耘作業時に飛散した土が，ロータリのカバーに付着しないようにするための土付着防止装置に関するものである（【０００１】）。従来のロータリカバーは，メインカバー１及びリヤカバー２の裏面に座３を固設し，メインカバー１及びリヤカバー２から一定の間隔を空けてゴム等の弾性部材からなる土付着防止部材４及び土付着防止部材５をボルト６で固着していたことから，①部品点数が多く構造が複雑になる，②ボルト６の頭部が突出しているため，そこから土の付着が始まりやすく，清掃がやりにくい，③メインカバー１に固着した土付着防止部材４が自重で垂れ下がりやすく，メインカバー１とロータリとの間に土が詰まりやすくなる，④リヤカバー２の枢着部分では土付着防止部材４と土付着防止部材５との接合部に間隙が生じ，ここに土がたまりやすくなっているという問題があった（【０００２】～【０００４】）。
引用発明２は，耕耘作業時に飛散した土がロータリカバーに付着しないようにするとともに，土付着防止装置の構成を簡素化することを目的として（【０００４】），ロータリのメインカバー１２の裏面に低摩擦係数の部材１４を密接して取り付けるとともに，ロータリのリヤカバー１３の裏面に一定の間隔を有して弾性部材２３を取り付け，低摩擦係数の部材１４と弾性部材２３の接合部を重ね合わせた土付着防止装置を提供することにより（【０００５】），メインカバー１２に取り付けた低摩擦係数の部材１４がメインカバー１２への土の付着を防止し（【０００６】），リヤカバー１３に取り付けられた弾性部材２３がリヤカバー１３への土の付着を防止するとともに（【００１４】），低摩擦係数の部材１４と弾性部材２３との接合部が互いに重ね合わせてあるため，飛散した土が接合部に溜まらないという作用効果を奏する（【０００６】）。
(イ)実施例において，ロータリカバーは，メインカバー１２とリヤカバー１３とからなり，メインカバー１２は，ロータリ１１の上方に設けられ，リヤカバー１３は，その上端が，メインカバー１２の後端部に補強板１８を介して固設されたブラケット１９に設けた軸２０に枢着され，メインカバー１２の裏面（ロータリ１１がある側）には，低摩擦係数の部材１４が密接して取り付けられ，リヤカバー１３の裏面（ロータリ１１がある側）には，リヤカバー１３から一定の間隔を有して弾性部材２３が取り付けられる（【０００７】，【０００８】，【００１２】，【図１】，【図３】）。


低摩擦係数の部材１４の後端部１４ａは，メインカバー１２の後端部に設けられた補強板１８に固着された段付きのプレート２１の間隙部へ挿入され，低摩擦係数の部材１４の前端部１４ｂは，メインカバー１２の前端部に固設されたステー１５と，ボルト１７によってステー１５に着脱自在に設けられた段付きプレート１６とで挟持され，その結果，低摩擦係数の部材１４は，その後端部１４ａ及び前端部１４ｂをそれぞれプレート２１及びプレート１６で挟持されてメインカバー１２の裏面にすきまなく密接して取り付けられる（【０００８】～【００１０】，【図２】，【図３】）。したがって，低摩擦係数の部材１４のメインカバー１２への固定位置は，その前端部１４ａ及び後端部１４ｂであることが理解できる。弾性部材２３は，リヤカバー１３の裏面に設けられた複数の中空円筒状の座２４に，固定具２７及びボルト２８によって取り付けられる（【００１２】～【００１４】，【図３】）。
低摩擦係数の部材１４の後端部１４ａは，メインカバー１２の補強板１８に密着し，弾性部材２３の前端部２３ａは，ブラケット１９に密着するとともに，前方に延設されて低摩擦係数の部材１４と重ね合わされる状態にすることができ，リヤカバー１３が上方へ回動したときも飛散した土が入り込むことがない（【００１５】，【図３】）。
そして，【図３】によれば，弾性部材２３の延設された前端部２３ａは，低摩擦係数の部材１４の後端部１４ａと重ね合わされていること，すなわち，低摩擦係数の部材１４のメインカバー１２への固定位置において低摩擦係数の部材１４と重ね合わされていることを理解することができる。また，弾性部材２３は，それが取り付けられる複数の座２４のうち，最も前方側にあるものよりさらに前方側では自由な状態であることを理解することができる。
ウ引用発明２の認定
(ア)前記イによれば，引用例２には，本件審決が認定したとおり，「リヤカバー１３のロータリー１１側の面に，弾性を有する弾性部材２３が，その進行方向後方側の位置で固定されるとともに，固定部を除いて前方側が自由な状態であり，その弾性部材２３が，メインカバー１２の補強板１８に対する低摩擦係数の部材１４の固定位置において，その低摩擦係数の部材１４と互いに重なっているロータリカバー。」との引用発明２が記載されているということができる。(イ)原告は，引用発明２では，低摩擦係数の部材１４のうち，「プレート２１による固定部」のみならず，メインカバー１２の裏面に隙間なく密着して取り付けられている前端部１４ｂから後端部１４ａまでの全体が，本件発明１の「シールドカバー本体に固定された各土除け材の固定位置」に相当するものであるから，低摩擦係数の部材１４のうち「低摩擦係数の部材１４の後端部１４ａのプレート２１による固定部」以外の部分は，弾性部材２３と互いに重なっておらず，そのため，引用例２には，「前記シールドカバー本体に固定された各土除け材の固定位置すべてが，隣接する他の土除け材と互いに重なっている」という本件発明１の構成は開示されていないなどと主張する。
しかし，引用例２に記載されたロータリカバーの低摩擦係数の部材１４は，後端部１４ａを段付きのプレート２１の間隙部へ挿入した後，メインカバー１２の形状に沿って湾曲させてメインカバー１２の裏面に密接し，前端部１４ｂをプレート１６で挟持することによって（【０００９】），「後端部１４ａと前端部１４ｂを，夫々プレート２１及び１６により挟持され，メインカバー１２の裏面にすきまなく密接して取り付けられ」（【００１０】），その結果，「メインカバー１２への固定個所が少なくなる」（【００１０】）ものであるから，低摩擦係数の部材１４のメインカバー１２への固定位置は，後端部１４ａ及び前端部１４ｂであることが明らかである。また，低摩擦係数の部材１４の後端部１４ａ及び前端部１４ｂ以外の部分は，メインカバー１２の裏面に密接して自由に振動できない状態にあるが，それは，低摩擦係数の部材１４がその固定部分である後端部１４ａ及び前端部１４ｂにおいて固定されることによるものであるから，低摩擦係数の部材１４の後端部１４ａ及び前端部１４ｂ以外の部分が固定部分であるということはできない。したがって，低摩擦係数の部材１４の固定位置が前端部１４ｂから後端部１４ａまでの全体であるということはできない。
そして，前記イ(イ)のとおり，引用例２の【図３】によれば，弾性部材２３の延設された前端部２３ａが，低摩擦係数の部材１４の後端部１４ａと重ね合わされていること，すなわち，弾性部材２３の延設された前端部２３ａが，低摩擦係数の部材１４のメインカバー１２への固定位置において，低摩擦係数の部材１４と重ね合わされていることを理解することができる。本件審決は，この点に着目して「弾性部材２３が，…低摩擦係数の部材１４の固定位置において，その低摩擦係数の部材１４と互いに重なっている」と認定したものにすぎず，弾性部材２３が，低摩擦係数の部材１４の固定位置の全てにおいて，低摩擦係数の部材１４と互いに重なっていると認定したものではない。したがって，たとえ，弾性部材２３が，低摩擦係数の部材１４の固定位置である前端部１４ｂにおいて，低摩擦係数の部材１４と互いに重なっていないとしても，本件審決が引用発明２の「弾性部材２３が，…低摩擦係数の部材１４の固定位置において，その低摩擦係数の部材１４と互いに重なっている」と認定したことに誤りはない。


したがって，原告の上記主張は，採用することができない。エ本件審決は，引用発明２の弾性部材２３はゴム等であることから，弾性部材２３の前端部２３ａが前方に延設されたものにおいては，その延設された（前方）端部寄りの部分は，自重で垂れ下がるものと解されると判断した。(ア)しかし，引用例２には，弾性部材２３の前端部２３ａを前方に延設して低摩擦係数の部材１４と重ね合わせた状態にしてもよい旨の記載はあるが（【００１５】），そのようにした場合に弾性部材２３の前方側の端部寄りの部分が自重で垂れ下がる旨の記載はない。そして，弾性部材２３の材質がゴム等の弾力に富んだものであるとしても（【００１２】），その前方側の端部寄りの部分が自重で垂れ下がるか否かは，少なくとも弾性部材２３の固定部（座２４）から自由端（前端部２３ａ）までの長さ並びにその部分の厚さ，質量（密度）及び弾性係数に依存することが明らかである。引用例２にはこれらについて何の記載もないから，弾性部材２３の材質がゴム等の弾力に富んだものであるからといって，前方に延設した前端部２３ａが自重で垂れ下がるものと断定することはできない。(イ)被告は，引用例２の【００１２】には，弾性部材２３はゴム等の弾力に富んだ材質のものであることが明記されていることから，弾性部材２３の弾性係数や延設長さ等によってその垂れ下がる量は異なるものの，弾性部材２３のうち，前方へ延設された端部寄りの部分が自重で垂れ下がることは，当然に生じる事象にすぎない旨主張する。
確かに，引用発明２の弾性部材２３は，その進行方向後方側の位置で固定されるとともに，固定部を除いて前方側が自由な状態とされた，いわゆる片持ち梁であり，しかも，現実に存在する物体である以上，剛体（力が加わっても変形しない理想物体）ではないから，自らに作用する重力（自重）で全く変形しないなどということは，物理的にはあり得ない。したがって，現実に存在する片持ち梁としての弾性部材２３に生じる変形という意味での自重による垂れ下がりは，被告が主張するとおり，当然に生じる事象ではある。
ところで，本件発明１の「土除け材」も，「その進行方向後方側の位置で固定され，その進行方向前方側の端部から前記後方側の位置までの区間が自由な状態であり」，現実に存在する片持ち梁であるから，単なる物理現象としては，必ず自重で垂れ下がることになる。しかし，本件発明１は，前記１(2)のとおり，「土除け材」が「その進行方向後方側の位置で固定され，その進行方向前方側の端部から前記後方側の位置までの区間が自由な状態であり，前記端部寄りの部分が自重で垂れ下がる，弾性を有する」ことによって，ロータリ作業機本体の振動に伴って，各土除け材がその固定位置を固定端部として作業ロータの半径方向に自由に振動し，その振動時の振幅が最大限発揮されるため，付着した土砂の落下を誘発する効果が高まり，土除け材自身の振動によって付着した土砂を落下させ，固定位置を除く土除け材の全周にわたって土砂の付着を防止する効果を発揮するものである。そうすると，本件発明１の「その進行方向後方側の位置で固定され，その進行方向前方側の端部から前記後方側の位置までの区間が自由な状態であり，前記端部寄りの部分が自重で垂れ下がる，弾性を有する土除け部材」における「自重で垂れ下がる」とは，片持ち梁である「土除け部材」の進行方向前方側の端部寄りの部分が単なる物理現象として「自重で垂れ下がる」こと（すなわち，「土除け部材」が剛体ではないという当然のこと）を意味するのではなく，「土除け部材」が，ロータリ作業機本体の振動に伴って，その振動時の振幅が最大限発揮する程度の弾性を有することによる，技術的意義のある現象としての「自重で垂れ下がる」ことを意味すると解すべきである。
そして，被告も自認するとおり，弾性部材２３の前方側の端部寄りの部分の自重による垂れ下がり量は，弾性部材２３の弾性係数，長さ等に依存するから，弾性部材２３の材質がゴム等の弾力に富んだものであるとしても，その前方側の端部寄りの部分が上記の技術的意義のある現象として「自重で垂れ下がる」とは限らない。このことは，引用例２の【００１５】に，弾性部材２３の前端部２３ａがブラケット１９に密着している旨の記載があることから明らかである。引用発明２においては，弾性部材２３の前端部２３ａは，ブラケット１９に密着しているのであるから，その前方側の端部寄りの部分がブラケット１９の表面から離れるほど振動することは想定されていない。そうすると，弾性部材２３の弾性係数，長さ等は，その前方側の端部寄りの部分が上記の技術的意義のある現象として「自重で垂れ下がる」ことを可能とするような値に設定されていると認めることはできない。前端部２３ａを更に前方に延設し，低摩擦係数の部材１４と重ね合わせた状態にした場合であっても，同様の理が妥当するのであって，前端部２３ａを前方に延設した弾性部材２３の前方側の端部寄りの部分が上記の技術的意義のある現象として「自重で垂れ下がる」ことが当然に生じる事象であるということはできない。(ウ)以上のとおり，本件審決が，引用発明２について，弾性部材２３の前端部２３ａが前方に延設されたものにおいては，その延設された（前方）端部寄りの部分は，自重で垂れ下がると判断したことは，誤りである。
(2)相違点の容易想到性について
アしたがって，仮に，引用発明１に引用発明２を適用したとしても，後部カバー１３に弾性部材を設け，その弾性部材をその進行方向後方側の位置で固定するとともに，固定部を除いて前方側を自由な状態とし，主カバー１２に対する土付着防止部材２０の固定位置において，その土付着防止部材２０と互いに重なるようにする結果，引用発明１の主カバー１２に固定された各土付着防止部材２０は，その固定位置全てが隣接する他の土付着防止部材２０と互いに重なるようにはなるものの，引用発明１の後部カバー１３に引用発明２の弾性部材２３として設けられた土付着防止部材２０は，その進行方向前方側の端部寄りの部分が自重で垂れ下がるものではないから，本件発明１には至らない。


イ本件審決は，仮に引用発明２の弾性部材２３の前端部２３ａが前方に延設された（前方）端部寄りの部分が自重で垂れ下がるものでないとしても，エプロンに固定された土除け材を，その端部寄りの部分が自重で垂れ下がるような材質のものとすることは，当業者が適宜になし得る程度のことにすぎないと判断した。(ア)しかし，引用発明２の弾性部材２３の前端部２３ａが前方に延設された（前方）端部寄りの部分を自重で垂れ下がるものとすることを想到した上で，これを引用発明１に適用することによって，引用発明１の後部カバー１３に引用発明２の弾性部材２３として設けられた土付着防止部材２０の進行方向前方側の端部寄りの部分を自重で垂れ下がるものとするというのは，引用発明１を基準にして，更に引用発明２から容易に想到し得た技術を適用することが容易か否かを問題にすることになる。このように，引用発明１に基づいて，２つの段階を経て相違点に係る本件発明１の構成に想到することは，格別な努力が必要であり，当業者にとって容易であるということはできない。
(イ)また，引用例２には，弾性部材２３の前端部２３ａはブラケット１９に密着しており，リヤカバー１３が上方へ回動したときであっても飛散した土が入り込むことがなく，前端部２３ａを更に前方へ延設して低摩擦係数の部材１４と重ね合わせた状態にしたときは，飛散した土の侵入がより一層防止できる旨の記載がある（【００１５】）。このように，前端部２３ａが飛散した土の侵入を防止するという作用効果を奏するのは，前端部２３ａがブラケット１９に密着しているからであり，前端部２３ａを更に前方に延設して低摩擦係数の部材１４と重ね合わせた状態にするのは，その作用効果を強めるためである。
ここで，仮に，弾性部材２３の前方側の端部寄りの部分が自重で垂れ下がったとすると，弾性部材２３の固定部（座２４）から自由端（前端部２３ａ）までのどの部分がどの程度垂れ下がるにしても，前端部２３ａは，下方，すなわち，ブラケット１９との密着を保つことが困難になる方向に移動することになる。さらに，リヤカバー１３が上方へ回動すると，前端部２３ａとブラケット１９との密着はさらに困難になる。その結果，前端部２３ａがブラケット１９と密着することによって奏する飛散した土の侵入防止という上記の作用効果が減殺されることは，明らかである。
すなわち，引用例２の【０００４】，【０００６】の記載に照らすと，リヤカバーに固着された土付着防止部材（弾性部材）を自重で垂れ下がるように構成すると，リヤカバーの枢着部分では，メインカバーに取り付けた低摩擦係数の部材と，リヤカバーに取り付けた弾性部材との接合部に間隙が生じるため，ここに土がたまりやすくなるという引用発明２の課題を解決できない。したがって，引用発明２の弾性部材２３について端部寄りの部分が自重で垂れ下がるような材質のものに変更することは，引用発明２の目的に反する。特に，引用発明２で，リヤカバー１３を下降させた状態において，既に前方側の端部寄りの部分が自重で垂れ下がるような弾性部材２３を用いた場合，リヤカバー１３を上方へ回動させると，弾性部材２３の垂れ下がり位置はリヤカバー下降時よりさらに下方になるため，リヤカバーの枢着部分では，メインカバーに取り付けた低摩擦係数の部材と，リヤカバーに取り付けた弾性部材との接合部にさらに間隙が生じ，ここに土がたまりやすくなってしまい，飛散した土の侵入防止という引用発明２の上記作用効果を奏することができない。そのため，上記作用効果を奏するためには，リヤカバー１３を下降させた状態において，既に前方側の端部寄りの部分が自重で垂れ下がるような弾性部材２３を用いることはできない。
そうすると，引用発明２において，弾性部材２３の前方側の端部寄りの部分を自重で垂れ下がるようにすることには，そもそも阻害要因があると認められる。弾性部材２３の前端部２３ａを更に前方に延設して低摩擦係数の部材１４と重ね合わせた状態にした場合も，同様の理が妥当することから，前端部２３ａを前方に延設した弾性部材２３の前方側の端部寄りの部分が自重で垂れ下がるようにすることは，当業者が適宜になし得る程度のものということはできない。したがって，本件審決の上記判断は，誤りというべきである。(ウ)被告は，引用発明２のリヤカバー側の弾性部材２３について前方側の端部寄りの部分が自重で垂れ下がるような材質のものに変更することは，メインカバーに固着された土付着防止部材が自重で垂れ下がることによる不都合を課題とする引用発明２の目的に反するものではないから，弾性部材２３を，進行方向前方側の端部寄りの部分が自重で垂れ下がるような材質のものとすることは，当業者が適宜になし得る程度のことにすぎない旨主張するが，同主張に理由がないことは，前記(イ)において説示したとおりである。
(エ)被告は，①原告は，リヤカバー側の弾性部材を自重で垂れ下がるように構成すると，メインカバーに取り付けられた低摩擦係数の部材と，リヤカバーに取り付けられた弾性部材との接合部に間隙が生じると単に抽象的に主張するのみで，接合部に間隙が生じる具体的な理由の説明がない，②仮に弾性部材を自重で垂れ下がるように構成する際に低摩擦係数の部材と弾性部材との接合部に間隙が生じるおそれがあれば，接合部に間隙が生じないように弾性部材の弾性係数や延設長さ等を決定することは，当業者が適宜なし得ることにすぎない旨主張する。しかし，前記(イ)のとおり，弾性部材２３の前端部２３ａは，ブラケット１９に密着することによって，リヤカバー１３が上方へ回動したときでも飛散した土が入り込むことがないという作用効果を奏するものであるから，前端部２３ａがブラケット１９に密着するのを妨げるような変更を加えることには阻害要因がある。そして，弾性部材２３の前方側の端部寄りの部分が自重で垂れ下がるようにすることは，前端部２３ａをブラケット１９との密着を困難にする方向に移動させることを意味するから，当業者が適宜になし得るものということはできない。(3)以上によれば，本件発明１は，引用発明１及び引用発明２に基づいて，当業者が容易に発明することができたものということはできない。
４本件発明２の容易想到性について


平成２８年１０月１２日判決言渡同日原本領収    裁判所書記官平成２７年（行ケ）第１０１７７号審決取消請求事件
口頭弁論終結日平成２８年９月１４日
判     決
原        告     株式会社半導体エネルギー研究所同訴訟代理人弁護士    古    城    春    実
牧    野    知    彦
堀    籠    佳    則
加    治    梓    子
伊    藤        真
平    井    佑    希
丸    田    憲    和
同訴訟代理人弁理士    加    茂    裕    邦被        告    国立研究開発法人科学技術振興機構同訴訟代理人弁護士    高    橋    雄一    郎同訴訟復代理人弁護士    鈴    木    佑一    郎同訴訟代理人弁理士    望    月    尚    子同訴訟復代理人弁理士    西        義    之
主     文
１原告の請求を棄却する。
２訴訟費用は原告の負担とする。
事実及び理由
第１請求
特許庁が無効２０１４－８００１３８号事件について平成２７年７月２８日にした審決を取り消す。
第２事案の概要
１特許庁における手続の経緯等
(1)被告は，平成２２年３月２４日，発明の名称を「アモルファス酸化物薄膜の気相成膜方法」とする特許出願（特願２０１０－６８７０７号。優先権主張：平成１６年３月１２日，同年１１月１０日。日本国。）をし，平成２２年８月２０日，設定の登録（特許第４５６８８２７号）を受けた（請求項の数５。以下，この特許を「本件特許」という。）。本件出願は，平成１７年２月２８日に出願した特願２００６－５１０９０７号の分割出願である（甲２３）。(2)原告は，平成２６年８月２８日，本件特許の請求項１ないし５に係る発明について特許無効審判を請求し，無効２０１４－８００１３８号事件として係属した。(3)特許庁は，平成２７年７月２８日，「本件審判の請求は，成り立たない。」との別紙審決書（写し）記載の審決（以下「本件審決」という。）をし，その謄本は，同年８月６日，原告に送達された。
(4)原告は，平成２７年９月７日，本件審決の取消しを求める本件訴訟を提起した。
２特許請求の範囲の記載
特許請求の範囲の請求項１ないし５の記載は，次のとおりである（甲２３）。以下，本件特許に係る発明を，請求項の番号に従って「本件発明１」などといい，本件発明１ないし５を併せて，「本件各発明」という。また，その明細書（甲２３）を，図面を含めて「本件明細書」という。なお，「／」は，原文の改行部分を示す（以下同じ。）。
【請求項１】結晶化したときの組成が，式ＩｎＧａＯ３（ＺｎＯ）ｍ（ｍは６未満の自然数）で示される酸化物薄膜のパルスレーザー堆積法又は高周波スパッタ法を用いる気相成膜方法において，／該酸化物の多結晶をターゲットとして，基板の温度は意図的に加温しない状態で，電気抵抗を高めるための不純物イオンを意図的に薄膜に添加せずに，酸素ガスを含む雰囲気中で基板上に薄膜を堆積させる際に，／成膜した薄膜の室温での電子キャリヤ濃度が１０１６／ｃｍ
３以下となる大きさに酸素
分圧の大きさを制御することによって，室温での電子移動度が０．１ｃｍ２／（Ｖ・秒）以上，かつ電子キャリヤ濃度が１０１６／ｃｍ３以下である半絶縁性である透明Ｉｎ－Ｇａ－Ｚｎ－Ｏ薄膜を成膜することを特徴とするアモルファス酸化物薄膜の気相成膜方法。
【請求項２】結晶化したときの組成が，式ＩｎＧａＯ３（Ｚｎ１－ｘＭｇｘＯ）ｍ（ｍは６未満の自然数，０．８０≦ｘ＜０．８５）で示される酸化物薄膜のパルスレーザー堆積法又は高周波スパッタ法を用いる気相成膜方法において，／該酸化物の多結晶をターゲットとして，基板の温度は意図的に加温しない状態で，電気抵抗を高めるための不純物イオンを意図的に薄膜に添加せずに，酸素ガスを含む雰囲気中で基板上に薄膜を堆積させる際に，／成膜した薄膜の室温での電子キャリヤ濃度が１０１６／ｃｍ３以下となる大きさに酸素分圧の大きさを制御することによって，室温で
の電子移動度が０．１ｃｍ
ママ
２／（Ｖ・秒）以上，かつ電子キャリヤ濃度が１０１６／ｃｍ３以下である半絶縁性である透明Ｉｎ－Ｇａ－Ｚｎ－Ｍｇ－Ｏ薄膜を成膜することを特徴とするアモルファス酸化物薄膜の気相成膜方法。【請求項３】基板として，ガラス基板，プラスチック基板またはプラスチックフィルムを用いることを特徴とする請求項１又は２に記載のアモルファス酸化物薄膜の気相成膜方法。
【請求項４】パルスレーザー堆積法を用いて，酸素分圧が５Ｐａ超の真空雰囲気で成膜することを特徴とする請求項１記載のアモルファス酸化物薄膜の気相成膜方法。
【請求項５】高周波スパッタ法を用いて，酸素分圧が４×１０－２Ｐａ超の酸素ガスとアルゴンガスの混合雰囲気で成膜することを特徴とする請求項１に記載のアモルファス酸化物薄膜の気相成膜方法。
３本件審決の理由の要旨


(1)本件審決の理由は，別紙審決書（写し）記載のとおりである。要するに，①ⅰ）本件発明１は，下記アの引用例１に記載された発明（以下「引用発明１」という。）及び下記エないしサの各引用例に記載された発明に基づいて，当業者が容易に発明をすることができたものではなく，ⅱ）本件発明２は，引用発明１及び下記エないしシの各引用例に記載された発明に基づいて，当業者が容易に発明をすることができたものではなく，ⅲ）本件発明３ないし５は，引用発明１及び下記ウないしシの各引用例に記載された発明に基づいて，当業者が容易に発明をすることができたものではないから，本件各発明は，特許法２９条２項の規定に違反して特許されたものではなく，②ⅰ）本件発明１は，下記イの引用例２に記載された発明（以下「引用発明２」という。）並びに下記ア，エないしサ及びスの各引用例に記載された発明に基づいて，当業者が容易に発明をすることができたものではなく，ⅱ）本件発明２は，引用発明２並びに下記ア及びエないしスの各引用例に記載された発明に基づいて，当業者が容易に発明をすることができたものではなく，ⅲ）本件発明３ないし５は，引用発明２並びに下記ア及びエないしスの各引用例に記載された発明に基づいて，当業者が容易に発明をすることができたものではないから，本件各発明は，特許法２９条２項の規定に違反して特許されたものではなく，③本件発明１及び３ないし５に係る本件明細書の発明の詳細な説明の記載は，特許法３６条４項１号に規定する要件（いわゆる実施可能要件）を満たさないものであるということはできない，などというものである。
ア引用例１：特開平５－２５１７０５号公報（甲１）イ引用例２：国際公開第０３／０９８６９９号（甲２）ウ引用例３：特表平１１－５０５３７７号公報（甲３）エ引用例４：特開２０００－４４２３６号公報（甲４）オ引用例５：特開２００２－２８９８５９号公報（甲５）カ引用例６：日本学術振興会    透明酸化物光・電子材料第１６６委員会「透明導電膜の技術」第１版第２刷（平成１２年４月２５日）７８～８１頁，１４８～１
５５頁（甲６）
キ引用例７：Ｍ．ＯＲＩＴＡ    外「Ａｍｏｒｐｈｏｕｓｔｒａｎｓｐａｒｅｎｔｃｏｎｄｕｃｔｉｖｅ    ｏｘｉｄｅＩｎＧａＯ３（ＺｎＯ）ｍ（ｍ≦４）：ａＺｎ４ｓ    ｃｏｎｄｕｃｔｏｒ」ＰＨＩＬＯＳＯＰＨＩＣＡＬＭＡＧＡＺＩＮＥＢ，ＶＯＬ．８１，   Ｎｏ．５（２００１）５０１～５１５頁（甲７）ク引用例８：「２０００年（平成１２年）春季    第４７回応用物理学関係連合講演会講演予稿集」第２分冊５７７頁「２８ａ－ＺＢ－１」（甲８）ケ引用例９：Ｓａｔｏｒｕ    Ｎａｒｕｓｈｉｍａ外「Ａ    ｐ－ＴｙｐｅＡｍｏｒｐｈｏｕｓＯｘｉｄｅ    Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒａｎｄ    ＲｏｏｍＴｅｍｐｅｒａｔｕｒｅＦａｂｒｉｃａｔｉｏｎ    ｏｆＡｍｏｒｐｈｏｕｓＯｘｉｄｅｐ－ｎ    ＨｅｔｅｒｏｊｕｎｃｔｉｏｎＤｉｏｄｅｓ」Ａｄｖ．Ｍａｔｅｒ．１５，Ｎｏ．１７（２００３Ｓｅｐｔｅｍｂｅｒ    ３）１４０９～１
４１３頁（甲９）
コ引用例１０：Ｋｅｎｊｉ    Ｎｏｍｕｒａ外「Ｔｈｉｎ－Ｆｉｌｍ    ＴｒａｎｓｉｓｔｏｒＦａｂｒｉｃａｔｅｄ    ｉｎＳｉｎｇｌｅ－ＣｒｙｓｔａｌｌｉｎｅＴｒａｎｓｐａｒｅｎｔ    ＯｘｉｄｅＳｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ」Ｓｃｉｅｎｃｅ３００，１２６９（２００３）１２６９～１２７２頁   （甲１０）サ引用例１１：国際公開第０３／０４０４４１号（甲１１）シ引用例１２：特開平８－２４５２２０号公報（甲１２）ス引用例１３：特開昭６３－２３９１１７号公報（甲１３）
(2)本件発明１及び２と引用発明１との対比
本件審決が認定した引用発明１，本件発明１及び本件発明２と引用発明１との一致点及び相違点は，以下のとおりである。
ア引用発明１


ゲ－ト電極とゲート絶縁膜とソ－ス電極とドレイン電極と半導体層とを有する薄膜トランジスタにおいて，前記半導体層のキャリア濃度が１０１８個・ｃｍ－３以下で，かつ前記半導体層を透光性膜としたことを特徴とする薄膜トランジスタの前記半導体層の気相成膜方法において，／Ａｒガスと酸素ガスとを用いた反応性スパッタリングにおいて，着膜時の酸素ガスの割合（Ｏ２／Ａｒ＋Ｏ２）を１％以上として，従来透明電極として用いられていた，酸化物の透明導電膜である，ＩＴＯ（ＩｎｄｉｕｍＴｉｎ    Ｏｘｉｄｅ）膜の膜中の酸素量を増加させることで，着膜した前記ＩＴＯ膜の化学量論的組成からのずれ（酸素欠損）により発生しているキャリアを減らして，前記ＩＴＯ膜のキャリア濃度を１０１８個・ｃｍ－３以下に制御し，縮退を解いて導電性を低下させ，半導体としてのＩＴＯ膜（半導体活性層）を実現する，気相成膜方法。
イ本件発明１と引用発明１との一致点及び相違点
(ア)一致点
酸化物薄膜の気相成膜方法において，酸素ガスを含む雰囲気中で基板上に薄膜を堆積させる際に，成膜した薄膜の電子キャリヤ濃度を減らすように，酸素分圧の大きさを制御する，透明酸化物薄膜を成膜する酸化物薄膜の気相成膜方法。
(イ)相違点１－１
成膜する透明酸化物薄膜が，本件発明１では，「「該酸化物の多結晶をターゲットとして，基板の温度は意図的に加温しない状態で，電気抵抗を高めるための不純物イオンを意図的に薄膜に添加せずに」行う「パルスレーザー堆積法又は高周波スパッタ法」」によって成膜した「「結晶化したときの組成が，式ＩｎＧａＯ３（ＺｎＯ）ｍ（ｍは６未満の自然数）で示される酸化物薄膜」であって，「成膜した薄膜の室温での電子キャリヤ濃度が１０１６／ｃｍ３以下」，かつ，「室温での電子移動度が０．１ｃｍ２／（Ｖ・秒）以上」の「半絶縁性である透明Ｉｎ－Ｇａ－Ｚｎ－Ｏ薄膜」である「アモルファス酸化物薄膜」」であるのに対して，引用発明１では，「スパッタ法」によって成膜した「「従来透明電極として用いられていた，酸化物の透明導電膜である，ＩＴＯ膜」であって，「キャリア濃度を１０１８個・ｃｍ－３以下」に制御した「ＩＴＯ膜」」である点。
ウ本件発明２と引用発明１との一致点及び相違点
(ア)一致点
酸化物薄膜の気相成膜方法において，酸素ガスを含む雰囲気中で基板上に薄膜を堆積させる際に，成膜した薄膜の電子キャリヤ濃度を減らすように，酸素分圧の大きさを制御する，透明酸化物薄膜を成膜する酸化物薄膜の気相成膜方法。
(イ)相違点１－２
成膜する酸化物薄膜が，本件発明２では，「「該酸化物の多結晶をターゲットとして，基板の温度は意図的に加温しない状態で，電気抵抗を高めるための不純物イオンを意図的に薄膜に添加せずに」行う「パルスレーザー堆積法又は高周波スパッタ法」」によって成膜した「「結晶化したときの組成が，式ＩｎＧａＯ３（Ｚｎ１－ｘＭｇｘＯ）ｍ（ｍは６未満の自然数，０．８０≦ｘ＜０．８５）で示される酸化物薄膜」であって，「成膜した薄膜の室温での電子キャリヤ濃度が１０１６／ｃｍ３以下」，かつ，「室温での電子移動度が０．１ｃｍ２／（Ｖ・秒）以上」の「半絶縁性である透明Ｉｎ－Ｇａ－Ｚｎ－Ｍｇ－Ｏ薄膜」である「アモルファス酸化物薄膜」」であるのに対して，引用発明１では，「スパッタ法」によって成膜した「「従来透明電極として用いられていた，酸化物の透明導電膜である，ＩＴＯ膜」であって，「キャリア濃度を１０１８個・ｃｍ－３以下」に制御した「ＩＴＯ膜」」である点。
(3)本件発明１及び２と引用発明２との対比
本件審決が認定した引用発明２，本件発明１及び本件発明２と引用発明２との一致点及び相違点は，以下のとおりである。
ア引用発明２
半導体層がＩＩ族酸化物を含む半導体装置において，前記半導体層の少なくとも一方の面にアモルファス状の酸化アルミニウムが積層されていることを特徴とする半導体装置の，前記半導体層である，酸化亜鉛（ＺｎＯ）のＰＬＤ法を用いる成膜方法において，／酸化亜鉛の焼結体をターゲットとして，酸素を含む雰囲気中で基板上に半導体層を堆積させる際に，／堆積圧力を２６．７Ｐａとすることによって，Ｚｎ－Ｏの透明酸化物半導体層を成膜する酸化物半導体層の成膜方法。
イ本件発明１と引用発明２との一致点及び相違点
(ア)一致点
Ｚｎ及びＯを含む酸化物薄膜のパルスレーザー堆積法を用いる気相成膜方法において，該酸化物の焼結体をターゲットとして，電気抵抗を高めるための不純物イオンを意図的に薄膜に添加せずに，酸素ガスを含む雰囲気中で基板上に薄膜を堆積させる，透明酸化物薄膜を成膜する気相成膜方法。
(イ)相違点２－１
「Ｚｎ及びＯを含む酸化物薄膜」が，本件発明１では，「結晶化したときの組成が，式ＩｎＧａＯ３（ＺｎＯ）ｍ（ｍは６未満の自然数）」である薄膜であるのに対して，引用発明２では，「ＺｎＯ」の層である点。
(ウ)相違点２－２
基板上に堆積させた薄膜が，本件発明１では，「アモルファス酸化物薄膜」であって，「室温での電子移動度が０．１ｃｍ２／（Ｖ・秒）以上，かつ電子キャリヤ濃
度が１０


１６／ｃｍ３以下」である「半絶縁性である」薄膜であるのに対して，引用発明２の「酸化亜鉛の焼結体をターゲットとして，酸素を含む雰囲気中で基板上に半導体層を堆積させる際に，堆積圧力を２６．７Ｐａとすることによって」成膜した「Ｚｎ－Ｏの透明酸化物半導体層」がアモルファスであるか否か明示されておらず，また，電子移動度及び電子キャリヤ濃度が不明である点。
(エ)相違点２－３
本件発明１は，「酸化物の多結晶をターゲットとして，基板の温度は意図的に加温しない状態で」，「基板上に薄膜を堆積させる際に，成膜した薄膜の室温での電子キャリヤ濃度が１０１６／ｃｍ３以下となる大きさに酸素分圧の大きさを制御」して成膜するとの構成を有しているのに対し，引用発明２では，当該構成について特定されていない点。
ウ本件発明２と引用発明２との一致点及び相違点
(ア)一致点
Ｚｎ及びＯを含む酸化物薄膜のパルスレーザー堆積法
マ用
マいる気相成膜方法におい
て，該酸化物の焼結体をターゲットとして，電気抵抗を高めるための不純物イオンを意図的に薄膜に添加せずに，酸素ガスを含む雰囲気中で基板上に薄膜を堆積させる，透明酸化物薄膜を成膜する気相成膜方法。
(イ)相違点２－４
「Ｚｎ及びＯを含む酸化物薄膜」が，本件発明２では，「結晶化したときの組成が，式ＩｎＧａＯ３（Ｚｎ１－ｘＭｇｘＯ）ｍ（ｍは６未満の自然数，０．８０≦ｘ＜０．８５）」である薄膜であるのに対して，引用発明２では，「ＺｎＯ」の酸化物である点。
(ウ)相違点２－５
基板上に堆積させた薄膜が，本件発明２では，「アモルファス酸化物薄膜」であって，「室温での電子移動度が０．１ｃｍ２／（Ｖ・秒）以上，かつ電子キャリヤ濃
度が１０
１６／ｃｍ３以下」である「半絶縁性である」薄膜であるのに対して，引用発明２では，該薄膜がアモルファスであるか否か明示されておらず，また，電子移動度及び電子キャリヤ濃度が不明である点。
(エ)相違点２－６
本件発明２は，「酸化物の多結晶をターゲットとして，基板の温度は意図的に加温しない状態で」，「基板上に薄膜を堆積させる際に，成膜した薄膜の室温での電子キャリヤ濃度が１０１６／ｃｍ３以下となる大きさに酸素分圧の大きさを制御」して成膜するとの構成を有しているのに対し，引用発明２では，当該構成について特定されていない点。
４取消事由
(1)本件発明１の引用発明１に基づく容易想到性判断の誤り（取消事由１）
ア引用発明１の認定の誤り（取消事由１－１）
イ一致点及び相違点の認定の誤り（取消事由１－２）ウ相違点の容易想到性判断の誤り（取消事由１－３）(2)本件発明１の引用発明２に基づく容易想到性判断の誤り（取消事由２）(3)本件発明１の実施可能要件の判断の誤り（取消事由３）(4)本件発明２ないし５の容易想到性及び本件発明３ないし５の実施可能要件の
判断の誤り（取消事由４）
第３当事者の主張
１取消事由１（本件発明１の引用発明１に基づく容易想到性判断の誤り）につ
いて
〔原告の主張〕
(1)取消事由１－１（引用発明１の認定の誤り）
ア引用発明１の認定
(ア)本件審決における認定の誤り
本件審決は，前記第２の３(2)アのとおり，引用例１に記載された発明として，ＩＴＯに限定された発明を認定した。
しかし，引用例１の【００１９】では，ＩＴＯを一例として，酸化物一般について「膜中の酸素量を変化させることにより膜の導電率を変化させることができる」とし，その原因が「化学量論的組成からのずれ（酸素欠損）によりキャリアが発生していること」にあることが説明され，さらに，【００１６】や図２において，このための具体的な方法として，スパッタリングにおける酸素濃度を調整する手法が開示されている。また，請求項１及び【００２１】には，引用例１における「透明」の意味として，バンドギャップエネルギーが大きいこと（望ましくは３ｅＶ以上）も開示されている。そして，引用例１ではＩＴＯを例に説明しているが，請求項１及び２が組成を限定していないことからも明らかなとおり，引用例１に記載された発明は，ＩＴＯに限定されるものではなく，また，引用例１には，請求項１及び２をＩＴＯ以外の酸化物に適用することの妨げとなるような記載も存在しない。したがって，引用例１には，ＩＴＯに限られない酸化物薄膜に関するより上位の発明が記載されている。
(イ)認定されるべき引用発明１の内容
以上によれば，引用発明１は，以下のとおり認定されるべきである。「ＩＴＯなどの酸化物薄膜のスパッタ法を用いる気相成膜方法において，酸素ガスを含む雰囲気中で基板上に薄膜を堆積させる際に，成膜した薄膜の電子キャリア
濃度が１０
１８／ｃｍ３以下となる大きさに酸素分圧の大きさを制御することによって，電子キャリア濃度が１０１８／ｃｍ３以下である半導体であるＩｎ－Ｓｎ－Ｏ（ＩＴＯ）などのバンドギャップエネルギーが大きな（望ましくは３ｅＶ以上）透明酸化物薄膜を成膜することを特徴とする酸化物薄膜の気相成膜方法。」（以下「原告主張の引用発明１」という。）
イ判断の遺脱
原告は，審判請求の段階から，引用例１には，ＩＴＯに限られない酸化物薄膜に関する原告主張の引用発明１が記載されている旨主張していたから，仮にこれが記載されていないというのであれば，本件審決においてこれを否定する理由を示す必要がある。


しかし，本件審決は，引用例１に開示された実施例のみに基づきＩＴＯに限定された発明を認定しながら，このような限定された発明のみが記載されているとする根拠を何ら示していない。そして，本件審決はＩＴＯに限定された発明を認定したことにより，容易想到性の判断において，ＩＴＯという特定組成の酸化物薄膜を「結晶化したときの組成が，式ＩｎＧａＯ３（ＺｎＯ）ｍ（ｍは６未満の自然数）で示される酸化物薄膜」に代える動機付けを求めることになっている。したがって，本件審決には判断遺脱の違法がある。
(2)取消事由１－２（一致点及び相違点の認定の誤り）本件審決における引用発明１の認定は誤りであるから，これを前提とする一致点及び相違点の認定も誤りである。
そして，原告主張の引用発明１を前提とすれば，本件発明１との一致点及び相違点は，以下のとおり認定されるべきである。
ア一致点
酸化物薄膜のスパッタ法を用いる気相成膜方法において，酸素ガスを含む雰囲気中で基板上に薄膜を堆積させる際に，酸素分圧の大きさを制御することによって，電子キャリヤ濃度を所定値以下である半絶縁性である透明酸化物薄膜を成膜することを特徴とする酸化物薄膜の気相成膜方法。
イ相違点
(ア)本件発明１では「電気抵抗を高めるための不純物イオンを意図的に薄膜に添加せずに，」とされているのに対し，原告主張の引用発明１ではこの点が明記されていない点。（以下「相違点Ａ」という。）
(イ)本件発明１は，結晶化したときの組成が，式ＩｎＧａＯ３（ＺｎＯ）ｍ（ｍは６未満の自然数）で示される酸化物薄膜であって，室温での電子移動度が０．１ｃｍ２／（Ｖ・秒）以上，かつ電子キャリヤ濃度が１０１６／ｃｍ３以下である透明Ｉｎ－Ｇａ－Ｚｎ－Ｏ薄膜を成膜することを特徴とするアモルファス酸化物薄膜の気相成膜方法であるのに対し，原告主張の引用発明１は，ＩＴＯなどの酸化物薄膜であって，室温での電子移動度が不明で，かつ電子キャリヤ濃度が１０１８個・ｃｍ－３以下である，Ｉｎ－Ｓｎ－Ｏなどの透明酸化物薄膜を成膜することを特徴とする酸化物薄膜の気相成膜方法である点。（以下「相違点Ｂ」という。）(ウ)本件発明１は，パルスレーザー堆積法又は高周波スパッタ法において，酸化物の多結晶をターゲットとして，基板の温度は意図的に加温しない状態で基板上に薄膜を堆積させるのに対し，原告主張の引用発明１は，スパッタの条件が酸素分圧以外不明である点。（以下「相違点Ｃ」という。）
(3)取消事由１－３（相違点の容易想到性判断の誤り）
ア相違点ＡないしＣの容易想到性
以下のとおり，原告主張の引用発明１において，相違点ＡないしＣに係る本件発明１の構成は，当業者が容易に想到することができたことである。
(ア)相違点Ａの容易想到性
半導体の分野において不純物イオンを添加するのは，キャリヤを増やして「電気抵抗を下げる」ためであって，「電気抵抗を高めるため」に不純物イオンを意図的に薄膜に添加することは通常の技術ではない。
引用例１には，電気抵抗を高めるための不純物イオンを意図的に薄膜に添加したとの記載は存在せず，むしろ，酸素量を調整することで導電率を制御する（電気抵抗を高める）ことが記載されている（【００１９】）。したがって，引用発明１においても，電気抵抗を高めるための不純物イオンを意図的に薄膜に添加していないとみるべきであるし，少なくとも，「意図的に添加」しないことは容易であるから，相違点Ａは，実質的な相違点とはいえないか，少なくとも，容易に想到できる。
(イ)相違点Ｂ及びＣの容易想到性
本件発明１には「結晶化したときの組成が，式ＩｎＧａＯ３（ＺｎＯ）ｍ（ｍは６未満の自然数）で示される酸化物薄膜」とある（以下，「式ＩｎＧａＯ３（ＺｎＯ）ｍ（ｍは６未満の自然数）」を「本件組成」といい，アモルファスであることをいう場合には，「アモルファス本件組成」という。）。
ここで，本件明細書の【００３０】には「スパッタリング法やパルスレーザー蒸着法により成膜を行う際のターゲット材料（例えば多結晶体）の組成比を，上記ｍ＜６を満たすようにすれば，所望のアモルファス酸化物が得られる。」とあることから，上記構成要件との関係では，「本件組成を有する結晶性のターゲット材料を用いて成膜したアモルファス酸化物薄膜」の構成とすることが容易といえるか否かを検討すれば足りる。
また，相違点Ｂは，成膜された酸化物薄膜の違いをいうものであり，相違点Ｃは，製造方法の違いをいうものであるから，相違点Ｂに係る酸化物薄膜を成膜するに当たり相違点Ｃの製造方法を採用することが容易か否かを検討するべきであり，相違点Ｂ及びＣの容易想到性は，両者を分けて検討するのではなく，両者の関連性を考慮して検討するべきである。
ａアモルファス本件組成は周知であること
引用例４及び引用例７ないし９には，アモルファス本件組成が記載されているから，アモルファス本件組成自体は周知である。
ｂアモルファス本件組成を適用する動機付け
⒜原告主張の引用発明１は，半導体層としてアモルファスシリコンよりバンドギャップの大きい透明材質の半導体を使うことで光に影響されず，更に開口率を増大させることができる薄膜トランジスタを提供することを目的とする発明であり（【０００７】），バンドギャップとしては３ｅＶ以上が望ましいとされている（【００２１】）。
ここで，バンドギャップエネルギーの大きさは，薄膜がどの程度の波長の光を透過できるかに影響するところ，本件組成のバンドギャップエネルギーは３ｅＶ前後であり，良好な透明性を示すことが知られていた（引用例７，９）。また，甲２５には，原告主張の引用発明１が例示するＩＴＯの基礎吸収端波長が４５０ｎｍであり，可視領域の短波長側領域での透明性が乏しいのに対し，本件組成は，それよりも短波長側に基礎吸収端波長があり，４００ｎｍでの透過率がＩＴＯの２倍以上も高く，しかも，電気伝導率がＩＴＯと同等か，それ以上であることが開示されている。したがって，透明膜として本件組成が，ＩＴＯよりも優れていることが知られていた。


⒝さらに，原告主張の引用発明１の課題からすれば，吸収端のみならず可視光領域全体における透過率が高いことが望ましいことは明らかであるところ，引用例８には，アモルファス本件組成の４００～８００ｎｍの平均透過率が８０％程度であることが記載され，また，甲２９には，本件組成の可視光領域における透過率が原告主張の引用発明１の例示するＩＴＯのそれよりも全体的に高いことが記載されている。
⒞ところで，本件明細書では，電子移動度が０．０１～１ｃｍ２／（Ｖ・秒）程度でＴＦＴとして使用できるとされている（【００４２】，【００４３】）。仮に当該記載に従うとすれば，アモルファス本件組成の電子移動度は，１０ｃｍ２／（Ｖ・秒）以上であるから（引用例４，７，９），これをＴＦＴ（薄膜トランジスタ）に使用した場合に良好な特性が得られることは明らかである。さらに，引用例１に記載されている酸化物では，酸素量を調整することで電子キャリヤ濃度を下げることができることは周知であり，また，アモルファス酸化物材料をトランジスタの活性層に用いること（甲３０），アモルファス酸化物材料であるアモルファス本件組成で電子キャリヤ濃度の低い薄膜も知られていた（甲９）。
したがって，アモルファス本件組成をトランジスタの活性層に使用する動機付けがある。
⒟他方，アモルファス材料は，一般に，結晶系と比較して，低温プロセスで製品を製造できるなどの利点があるため，産業上の利用可能性を考慮すれば，結晶性のものよりも有利であるといえ，少なくとも，アモルファス本件組成が周知であるときに，これを使用することを阻害する理由はない。
⒠以上のとおり，原告主張の引用発明１の課題，アモルファスの利点などからして，原告主張の引用発明１の酸化物薄膜としてアモルファス本件組成を選択する強い動機付けがある一方で，その適用を阻害する理由はない。したがって，原告主張の引用発明１にアモルファス本件組成を適用することは容易である。
ｃ電子キャリヤ濃度
アモルファス本件組成の薄膜の電子キャリヤ濃度として，４．２×１０１６ｃｍ－３が知られていた（引用例９）。そして，当該アモルファス膜は，多結晶ＩｎＧａＺｎＯ４の円盤状ターゲットを用いＡｒ（アルゴン）中で成膜されたものであるから，酸素ガスを含まない中で成膜されたものである。
原告主張の引用発明１は，ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）に用いる酸化物薄膜を製造するに際し，酸素濃度を調整することでＩＴＯのような導電膜であっても電子キャリヤ濃度を下げることでトランジスタ用の薄膜にできることを開示する発明であり，かつ，酸化物では酸素濃度を調整することで電子キャリヤ濃度を調整できることが周知であり，さらに，トランジスタ（とりわけノーマリーオフ型のトランジスタ）においては薄膜の抵抗率が高いこと，すなわち，電子キャリヤ濃度が低いことが望ましいことも周知の事実である（引用例１０，１１）。したがって，原告主張の引用発明１の酸化物薄膜として，アモルファス本件組成を採用するに際し，引用例９に記載の条件に加えて酸素濃度を高くすることで，電
子キャリヤ濃度を１×１０１６ｃｍ
－３以下にすることは容易である。
ｄ電子移動度
本件発明１には，「室温での電子移動度が０．１ｃｍ２／（Ｖ・秒）以上」との規定があるが，電子キャリヤ濃度が１×１０１６ｃｍ－３以下であれば，抵抗が十分に高くなるので，電子移動度の値は電流の流れやすさにほとんど影響を与えないから，電子キャリヤ濃度が１×１０１６ｃｍ－３以下の薄膜における電子移動度を特定することに特段の技術的意義は認められない。したがって，本件発明１における電子移動度の値は，単なる設計的事項というべきであるから，この点は容易に想到できる。
ｅアモルファス本件組成の製法
酸化物の製造において，高周波スパッタ法は，ごく一般的な方法である上，アモルファス本件組成について，引用例９では，室温での酸化物の多結晶膜をターゲットとした高周波スパッタ法を採用している。そうすると，周知のアモルファス本件組成を採用するに当たり，高周波スパッタ法を採用することは容易である。したがって，相違点Ｃは容易に想到できる。また，そうである以上，「結晶化したときの組成が，式ＩｎＧａＯ３（ＺｎＯ）ｍ（ｍは６未満の自然数）で示される酸化物薄膜」とすることも容易に想到できる。
ｆ以上要するに，アモルファス本件組成は周知の物質であり，また，キャリヤ濃度が十分に低く（４．２×１０１６ｃｍ－３），移動度が高い（２１ｃｍ２Ｖ－１ｓ－１）アモルファス本件組成自体が公知であり（引用例９），さらに，酸化物半導体では酸素欠損量を調整することでキャリヤ濃度の調整ができること及びキャリヤ濃度の増加に伴い移動度が増加する傾向にあることも公知ないしは周知であるときに，周知の気相成膜方法であるパルスレーザー堆積法や高周波スパッタ法において，酸素分圧を調整して酸化物半導体の酸素欠損量を調整するという周知の手法を採用することで，当然に予想される程度の物性（キャリヤ濃度と電子移動度）を有するアモルファス本件組成を成膜する「アモルファス酸化物薄膜の気相成膜方法」なる発明に進歩性が認められる余地はない。
したがって，相違点Ｂ及びＣは，容易に想到できる。
(ウ)小括
以上のとおり，本件発明１は，原告主張の引用発明１に周知のアモルファス本件組成を適用することで当業者が容易に想到することができたものである。
イ相違点１－１の容易想到性判断の誤り
仮に，本件審決における引用発明の認定に誤りがないとしても，相違点１－１に係る容易想到性判断は，前記アと同様に，誤りである。
〔被告の主張〕
(1)取消事由１－１（引用発明１の認定の誤り）
ア引用発明１の認定
引用例１には「電子キャリア濃度が１０１８個・ｃｍ－３以下である」透明酸化物薄膜は一貫してＩＴＯしか記載されておらず（【００１３】～【００１８】，【００２２】），原告が主張するような，ＩＴＯ以外の他の酸化物を活性層として用いた「電子キャリア濃度が１０１８個・ｃｍ－３以下である」透明酸化物薄膜は，記載されていない。


引用例１の【００１９】は，ＩＴＯのようにＩｎ２Ｏ３結晶中の微量の酸素欠陥とＩｎ－Ｏ結晶格子にＳｎが置換して生じる電子がキャリアとなって導電性が発現するような酸化物について膜中の酸素量を変化させることによって導電率を調整することが可能であることを述べているにすぎず，上記記載から，実施例１の「キャリア濃度を１０１８個・ｃｍ－３以下に制御し，縮退を解いて導電性を低下させ」た「ＩＴＯ」が，突如として「他の酸化物」に変身するはずがない。引用文献に記載された技術内容を抽象化したり，一般化したり，上位概念化したりすることは許されないから，引用例１において，ＩＴＯをＩＴＯに限られない酸化物薄膜へと抽象化，一般化及び上位概念化することはできない。以上によれば，本件審決における引用発明１の認定に誤りはない。
イ判断の遺脱がないこと
引用例１には，前記アのとおり，原告の主張する「電子キャリア濃度が１０１８個
・ｃｍ
－３以下」であるＩＴＯ以外の酸化物の製膜方法に係る記載は全くない。本件審決は，原告の主張する「ＩＴＯなどの酸化物」を，引用例１の記載に即して「ＩＴＯ」に限定して引用発明１を認定したものであり，原告の主張を一部排斥して適正な認定を行ったにすぎない。そして，引用発明１を認定した理由は，本件審決に詳細に示されている。
したがって，本件審決に判断の遺脱はない。
(2)取消事由１－２（一致点及び相違点の認定の誤り）本件審決における引用発明１の認定に誤りはないから，原告主張の引用発明１を前提とする一致点及び相違点の認定の誤りに係る主張は，失当である。(3)取消事由１－３（相違点の容易想到性判断の誤り）
ア相違点ＡないしＣの容易想到性
仮に原告主張の引用発明１を前提に，本件発明１との相違点が，相違点ＡないしＣのとおり認定されるとしても，以下のとおり，本件発明１は，原告主張の引用発明１に基づき当業者が容易に想到することができたものではない。(ア)原告の主張は，多数の文献に依拠しつつ，多段階の論理操作をしなければ本件発明１に想到することができないというものであるから，容易想到性に関する論理付けとして，失当であるというほかない。また，原告の主張は，本件特許の出願日前には公開されていない本件明細書の記載（【００４２】，【００４３】）に基づき進歩性を論じている点でも失当である。加えて，原告の主張は，アモルファス本件組成を選択できたことが暗黙の前提になっており，そのような前提をとった上で，アモルファス本件組成を選択することの許容性を論じるものにすぎない。どうやって酸化物の中からアモルファス本件組成を選択するかが問題であるのに，それを選択することがあたかも当然の前提となっているのであり，「後知恵」以外の何物でもない。
(イ)相違点Ｂ及びＣの容易想到性
ａアモルファス本件組成について
アモルファス本件組成は，専ら「透明導電膜」の用途として周知だったのであり，本件発明１のようにＴＦＴの活性層に用いることが可能なキャリヤ濃度及び移動度を調整したものとして周知だったわけではない。
ｂアモルファス本件組成を選択する動機付けについて⒜本件組成が，透明膜の透明性という点で，ＩＴＯよりも優れているとしても，透明膜を選択する際には透明性だけが考慮の対象になるわけではなく，導電性その他の各種の電気的特性も考慮されるべきであるから，透明膜として本件組成がＩＴＯより優れているとの点は，本件組成を選び出す理由になっていない。また，甲３０には，本件組成とは全く異なる材料でＴＴＦＴ（ＴｒａｎｓｐａｒｅｎｔＴｈｉｎ－Ｆｉｌｍ    Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒｓ）を作製した例が記載されているにすぎない。さらに，アモルファス材料は，一般に，結晶系と比較して低温プロセスで製品を製造できるなどの利点があるというのは，本件組成を選ぶ理由にはならない。
⒝引用例１のＩＴＯに代えて別の酸化物を試す必要性などないので，他の酸化物を適宜試すこと自体に困難性があるし，電気的特性予測方法が知られていない以上，多数の酸化物から本件組成を選択することにも困難性がある。さらに，結晶ではなく，シリコンの例でいえば特性が格段に劣ることが予想されるアモルファスを選択することにも困難性がある。
⒞以上のとおり，アモルファス本件組成を選択すること自体に困難性がある。
ｃ電子キャリヤ濃度について
「電子キャリヤ濃度を１×１０１６ｃｍ－３以下にすること」については，「引用例９に記載の条件に加えて酸素濃度を高くする」という「容易の容易」と言える２段階の操作（引用例１に引用例９を組み合わせるという操作に加えて，さらに，製造工程中の酸素濃度を調整することによって電子キャリヤ濃度を低く調整するという操作）が要求されている。
このような２段階の操作を要する構成が，容易に想到することができたものであるはずがない。
ｄ電子移動度について
電子移動度が０．１ｃｍ２／（Ｖ・秒）程度であれば，アモルファスシリコン膜を用いたＴＦＴと同等以上の性能を有する（本件明細書【００４２】）のであるから，数値限定として意味がある。
したがって，電子移動度の値は，単なる設計的事項などではない。
ｅ小括
以上のとおり，相違点Ｂ及びＣは，容易に想到することができたものではない。イ相違点１－１の容易想到性判断に係る主張について本件審決が認定した相違点１－１について，その容易想到性判断が誤りである旨の原告の主張は，民事訴訟法１５７条によって却下されるべきである。２取消事由２（本件発明１の引用発明２に基づく容易想到性判断の誤り）につ
いて
〔原告の主張〕
(1)相違点２－１の容易想到性
ア引用例２には，結晶粒界による散乱を考慮してチャネルをアモルファスにしてもよいことが記載されているところ，引用例２で用いられているＺｎＯは通常の方法ではアモルファスにすることが困難なことが知られている（引用例７，本件明細書【０００４】）。


そして，アモルファス本件組成は周知であり，半導体層として有用な特性が知られていたことに加え，引用例７にはＺｎＯに代えてアモルファス本件組成を使用することが記載されているから，引用発明２において，アモルファス本件組成を採用することには，強い動機付けがある。
なお，本件審決は価格差を問題とするが，アモルファス本件組成を採用することが容易であるか否かを，必ずしも量産と結び付けて考える必要はないから，価格差が大きな関心事になるわけではない。また，引用例２では半導体層として結晶のものも含まれているところ，アモルファスにすれば，結晶と比較して製造コストを下げることは可能である。したがって，価格差を重視するのは，誤りである。イ半導体装置の技術分野において，半導体装置を構成する部材に含まれる元素が属する族の違いによって，半導体装置の電気的特性が異なる場合があることは，当業者において周知の事項である。しかし，他方で，半導体装置を構成する部材に含まれる元素が属する族の違いによって，半導体装置の電気的特性が異ならない場合が多いことも事実であるから，結局，本件発明１の優先日当時の技術水準として，当業者がアモルファス状の酸化アルミニウムに接してＩＧＺＯ系を成膜した場合に問題が生じると理解するかどうかによって，族の違いが阻害事由になるか否かが決まるというべきである。
そして，酸化アルミニウムは絶縁膜としては周知の材質である上，引用例７の図４にはアモルファスの酸化アルミニウムの上にアモルファス本件組成が成膜され，引用例１１にはＩＧＺＯ系を用いたトランジスタの「ゲート絶縁膜３には，Ａｌ２Ｏ３が最も適している。」，「トップゲート型ＭＩＳＦＥＴ素子を作製した。ソースとドレイン電極及びゲート絶縁膜にはＡｕ及び，アモルファスＡｌ２Ｏ３をそれぞれ用いた。」と記載されているように，実際にアモルファス状の酸化アルミニウムに接してＩＧＺＯ系が成膜されていることからして，本件発明１の優先日当時の技術水準として，当業者がアモルファス状の酸化アルミニウムに接してＩＧＺＯ系を成膜した場合に問題が生じると理解することはないということができる。したがって，族の違いは，阻害事由とはならない。
ウ以上によれば，相違点２－１は容易に想到できる。
(2)相違点２－２の容易想到性
アノーマリーオフ型のトランジスタに用いる薄膜として電子キャリヤ濃度が低いことがよいことは周知であるところ，これは，ノーマリーオフ型のトランジスタの性質の問題であって，そこで用いる半導体層が結晶であるかアモルファスであるかによって影響を受けない。そして，引用例１０には，キャリヤ濃度が１０１３ｃｍ－３と見積もられる単結晶ＩｎＧａＯ３（ＺｎＯ）５薄膜が開示されているのであるから，このキャリヤ濃度をアモルファス本件組成に適用することは，当業者において容易に想到することができたことである。
また，本件発明１における電子移動度の規定に特別な技術的意義はなく，単なる設計的事項である。
イ以上によれば，相違点２－２は容易に想到できる。
(3)相違点２－３の容易想到性
相違点２－３は，引用例１や引用例９に照らし，容易に想到できる。
〔被告の主張〕
(1)相違点２－１の容易想到性
アアモルファス本件組成は，導電膜としての用途で研究が進められていたのであって，薄膜トランジスタの活性層の用途で検討されていたわけではない。つまり，導電膜用途のアモルファス本件組成は知られていたが，本件発明１のような電気的特性を有する薄膜としては知られていなかった。
したがって，当業者が，引用例２のＺｎＯ，ＭｇＺｎＯ及びＣｄＺｎＯを，理由も必要もなく，アモルファス本件組成に置き代えると考えることはない。そして，引用例７は，ＩｎＧａＯ３（ＺｎＯ）ｍ膜の電気的特性を考察した論文であって，引用発明２のＺｎとＯを含む薄膜に代えてアモルファス本件組成を使用することについては，何らの記載も示唆もない。
以上によれば，相違点２－１は，阻害事由の有無に言及するまでもなく，容易に想到することができたものではない。
イ原告の主張について
引用発明２のＺｎＯを置き換えて，アモルファス酸化物半導体であるＩｎＧａＺｎＯ４を用いた場合には，ＩｎＧａＺｎＯ４とアモルファス状の酸化アルミニウムとの間に形成される界面の欠陥準位の状態には，ＩｎＧａＺｎＯ４に含まれるⅠⅠⅠ族元素である「Ｉｎ」及び「Ｇａ」の影響が出るであろうと，当業者であれば予測する。このことは，異なった組成の材料を積層させたときの界面の電気的特性を予測することができない以上，当然のことである。
引用例７は界面の電気的特性を測定しているわけではないし，そもそも薄膜トランジスタを作製していない。また，引用例１１は，単結晶のＩＧＺＯについて記載しているにすぎない。そもそも，引用例１１という，わずか１件の文献が存在することから，直ちに，アモルファス状の酸化アルミニウムに接してＩＧＺＯ系を成膜した場合に問題がないというような技術常識が生じることはない。
(2)相違点２－２の容易想到性
ノーマリーオフ型のトランジスタに用いる薄膜として電子キャリヤ濃度が低いことがよいことは周知である旨の原告の主張は，本件組成のアモルファス薄膜をノーマリーオフ型のトランジスタに適用できたことが前提となっている。しかし，アモルファス本件組成を用いた薄膜トランジスタに関する報告は，本件特許の優先日以前は存在しないから，原告の上記主張は，その前提において誤りである。また，どのような材料で，どこまで電子キャリヤ濃度の低いものを実現できるかは，予測不可能である。
さらに，電子移動度が０．１ｃｍ２／（Ｖ・秒）以上であれば，アモルファスシリコン膜を用いたＴＦＴと同等以上の性能を有する（本件特許明細書【００４２】）のであるから，電子移動度の規定は，数値限定として意味がある。以上によれば，相違点２－２は，容易に想到することができたものではない。３取消事由３（本件発明１の実施可能要件の判断の誤り）について
〔原告の主張〕
(1)本件明細書の成膜条件は導電性膜を開示する引用例４の製造方法に含まれる
こと


ア引用例４の【００３０】には，「圧力（酸素分圧）を１×１０－２［Ｐａ］～１０［Ｐａ］の範囲とすることで，非晶質の酸化物膜を形成することができる。」と明記されている。そして，本件明細書の実施例の範囲は，全てこの範囲に含まれる。また，本件明細書の実施例３には，スパッタ法の例が記載されており，酸素分圧の範囲は「４×１０－２Ｐａ以上，５×１０－１Ｐａ以下」（【００７０】，【００７１】）であるから，引用例４に記載された望ましい圧力の範囲である０．０１～１（Ｐａ）に含まれている。
以上のとおり，本件発明１は，「半絶縁性である」薄膜を成膜することを特徴とするものであるが，本件明細書の発明の詳細な説明に記載された成膜条件は，導電性膜を開示する引用例４の製造方法に含まれるのであるから，本件明細書の開示が引用例４の内容と矛盾していることは明らかである。
イしたがって，本件組成を含めた酸化物一般について，酸素量を調整することで電子キャリヤ濃度を調整する手法が周知であることを前提とするのであればともかく，これを前提としない場合には，当業者であっても，導電膜を成膜する条件で行われている本件明細書の記載において，電子キャリヤ濃度が１０１６／ｃｍ３以下である半絶縁性膜が成膜されることを理解することはできないというべきである。(2)スパッタ法で作製した薄膜に係るデータが示されていないことア本件明細書には，スパッタ法で作製した薄膜のキャリヤ濃度に係る実験データが示されていない。したがって，本件発明１におけるスパッタ法では「電子キャ
リヤ濃度が１０
１６／ｃｍ３以下となる大きさに酸素分圧の大きさを制御すること」が実現できるかは明らかではない。
本件明細書の実施例３に記載されたスパッタ法の酸素分圧は，「４×１０－２Ｐａ以上，５×１０－１Ｐａ以下」，すなわち，０．０４～０．５（Ｐａ）であるから，引用例４に記載された望ましい圧力の範囲０．０１～１（Ｐａ）に完全に含まれており，範囲もほとんど同じである。
以上のとおり，本件明細書のスパッタ法による唯一の実施例が引用例４の望ましい範囲に完全に含まれており，範囲もほとんど同じである以上，少なくとも，スパッタ法については，記載不備の違法があることが明らかである。
イ被告の主張（審理範囲）について
被告は，本件明細書にスパッタ法で成膜された薄膜の電子キャリヤ濃度に係る実験データが示されていない点は，本件審判手続において，無効理由として主張されていなかった事項であるから，取消事由として不適法である旨主張する。しかし，原告は，審判請求書において，パルスレーザー蒸着法及びスパッタ法のいずれにおいても本件明細書の開示には問題があることを主張していた。原告の前記アの主張は，本件審決が上記主張に対し，パルスレーザー蒸着法に関する明細書の開示を根拠に記載不備はないとしたことを前提に，少なくとも，スパッタ法については記載不備である旨主張するものであるから，不適法ではない。
〔被告の主張〕
(1)引用例４の記載と本件明細書の記載との関係ア引用例４における酸素分圧は，「スパッタリング法及びレーザーアブレーション法においても，基板温度を室温から３００℃の範囲とし，かつ圧力（酸素分圧）を１×１０－２［Ｐａ］～１０［Ｐａ］の範囲とすることで，非晶質の酸化物膜を形成することができる。基板温度は，好ましくは０～１５０℃の範囲であり，かつ圧力は，好ましくは０．０１［Ｐａ］～１［Ｐａ］の範囲である。」（【００３０】）とあるように，望ましい範囲は，０．０１［Ｐａ］～１［Ｐａ］の範囲である。引用例４に記載された全ての実施例（実施例１～４）において，酸素分圧は，０．０１［Ｐａ］～１［Ｐａ］の範囲である。
これに対し，本件明細書は，実施例１では酸素分圧が６．５（Ｐａ）（【００４７】），実施例２では４．５（Ｐａ）超（【００５８】），実施例５では酸素分圧は５（Ｐａ）（【００８０】）である。
以上のように，引用例４の酸素分圧は小さく，本件明細書の実施例では酸素分圧は大きい。引用例４で導電膜が得られ，本件発明１で半絶縁性が得られるという点で全く矛盾はない。
イ原告の主張について
原告は，本件明細書の実施例３の酸素分圧の範囲が「４×１０－２Ｐａ以上，５×１０－１Ｐａ以下」であるから，引用例４の記載と本件明細書の記載との間に矛盾がある旨主張する。
しかし，引用例４の全ての実施例では，酸素分圧は０．０１［Ｐａ］～１［Ｐａ］であるところ，これはパルスレーザーアブレーション法（パルスレーザー堆積法）による酸素分圧である。これに対して本件明細書の実施例３はアルゴンガスを用いた高周波スパッタ法による成膜である。本件明細書から容易に理解できるとおり，パルスレーザー堆積法よりも，高周波スパッタ法による場合のほうが，所望の特性を得るためには酸素分圧を低く設定すべきである。酸素分圧等の設定値が製膜装置によって異なるのは当然であるところ，引用例４の実施例には，スパッタ法による成膜例が存在しないので，本件明細書の実施例３と比較すべき対象が存在しない。
したがって，本件明細書と引用例４の記載は矛盾しない。
(2)スパッタ法について
ア本件明細書には，スパッタ法で成膜された薄膜の電子キャリヤ濃度に係る実験データが示されていない。しかし，この点は，本件審判手続において，無効理由として主張されていなかった事項であるから，取消事由として主張することはできない。
イ上記の点を措いても，スパッタ法に関しては，酸素分圧の範囲はＰＬＤ法と異なるものの，本件明細書の実施例３に記載がある（【００６３】～【００７１】）。そして，成膜方法によって薄膜の組成自体が変わるわけではないから，ＰＬＤ法による薄膜の電子キャリヤ濃度に係る実験データが示されている以上，同じ真空成膜法であるスパッタ法で成膜された薄膜においても同様の結果が得られているであろうことは当業者ならば当然に認識可能である。
したがって，スパッタ法で成膜された薄膜に関して実施可能要件が欠如するということはない。
４取消事由４（本件発明２ないし５の容易想到性及び本件発明３ないし５の実施可能要件の判断の誤り）について
〔原告の主張〕


本件発明２は，本件発明１の組成のＺｎの一部がＭｇに置換されたものであり，本件発明３ないし５は，本件発明１及び２に限定を加えたものであって，本件発明１についての取消事由の内容は，本件発明２ないし５にも妥当する。そして，本件発明１の引用発明１に基づく容易想到性，引用発明２に基づく容易想到性及び実施可能要件の判断は，前記１ないし３の〔原告の主張〕のとおり，いずれも誤りであるから，同様に，本件発明２ないし５の引用発明１に基づく容易想到性及び引用発明２に基づく容易想到性並びに本件発明３ないし５の実施可能要件の判断も，いずれも誤りである。
〔被告の主張〕
本件発明１の引用発明１に基づく容易想到性，引用発明２に基づく容易想到性及び実施可能要件の判断には，前記１ないし３の〔被告の主張〕のとおり，誤りはないから，同様に，本件発明２ないし５の引用発明１に基づく容易想到性及び引用発明２に基づく容易想到性並びに本件発明３ないし５の実施可能要件の判断に，誤りはない。
第４当裁判所の判断
１本件各発明について
(1)本件明細書等の記載
本件各発明に係る特許請求の範囲（請求項１～５）は，前記第２の２記載のとおりであるところ，本件明細書（甲２３）の発明の詳細な説明には，おおむね，次の記載がある（下記記載中に引用する図１，２及び５については，別紙本件明細書図面目録を参照。）。
ア技術分野
【０００１】本発明は，アモルファス酸化物薄膜の気相成膜方法に関する。
イ背景技術
【０００２】薄膜トランジスタ（ＴｈｉｎＦｉｌｍ    Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ,ＴＦＴ）は，ゲート端子，ソース端子，及び，ドレイン端子を備えた３端子素子であり，基板上に成膜した半導体薄膜を，電子又はホールが移動するチャネル層として用い，ゲート端子に電圧を印加して，チャネル層に流れる電流を制御し，ソース端子とドレイン端子間の電流をスイッチングする機能を有するアクティブ素子である。ＴＦＴとして，現在，最も広く使われているのは多結晶シリコン膜又はアモルファスシリコン膜をチャネル層材料としたＭｅｔａｌ－Ｉｎｓｕｌａｔｏｒ－ＳｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒＦｉｅｌｄ    ＥｆｆｅｃｔＴｒａｎｓｉｓｔｏｒ(ＭＩＳ－ＦＥＴ)素子である。
【０００３】また，最近では，ＺｎＯを用いた透明伝導性酸化物多結晶薄膜をチャネル層に用いたＴＦＴの開発が活発に行われている…。上記薄膜は，低温で成膜でき，かつ可視光に透明であるため，プラスチック板やフィルムなどの基板上にフレキシブルな透明ＴＦＴを形成することが可能である。【０００４】しかし，従来のＺｎＯは室温で安定なアモルファス相を形成することができず，殆どのＺｎＯは多結晶相を呈するために，多結晶粒子界面の散乱により，電子移動度を大きくすることができない。さらに，ＺｎＯは，酸素欠陥が入りやすく，キャリア電子が多数発生し，電気伝導度を小さくすることが難しい。このために，トランジスタのオン・オフ比を大きくすることも難しい。【０００５】また，特許文献２（判決注・引用例４）には，アモルファス酸化物として，ＺｎｘＭｙＩｎｚＯ（ｘ＋３ｙ／２＋３ｚ／２）（式中，ＭはＡｌ及びＧａのうち少なくとも一つの元素であり，比率ｘ／ｙが０．２～１２の範囲であり，比率ｚ／ｙが０．４～１．４の範囲にある。）で表される非晶質酸化物が記載されている。しかし，ここで得られている非晶質酸化物膜の電子キャリア濃度は，１０１８／ｃｍ３以上であり，単なる透明電極として用いるには充分であるもののＴＦＴのチャネル層には適用し難いものであった。なぜなら，上記非晶質酸化物膜をチャネル層としたＴＦＴでは，オン・オフ比が充分にとれず，ノーマリーオフ型のＴＦＴにはふさわしくないことが判明したからである。
ウ発明が解決しようとする課題
【０００７】そこで，本発明は，電子キャリア濃度が低い，アモルファス酸化物薄膜の成膜方法を提供すること，更には当該アモルファス酸化物薄膜をチャネル層に用いた薄膜トランジスタを提供することを目的としている。
エ課題を解決するための手段
【０００８】本発明は，（１）結晶化したときの組成が，式ＩｎＧａＯ３（ＺｎＯ）ｍ（ｍは６未満の自然数）で示される酸化物薄膜のパルスレーザー堆積法又は高周波スパッタ法を用いる気相成膜方法において，該酸化物の多結晶をターゲットとして，基板の温度は意図的に加温しない状態で，電気抵抗を高めるための不純物イオンを意図的に薄膜に添加せずに，酸素ガスを含む雰囲気中で基板上に薄膜を堆積させる際に，成膜した薄膜の室温での電子キャリヤ濃度が１０１６／ｃｍ３以下となる大きさに酸素分圧の大きさを制御することによって，室温での電子移動度が０．１ｃｍ２／（Ｖ・秒）以上，かつ電子キャリヤ濃度が１０１６／ｃｍ３以下である半絶縁性である透明Ｉｎ－Ｇａ－Ｚｎ－Ｏ薄膜を成膜することを特徴とするアモルファス酸化物薄膜の気相成膜方法，である。
【００１０】薄膜トランジスタのチャネル層としては，電子キャリア濃度が，１０１８／ｃｍ３未満であるアモルファス酸化物を用いることができるが，電子キャリア濃度が，１０１７／ｃｍ３以下が好ましく，あるいは１０１６／ｃｍ３以下のアモルファス酸化物であることがさらに好ましい。また，本発明の方法により，電子キャリア濃度が増加すると共に，電子移動度が増加することを特徴とするアモルファス酸化物を成膜できる。また，本発明の方法により，縮退伝導を示すアモルファス酸化物を成膜できる。なお，ここでの縮退伝導とは，電気抵抗の温度依存性における熱活性化エネルギーが，３０ｍｅＶ以下の状態をいう。


【００１４】本発明の方法により，上記アモルファス酸化物をチャネル層に用いた電界効果型トランジスタを製作できる。前記電界効果型トランジスタは，Ａｌ２Ｏ３，Ｙ２Ｏ３，又はＨｆＯ２の１種，又はそれらの化合物を少なくとも二種含む混晶化合物をゲート絶縁層とすることができる。
【００１８】本発明の成膜方法で得られるアモルファス酸化物をチャネル層に用いた薄膜トランジスタは，ソース電極，ドレイン電極，ゲート電極，ゲート絶縁膜，及びチャネル層を備え，前記チャネル層に，電子キャリア濃度が１０１６／ｃｍ３以下であるアモルファス酸化物が用いられている。
【００２０】また，本発明の方法により，薄膜トランジスタに，前記アモルファス酸化物として，電子キャリア濃度が増加すると共に，電子移動度が増加する材料を用いることができる。
【００２１】本発明によれば，電子キャリア濃度が低い，アモルファス酸化物が提供できるとともに，それをチャネル層に用いた薄膜トランジスタの提供が可能となる。
オ実施例
(ア)実施例１（ＰＬＤ法によるアモルファスＩｎ－Ｇａ－Ｚｎ－Ｏ薄膜の作製）
【００４４】図７に示すようなＰＬＤ成膜装置を用いて，成膜を行った。同図において，７０１はＲＰ（ロータリーポンプ），７０２はＴＭＰ（ターボ分子ポンプ），７０３は準備室，７０４はＲＨＥＥＤ用電子銃，７０５は基板を回転，上下移動するための基板保持手段，７０６はレーザー入射窓，７０７は基板，７０８はターゲット，７０９はラジカル源，７１０はガス導入口，７１１はターゲットを回転，上下移動するためのターゲット保持手段，７１２はバイパスライン，７１３はメインライン，７１４はＴＭＰ（ターボ分子ポンプ），７１５はＲＰ（ロータリーポンプ），７１６はチタンゲッターポンプ，７１７はシャッターである。また，図中７１８はＩＧ（イオン真空計），７１９はＰＧ（ピラニ真空計），７２０はＢＧ（バラトロン真空計），７２１は成長室（チャンバー）である。【００４５】ＫｒＦエキシマレーザーを用いたパルスレーザー蒸着法により，ＳｉＯ２ガラス基板（コーニング社製１７３７）上にＩｎ－Ｇａ－Ｚｎ－Ｏ系アモルファス酸化物半導体薄膜を堆積させた。堆積前の処理として，基板の超音波による脱脂洗浄を，アセトン,エタノール,超純水を用いて，各５分間行った後，空気中１００℃で乾燥させた。
【００４６】前記多結晶ターゲットには，ＩｎＧａＯ３（ＺｎＯ）４焼結体ターゲット（サイズ２０ｍｍΦ５ｍｍｔ）を用いた。これは，出発原料として，Ｉｎ２Ｏ３：Ｇａ２Ｏ３：ＺｎＯ（各４Ｎ試薬）を湿式混合した後(溶媒：エタノール)，仮焼（１０００℃：２ｈ），乾式粉砕，本焼結（１５５０℃：２ｈ）)を経て得られるものである。こうして作製したターゲットの電気伝導度は，９０(Ｓ／ｃｍ)であった。【００４７】成長室の到達真空を２×１０－６（Ｐａ）にして，成長中の酸素分圧を６．５（Ｐａ）に制御して成膜を行った。チャンバー７２１内酸素分圧は６．５Ｐａ，基板温度は２５℃である。なお，ターゲット７０８と被成膜基板７０７間の距離は，３０（ｍｍ）であり，入射窓７１６から入射されるＫｒＦエキシマレーザーのパワーは，１．５－３（ｍＪ／ｃｍ２／ｐｕｌｓｅ）の範囲である。また，パルス幅は，２０（ｎｓｅｃ)，繰り返し周波数は１０（Ｈｚ），そして照射スポット径は，１×１（ｍｍ角）とした。こうして，成膜レート７(ｎｍ／ｍｉｎ）で成膜を行った。
【００４８】得られた薄膜について，薄膜のすれすれ入射Ｘ線回折（薄膜法，入射角０．５度）を行ったところ，明瞭な回折ピークは認められなかったことから，作製したＩｎ－Ｇａ－Ｚｎ－Ｏ系薄膜はアモルファスであるといえる。さらに，Ｘ線反射率測定を行い，パターンの解析を行った結果，薄膜の平均二乗粗さ（Ｒｒｍｓ）は約０．５ｎｍであり，膜厚は約１２０ｎｍであることが分かった。蛍光Ｘ線（ＸＲＦ）分析の結果，薄膜の金属組成比はＩｎ：Ｇａ：Ｚｎ＝０．９８：１．０２：４であった。電気伝導度は，約１０－２Ｓ／ｃｍ未満であった。電子キャリア濃度は約１０１６/ｃｍ３以下，電子移動度は約５ｃｍ２／（Ｖ・秒）と推定される。【００４９】光吸収スペクトルの解析から，作製したアモルファス薄膜の禁制帯エネルギー幅は，約３ｅＶと求まった。以上のことから，作製したＩｎ－Ｇａ－Ｚｎ－Ｏ系薄膜は，結晶のＩｎＧａＯ３（ＺｎＯ）４の組成に近いアモルファス相を呈しており，酸素欠損が少なく，電気伝導度が小さな透明な平坦薄膜であることが分かった。
【００５０】具体的に図１を用いて説明する。同図は，Ｉｎ－Ｇａ－Ｚｎ－Ｏから構成され，結晶状態を仮定した時の組成がＩｎＧａＯ３（ＺｎＯ）ｍ(ｍは６未満の数)で表される透明アモルファス酸化物薄膜を本実施例と同じ条件下で作成する場合に，酸素分圧を変化させた場合に，成膜された酸化物の電子キャリア濃度の変化を示したものである。


【００５１】本実施例と同じ条件下で酸素分圧を４．５Ｐａ超の高い雰囲気中で，成膜することにより，図１に示すように，電子キャリア濃度を１０１８／ｃｍ３未満に低下させることができた。この場合，基板の温度は意図的に加温しない状態で，ほぼ室温に維持されている。フレキシブルなプラスチックフィルムを基板として使用するには，基板温度は１００℃未満に保つことが好ましい。【００５２】酸素分圧をさらに大きくすると，電子キャリア濃度をさらに低下させることができる。例えば，図１に示す様に，基板温度２５℃，酸素分圧５Ｐａで成膜したＩｎＧａＯ３（ＺｎＯ）４薄膜では，さらに，電子キャリア濃度を１０１６／
ｃｍ
３に低下させることができた。
【００５３】得られた薄膜は，図２に示す様に，電子移動度が１ｃｍ２／（Ｖ・秒）超であった。しかし，本実施例のパルスレーザー蒸着法では，酸素分圧を６．５Ｐａ以上にすると，堆積した膜の表面が凸凹となり，ＴＦＴのチャネル層として用いることが困難となる。従って，酸素分圧を望ましくは５Ｐａ超，６．５Ｐａ未満の雰囲気で，パルスレーザー蒸着法で作製したＩｎ－Ｇａ－Ｚｎ－Ｏから構成され，結晶状態における組成ＩｎＧａＯ３（ＺｎＯ）ｍ（ｍは６未満の数）で表される透明アモルファス酸化物薄膜を用いれば，ノーマリーオフのトランジスタを構成することができる。
【００５４】また，該薄膜の電子移動度は，１ｃｍ２／Ｖ・秒超が得られ，オン・オフ比を１０３超に大きくすることができた。以上，説明したように，本実施例に示した条件下でＰＬＤ法によりＩｎＧａＺｎ酸化物の成膜を行う場合は，酸素分圧を５Ｐａ以上６．５Ｐａ未満になるように制御することが望ましい。なお，電子キャ
リア濃度を１０
１６／ｃｍ３を実現するためには，酸素分圧の条件，成膜装置の構成や，成膜する材料や組成などに依存する。
(イ)実施例２（ＰＬＤ法によるアモルファスＩｎＧａＯ３（ＺｎＯ）及びＩｎＧａＯ３（ＺｎＯ）４酸化物膜の成膜）
【００５５】ＫｒＦエキシマレーザーを用いたＰＬＤ法により，ＩｎＧａＯ３（ＺｎＯ）及びＩｎＧａＯ３（ＺｎＯ）４組成を有する多結晶焼結体をそれぞれターゲットとして，ガラス基板（コーニング社製１７３７）上にＩｎ－Ｚｎ－Ｇａ－Ｏ系アモルファス酸化物膜を堆積させた。ＰＬＤ成膜装置は，実施例１で示したものを用い，成膜条件は上記と同様とした。基板温度は２５℃で成膜を行った。【００５６】得られた膜に関し，膜面にすれすれ入射Ｘ線回折（薄膜法，入射角０．５度）を行ったところ，明瞭な回折ピークは検出されず，２種類のターゲットから作製したＩｎ－Ｚｎ－Ｇａ－Ｏ系膜は，いずれもアモルファス膜であることが示された。
【００５７】さらに，ガラス基板上のＩｎ－Ｚｎ－Ｇａ－Ｏ系アモルファス酸化物膜のＸ線反射率測定を行い，パターンの解析を行った結果，薄膜の平均二乗粗さ（Ｒｒｍｓ）は約０．５ｎｍであり，膜厚は約１２０ｎｍであることが分かった。蛍光Ｘ線（ＸＲＦ）分析の結果，ＩｎＧａＯ３（ＺｎＯ）組成を有する多結晶焼結体をターゲットとして得られた膜の金属原子組成比はＩｎ：Ｇａ：Ｚｎ＝１．１：１．１：０．９であった。また，ＩｎＧａＯ３（ＺｎＯ）４組成を有する多結晶焼結体をターゲットとして得られた膜の金属原子組成比は，Ｉｎ：Ｇａ：Ｚｎ＝０．９８：１．０２：４であった。
【００５８】成膜時の雰囲気の酸素分圧を変化させ，ＩｎＧａＯ３（ＺｎＯ）４組成を有する多結晶焼結体をターゲットとして得られたアモルファス酸化物膜の電子キャリア濃度を測定した。その結果を図１に示す。酸素分圧が４．５Ｐａ超の雰囲気中で成膜することにより，電子キャリア濃度を１０１８／ｃｍ３未満に低下させることができた。この場合，基板の温度は意図的に加温しない状態でほぼ室温に維持されている。また，酸素分圧が６．５Ｐａ未満の時は，得られたアモルファス酸化物膜の表面は平坦であった。
【００５９】酸素分圧が５Ｐａの時，ＩｎＧａＯ３（ＺｎＯ）４組成を有する多結晶焼結体をターゲットとして得られたアモルファス酸化膜の電子キャリア濃度は１０１６／ｃｍ３，電気伝導度は，１０－２Ｓ／ｃｍであった。また，電子移動度は，約５ｃｍ２／Ｖ・秒と推測された。光吸収スペクトルの解析から，作製したアモルファス酸化物膜の禁制帯エネルギー幅は，約３ｅＶと求まった。酸素分圧を５Ｐａからさらに大きくすると，電子キャリア濃度を１０１６／ｃｍ３よりもさらに低下させることができた。
【００６０】図１に示す様に，基板温度２５℃，酸素分圧６Ｐａで成膜したＩｎ－Ｚｎ－Ｇａ－Ｏ系アモルファス酸化物膜では，電子キャリア濃度を８×１０１５／
ｃｍ
３（電気伝導度：約８×１０
－３Ｓ／ｃｍ）に低下させることができた。得られた