Règlement (CE) n o  394/2006 du Conseil du  27 février 2006  portant modification et mise à jour du règlement (CE) n o  1334/2000 instituant un régime communautaire de contrôles des exportations de biens et technologies à double usage
2006 NL Publicatieblad van de Europese Unie L 74/75 2B009 (vervolg) NB: ZIE OOK 2B109 EN 2B209 a. twee of meer bestuurde assen waarvan er minstens twee gelijktijdig kunnen samenwerken voor ΄΄con- tourbesturen΄΄; en b. een walskracht van meer dan 60 kN. Technische noot: Machines die de functies van forceren en vloeidraaien combineren, worden voor de toepassing van 2B009 beschouwd als vloeidraaibanken. 2B104 ΄΄Isostatische persen΄΄, anders dan bedoeld in 2B004, met alle volgende eigenschappen: NB: ZIE OOK 2B204 a. een maximale werkdruk van 69 MPa of meer; b. ontworpen om een beheerste temperatuur van 873 K (600 °C) of meer te handhaven; en c. met een binnenkamerdiameter van 254 mm of meer. 2B105 2B109 Ovens voor chemische afzetting uit de dampfase (CVD), anders dan bedoeld in 2B005. a, ontworpen of aangepast voor het verdichten van koolstof-koolstofcomposieten. Vloeidraaibanken («flow-forming-machines») die niet onder 2B009 vallen, en speciaal ontworpen onder- delen, als hieronder: NB: ZIE OOK 2B2092 a. vloeidraaibanken die de volgende eigenschappen bezitten: 1. volgens de technische specificatie van de fabrikant kunnen zij worden uitgerust met ΄΄numerieke besturings΄΄-eenheden of met een computerbesturing, ook indien zij bij aflevering niet met dergelijke eenheden zijn uitgerust, en 2. meer dan twee assen die gelijktijdig kunnen samenwerken voor ΄΄contourbesturen΄΄. b. speciaal ontworpen onderdelen van in 2B009 of 2B109. a bedoelde vloeidraaibanken. Noot: In 2B109 worden niet bedoeld machines die niet kunnen worden gebruikt voor de productie van onderdelen en uitrusting (bv. motorhuizen) voor voortstuwingssystemen als bedoeld in 9A005, 9A007. a of 9A105. a. Technische noot: Machines die de functies van forceren en vloeidraaien combineren, worden voor de toepassing van 2B109 beschouwd als vloeidraaibanken. 2B116 Systemen en apparatuur voor het beproeven door middel van trillingen en componenten daarvoor, als hieronder: a. systemen voor het beproeven door middel van trillingen, waarbij gebruik wordt gemaakt van terug- koppel- of gesloten-kringtechnieken en welke een digitale besturing bevatten, die geschikt zijn om een systeem te laten trillen met een versnelling gelijk aan of groter dan 10 g RMS (eff. ) tussen 20 Hz en 2 kHz en die krachten gelijk aan of groter dan 50 kNr, met ΄onbelaste tafel΄ gemeten, kunnen overbrengen; b. digitale besturingseenheden, in combinatie met speciaal ontworpen programmatuur voor het testen door middel van trillingen, met een ΄΄real-time-bandbreedte΄΄ van meer dan 5 kHz en ontworpen voor gebruik met de systemen, bedoeld in 2B116. a; c.  trillingsopwekkers, met of zonder bijbehorende versterkers, geschikt om een kracht gelijk aan of groter dan 50 kN uit te oefenen, met ΄onbelaste tafel΄ gemeten, en geschikt voor de systemen, bedoeld in 2B116. a; d. beproevingsopstellingen en elektronische eenheden ontworpen om verscheidene trillingsopwekkers in een geheel trillingssysteem te combineren, geschikt om een totale effectieve kracht gelijk aan of groter dan 50 kN uit te oefenen, met een ΄onbelaste tafel΄ gemeten, en geschikt voor de systemen, bedoeld in 2B116. a. Technische noot: In 2B116 betekent ΄onbelaste tafel΄ een vlakke tafel of een vlak oppervlak, zonder klemmen of hulpstukken. 2B117 Apparatuur en procesregeleenheden, met uitzondering van die bedoeld in 2B004, 2B005. a, 2B104 of 2B105, ontworpen of aangepast voor de verdichting en pyrolyse van composiet raketstraalpijpen en neuskegels voor terugkeervoertuigen («re-entry»). 2B119 Balanceermachines en aanverwante uitrusting, als hieronder: NB: ZIE OOK 2B219 L 74/76 NL Publicatieblad van de Europese Unie 13. 3. 2006 2B119 (vervolg) a. balanceermachines die alle navolgende eigenschappen bezitten: 1. niet geschikt voor het uitbalanceren van rotors/samenstellingen met een gewicht van meer dan 3 kg; 2. geschikt voor het uitbalanceren van rotors/samenstellingen bij een omwentelingssnelheid hoger dan 12 500 t. p. m. ; 3. geschikt voor het corrigeren van onbalans in twee of meer vlakken; en 4. geschikt voor het uitbalanceren tot op een resterende specifieke onbalans van 0,2 g mm per kg rotorgewicht; Noot: 2B119. a is niet van toepassing op balanceermachines die ontworpen of aangepast zijn voor tandheel- kundige of andere medische uitrusting. b. indicatorkoppen die zijn ontworpen of aangepast voor gebruik met de in 2B119. a aangegeven machi- nes. Technische noot: Indicatorkoppen worden soms ook balanceerinstrumenten genoemd. 2B120 Bewegingssimulatoren of kwalificatietafels die alle navolgende kenmerken hebben: a. b. c. twee of meer assen; sleepringen geschikt om elektrisch vermogen en/of signaalinformatie over te brengen; en een of meer van de navolgende kenmerken hebben: 1. voor elke aparte as alle navolgende kenmerken hebben: a. geschikt voor kwalificaties van 400 graden/s of meer, of 30 graden/s of minder; en b. een kwalificatieresolutie gelijk aan of minder dan 6 graden/s en een nauwkeurigheid gelijk aan of minder dan 0,6 graden/s; 2. met een kwalificatiestabiliteit in het slechtste geval gelijk aan of beter (minder) dan een gemiddelde afwijking van 0,05 % over ten minste 10 graden; of 3. een instelnauwkeurigheid gelijk aan of beter dan 5 boogseconden.  Noot: 2B120 is niet van toepassing op draaitafels die zijn ontworpen of aangepast voor werktuigmachines of voor medische uitrusting. Voor de controle op draaitafels voor werktuigmachines, zie 2B008. 2B121 Andere dan de in 2B120 aangegeven insteltafels (apparatuur, geschikt voor precieze roterende instelling in elke as), die alle navolgende kenmerken hebben: 2B122 2B201 a. b. twee of meer assen; en een instelnauwkeurigheid gelijk aan of beter dan 5 boogseconden. Noot: 2B121 is niet van toepassing op draaitafels die zijn ontworpen of aangepast voor werktuigmachines of medische uitrusting. Voor de controle op draaitafels voor werktuigmachines, zie 2B008. Centrifuges die versnellingen van meer dan 100 g kunnen overbrengen en sleepringen bezitten die elek- trisch vermogen en signaalinformatie kunnen overbrengen. Werktuigmachines en iedere andere combinatie daarvan, anders dan bedoeld in 2B001, voor het verspanen of snijden van metalen, keramische materialen of ΄΄composieten΄΄, die volgens de technische specificaties van de fabrikant kunnen worden uitgerust met elektronische toestellen voor gelijktijdig ΄΄contourbesturen΄΄ in twee of meer assen, als hieronder: a. werktuigmachines voor frezen met een of meer van de volgende eigenschappen: 1. een instelnauwkeurigheid, ΄΄inclusief alle compensaties΄΄, die gelijk is aan of kleiner (d. w. z. nauw- keuriger) is dan 6 micrometer overeenkomstig ISO-norm 230/2 (1988) (1) of nationale equivalenten langs elke lineaire as; of 2. twee of meer roterende contourassen; Noot: 2B201. a is niet van toepassing op werktuigmachines voor frezen met de volgende kenmerken: a. axiale verplaatsing langs de x-as groter dan 2 meter; en b. totale instelnauwkeurigheid langs de x-as groter (slechter) dan 30 micrometer; (1) Fabrikanten die instelnauwkeurigheden berekenen overeenkomstig ISO 230/2 (1997) dienen overleg te plegen met de bevoegde autoriteiten van de lidstaat waarin ze gevestigd zijn. 13. 3. 2006 NL Publicatieblad van de Europese Unie L 74/77 2B201 (vervolg) b. werktuigmachines voor slijpen, met een van de volgende kenmerken: 1. een instelnauwkeurigheid, ΄΄inclusief alle compensaties΄΄, die gelijk is aan of kleiner (d. w. z. nauw- keuriger) is dan 4 micrometer overeenkomstig ISO-norm 230/2 (1988) (1) of nationale equivalenten langs elke lineaire as; of 2. twee of meer roterende contourassen; Noot: 2B201. b is niet van toepassing op de volgende werktuigmachines voor slijpen: a. uitwendige, inwendige en uitwendig-inwendige rondslijpmachines met de volgende kenmerken: 1. beperkt tot een maximale buitendiameter of lengte van het werkstuk van 150 mm; en 2. assen beperkt tot x, z en c; b. Pasmal-slijpmachines zonder z-as of w-as, met een totale instelnauwkeurigheid die kleiner (d. w. z.  nauwkeuriger) is dan 4 μm overeenkomstig ISO-norm 230/2 (1988) (1) of nationale equivalenten. Noot 1: In 2B201 zijn niet bedoeld werktuigmachines voor speciale toepassingen die alleen dienen voor het vervaardigen van een van de volgende onderdelen: a. tandwielen; b. krukassen of nokkenassen; c. gereedschappen of frezen; d. extrusiewormen. Noot 2: Werktuigmachines met ten minste twee van de drie volgende gebruiksmogelijkheden: draaien, frezen of slijpen (bv. een machine voor draaien waarmee ook kan worden gefreesd) moeten op basis van iedere toepasselijke rubriek 2B001. a of 2B201. a. of b. worden beoordeeld. 2B204 ΄΄Isostatische persen΄΄, anders dan bedoeld in 2B004 of 2B104 en bijbehorende apparatuur, als hieronder: a. ΄΄isostatische persen΄΄ met beide volgende kenmerken: 1. geschikt voor een maximale werkdruk van 69 MPa of meer; en 2. met een drukkamerholte met een binnendiameter van meer dan 152 mm; b. matrijzen, mallen en regelapparatuur, speciaal ontworpen voor ΄΄isostatische persen΄΄, bedoeld in 2B204. a. Technische noot: In 2B204 betreft de binnenmaat de kamer waarin zowel de werktemperatuur als de werkdruk tot stand komen en zij omvat geen spanstukken. Deze maat is gelijk aan de kleinste van ofwel de binnendiameter van de drukkamer ofwel de binnendiameter van de geïsoleerde ovenkamer, afhankelijk van het feit welke van de twee kamers zich in de andere bevindt. 2B206 Niet onder 2B006 opgenomen meetmachines, -instrumenten of -systemen, als hieronder: a. computergestuurde of numeriek bestuurde meetmachines met beide volgende kenmerken: 1. twee of meer assen; en 2. een eendimensionale ΄΄meetonzekerheid΄΄ gelijk aan of kleiner (nauwkeuriger) dan (1,25 + L/1 000) micrometer, getest met een sonde met een ΄΄nauwkeurigheid΄΄ kleiner (nauwkeuriger) dan 0,2 mi- crometer (L is de gemeten lengte in mm) (ref. VDI/VDE 2617 delen 1 en 2); b. systemen voor het gelijktijdig testen van lineaire en hoekverplaatsingen van halve bolmantels, met beide volgende kenmerken: 1. ΄΄meetonzekerheid΄΄ langs elke lineaire as gelijk aan of minder (d. w. z. nauwkeuriger) dan 3,5 micro- meter per 5 mm; en 2. ΄΄hoekafwijking΄΄ gelijk aan of minder (d. w. z. nauwkeuriger) dan 0,02°. Noot 1: Werktuigmachines, geschikt voor gebruik als meettoestel, worden bedoeld indien hun prestaties gelijk zijn aan of beter zijn dan de criteria neergelegd voor de werktuigmachinefunctie of de meettoestelfunctie. Noot 2: Indien een machine als omschreven in 2B206 op enig punt in haar werkbereik de limieten overschrijdt, wordt de machine bedoeld.  (1) Fabrikanten die instelnauwkeurigheden berekenen overeenkomstig ISO 230/2 (1997) dienen overleg te plegen met de bevoegde autoriteiten van de lidstaat waarin ze gevestigd zijn. L 74/78 NL Publicatieblad van de Europese Unie 13. 3. 2006 2B206 (vervolg) 2B207 Technische noten: 1. De bij de bepaling van de ΄΄meetonzekerheid΄΄ van een maatinspectiesysteem gebruikte sonde dient te voldoen aan de omschrijving in VDI/VDE 2617, delen 2, 3 en 4. 2. Alle parameters van meetwaarden in 2B206 vertegenwoordigen plus/minuswaarden, niet het totale meetbereik. ΄΄Robots΄΄, ΄΄eindeffectoren΄΄ en besturingseenheden, anders dan bedoeld in 2B007, als hierna vermeld: a. ΄΄robots΄΄ of ΄΄eindeffectoren΄΄, speciaal ontworpen volgens nationale veiligheidsnormen die gelden voor het hanteren van brisante springstoffen (bijvoorbeeld volgens elektrische normen voor brisante spring- stoffen); b. besturingseenheden, speciaal ontworpen voor de in 2B207. a vermelde ΄΄robots΄΄ of ΄΄eindeffectoren΄΄. 2B209 Vloei- («flow-forming»)draaibanken, forceer- («spin-forming»)draaibanken die vloeidraaifuncties kunnen ver- richten, anders dan bedoeld in 2B009 of 2B109, en spillen, als hieronder: a. machines met beide volgende kenmerken: 1. drie of meer rollen (actieve of leirollen); en 2. volgens de technische specificatie van de fabrikant uitgerust kunnen worden met ΄΄numerieke bestu- rings΄΄-eenheden of computerbesturing; b. spillen voor het precisievormgeven van rotoren, ontworpen voor het vormen van cilindrische rotoren met een binnendiameter van 75 mm-400 mm. Noot: 2B209. a omvat machines die slechts één enkele rol hebben die ontworpen is om metaal te vervormen, plus twee hulprollen ter ondersteuning van de spil, die echter niet rechtstreeks deelnemen aan het vervormingsproces. 2B219 Centrifugale balanceermachines voor het uitbalanceren in verscheidene vlakken, vast of draagbaar, horizon- taal of verticaal, als hieronder: a. centrifugale balanceermachines ontworpen voor het uitbalanceren van flexibele rotors met een lengte van 600 mm of meer en met alle volgende kenmerken: 1. een nuttige of tapdiameter groter dan 75 mm; 2. geschikt voor een massa van 0,9 tot 23 kg; en 3. geschikt voor het uitbalanceren bij een omwentelingssnelheid hoger dan 5 000 t. p. m. ; b. centrifugale balanceermachines ontworpen voor het uitbalanceren van holle cilindrische rotoronderde- len en met alle volgende kenmerken: 1. een tapdiameter groter dan 75 mm; 2. geschikt voor een massa van 0,9 tot 23 kg; 3. geschikt voor het uitbalanceren tot op een resterende onbalans van 0,01 kg × mm/kg per vlak of nauwkeuriger; en 4. van het type met riemaandrijving.  2B225 Op afstand bediende manipulatoren die kunnen worden aangewend voor het doen verrichten van han- delingen op afstand bij radiochemische scheidingswerkingen of in hete cellen, met een van de volgende kenmerken: a. geschikt om te werken bij een hete-celwand met een dikte van 0,6 m of meer (opereren door de wand heen); of b. geschikt om de afstand over de bovenkant van een hete-celwand met een dikte van 0,6 m of meer te overbruggen (opereren over de wand heen). Technische noot: Op afstand bediende manipulatoren zorgen voor het mechanisch overbrengen van handelingen van een bediener naar een bedieningsarm en eindklem. Deze kunnen van het zgn. meester/slaaf-type zijn of worden bediend via een joystick of een toetsenbord. 2B226 Inductieovens, werkend met beheerste atmosfeer (vacuüm of inert gas) en stroombronnen daarvoor, als hieronder: NB: ZIE OOK 3B a. ovens met alle volgende kenmerken: 1. geschikt voor werktemperaturen hoger dan 1 123 K (850 °C); 2. met inductiespoelen met een diameter van 600 mm of minder; en 3. ontworpen voor een ingaand vermogen van 5 kW of meer; 13. 3. 2006 NL Publicatieblad van de Europese Unie L 74/79 2B226 (vervolg) b. speciaal voor in 2B226. a omschreven inductieovens ontworpen stroombronnen met een opgegeven vermogen van 5 kW of meer. Noot: Ovens, ontworpen voor het bewerken van halfgeleiderplakken («wafers») zijn niet bedoeld in 2B226. a. 2B227 Metallurgische smelt- en gietovens met vacuüm of op een andere wijze beheerste atmosfeer en bijbeho- rende apparatuur, als hieronder: a. vlamboogovens voor hersmelten en gieten met beide volgende kenmerken: 1. met een verbruikscapaciteit van de elektrode tussen 1 000 en 20 000 cm3; en 2. geschikt om te werken bij een smelttemperatuur hoger dan 1 973 K (1 700 °C); b. ovens voor het smelten met elektronenstralen en ovens voor het verstuiven en smelten met een plasma met beide volgende kenmerken: 1. een vermogen van 50 kW of meer; en 2. geschikt om te werken bij een smelttemperatuur hoger dan 1 473 K (1 200 °C); c. computersystemen voor besturing en controle, speciaal geconfigureerd voor de in 2B227. a en 2B227. b bedoelde ovens. 2B228 Apparatuur voor de vervaardiging of assemblage van rotoren, rotorrichtapparatuur, spillen en matrijzen voor het vormen van balgen, als hieronder: a. rotorassemblageapparatuur voor de assemblage van rotorbuisdelen, schijven en deksels van gascentri- fuges; Noot: 2B228. a omvat zeer nauwkeurige spillen, klemmen en machines voor krimppassen; b.  rotorrichtapparatuur voor het richten van de rotorbuisdelen van een gascentrifuge ten opzichte van een gemeenschappelijke as; Technische noot: Gewoonlijk bestaat de apparatuur in 2B228. b uit zeer nauwkeurige meetsondes gekoppeld aan een computer die vervolgens de werking van bijvoorbeeld de voor het richten van de rotorbuisdelen gebruikte pneumatische plunjers bestuurt. c. balgvormende spillen en matrijzen voor de productie van balgen met een enkele winding. Technische noot: De in 2B228. c bedoelde balgen hebben alle volgende kenmerken: 1. binnendiameter van 75 mm tot 400 mm, 2. lengte van 12,7 mm of meer, 3. dikte van de enkele winding groter dan 2 mm; en 4. vervaardigd van aluminiumlegeringen met een hoge sterkte, maragingstaal of ΄΄stapel- en continuvezelmate- riaal΄΄ met een hoge sterkte. 2B230 ΄΄Drukomzetters΄΄, geschikt voor het meten van de absolute druk op elk punt in het traject van 0 tot en met 13 kPa, met beide hiernavolgende kenmerken: a. drukopneemelementen vervaardigd van of beschermd door aluminium, aluminiumlegeringen, nikkel of nikkellegeringen met meer dan 60 gewichtspercenten nikkel, en b. een van de twee hiernavolgende kenmerken: 1. een volledig bereik van minder dan 13 kPa en een ΄nauwkeurigheid΄ beter dan ± 1 % over het gehele bereik; of 2. een volledig bereik van 13 kPa of groter en een ΄nauwkeurigheid΄ beter dan ± 130 Pa. Technische noot: Voor de toepassing van 2B230 houdt ΄nauwkeurigheid΄ in non-lineariteit, hysteresis en herhaalbaarheid bij omge- vingstemperatuur. 2B231 Vacuümpompen met alle volgende kenmerken: a. een toevoerhals van 380 mm of groter; b. een pompsnelheid van 15 000 liter/seconde of meer; en c. geschikt voor het bereiken van een maximale onderdruk beter dan 13 mPa. Technische noten: 1. De pompsnelheid wordt bepaald op het meetpunt met stikstofgas of lucht. 2. De maximale onderdruk wordt berekend aan de invoerzijde van de pomp terwijl de invoer van de pomp is afgesloten. 2B232 Meertrapskanonnen voor lichte gassen of andere kanonsystemen voor hoge snelheden (spoel-elektromag- netische en thermo-elektrische types en andere geavanceerde systemen) die projectielen kunnen versnellen tot een snelheid van 2 km per seconde of meer. L 74/80 NL Publicatieblad van de Europese Unie 13. 3. 2006 2B350 Chemische productieapparatuur en onderdelen daarvan, als hieronder: a.  reactorvaten of reactors, met of zonder roerwerk, met een totaal inwendig (geometrisch) volume van meer dan 0,1 m3 (100 liter) en minder dan 20 m3 (20 000 liter), waarvan alle oppervlakken die in direct contact komen met de chemicaliën die worden verwerkt of zijn opgeslagen, gemaakt zijn van een of meer van de volgende materialen: 1. legeringen met meer dan 25 gewichtspercenten nikkel en meer dan 20 gewichtspercenten chroom; 2. fluorpolymeren; 3. glas, met inbegrip van verglaasde of geëmailleerde lagen of glasbekleding («lining»); 4. nikkel of legeringen die meer dan 40 gewichtspercenten nikkel bevatten; 5. tantaal of tantaallegeringen; 6. titaan of titaanlegeringen; of 7. zirkonium of zirkoniumlegeringen; b. roerwerken voor gebruik in reactorvaten of reactors als aangegeven in 2B350. a, en voor gebruik in dergelijke roerwerken ontworpen schoepen, bladen en assen, waarvan alle oppervlakken die in direct contact komen met de chemicaliën die worden verwerkt of zijn opgeslagen, gemaakt zijn van een of meer van de volgende materialen: 1. legeringen met meer dan 25 gewichtspercenten nikkel en meer dan 20 gewichtspercenten chroom; 2. fluorpolymeren; 3. glas, met inbegrip van verglaasde of geëmailleerde lagen of glasbekleding («lining»); 4. nikkel of legeringen die meer dan 40 gewichtspercenten nikkel bevatten; 5. tantaal of tantaallegeringen; 6. titaan of titaanlegeringen; of 7. zirkonium of zirkoniumlegeringen; c. opslagtanks en vaten met een totaal inwendig (geometrisch) volume van meer dan 0,1 m3 (100 l), waarvan alle oppervlakken die in direct contact komen met de chemicaliën die worden verwerkt of zijn opgeslagen, gemaakt zijn van een of meer van de volgende materialen: 1. legeringen met meer dan 25 gewichtspercenten nikkel en meer dan 20 gewichtspercenten chroom; 2. fluorpolymeren; 3. glas, met inbegrip van verglaasde of geëmailleerde lagen of glasbekleding («lining»); 4. nikkel of legeringen die meer dan 40 gewichtspercenten nikkel bevatten; 5. tantaal of tantaallegeringen; 6. titaan of titaanlegeringen; of 7. zirkonium of zirkoniumlegeringen; d. warmtewisselaars of condensors met een warmte-uitwisseloppervlak van meer dan 0,15 m2 en minder dan 20 m2, en voor gebruik in dergelijke warmtewisselaars of condensors ontworpen buizen, platen, spoelen of blokken (kernen), waarvan alle oppervlakken die in direct contact komen met de chemica- liën die worden verwerkt, gemaakt zijn van een of meer van de volgende materialen: 1. 2. 3. 4. legeringen met meer dan 25 gewichtspercenten nikkel en meer dan 20 gewichtspercenten chroom; fluorpolymeren; glas, met inbegrip van verglaasde of geëmailleerde lagen of glasbekleding («lining»); grafiet of ΄΄koolstofgrafiet΄΄; 5.  nikkel of legeringen die meer dan 40 gewichtspercenten nikkel bevatten; 6. 7. 8. 9. tantaal of tantaallegeringen; titaan of titaanlegeringen; zirkonium of zirkoniumlegeringen; siliciumcarbide; of 13. 3. 2006 NL Publicatieblad van de Europese Unie L 74/81 2B350 d. (vervolg) 10. titaancarbide; e. distillatiekolommen of absorptiekolommen met een inwendige diameter van meer dan 0,1 m, en voor gebruik in dergelijke distillatiekolommen of absorptiekolommen ontworpen vloeistofverdelers, damp- verdelers of vloeistofcollectoren, waarvan alle oppervlakken die in direct contact komen met de che- micaliën die worden verwerkt, gemaakt zijn van een of meer van de volgende materialen: 1. legeringen met meer dan 25 gewichtspercenten nikkel en meer dan 20 gewichtspercenten chroom; 2. fluorpolymeren; 3. glas, met inbegrip van verglaasde of geëmailleerde lagen of glasbekleding («lining»); 4. grafiet of ΄΄koolstofgrafiet΄΄; 5. nikkel of legeringen die meer dan 40 gewichtspercenten nikkel bevatten; 6. tantaal of tantaallegeringen; 7. titaan of titaanlegeringen; of 8. zirkonium of zirkoniumlegeringen; f. op afstand bedienbare vulapparatuur waarvan alle oppervlakken die in direct contact komen met de chemicaliën die worden verwerkt, gemaakt zijn van een of meer van de volgende materialen: 1. legeringen met meer dan 25 gewichtspercenten nikkel en meer dan 20 gewichtspercenten chroom; of 2. nikkel of legeringen die meer dan 40 gewichtspercenten nikkel bevatten; g. kleppen met een nominale afmeting van meer dan 10 mm en de voor die kleppen ontworpen om- hulsels (klephuizen) of voorgevormde binnenbekledingen, waarvan alle oppervlakken die in direct contact komen met de chemicaliën die worden verwerkt of zijn opgeslagen, gemaakt zijn van een of meer van de volgende materialen: 1. legeringen met meer dan 25 gewichtspercenten nikkel en meer dan 20 gewichtspercenten chroom; 2. fluorpolymeren; 3. glas, met inbegrip van verglaasde of geëmailleerde lagen of glasbekleding («lining»); 4. nikkel of legeringen die meer dan 40 gewichtspercenten nikkel bevatten; 5. tantaal of tantaallegeringen; 6. titaan of titaanlegeringen; of 7. zirkonium of zirkoniumlegeringen; h. dubbelwandige buizen met een lektestaansluiting, waarvan alle oppervlakken die in direct contact komen met de chemicaliën die worden verwerkt of zijn opgeslagen, gemaakt zijn van een of meer van de volgende materialen: 1. legeringen met meer dan 25 gewichtspercenten nikkel en meer dan 20 gewichtspercenten chroom; 2. fluorpolymeren; 3. glas, met inbegrip van verglaasde of geëmailleerde lagen of glasbekleding («lining»); 4. grafiet of ΄΄koolstofgrafiet΄΄; 5. nikkel of legeringen die meer dan 40 gewichtspercenten nikkel bevatten; 6. tantaal of tantaallegeringen; 7. titaan of titaanlegeringen; of 8. zirkonium of zirkoniumlegeringen; i.  pompen met meervoudige afdichting en pompen zonder afdichting, met door de fabrikant opgegeven maximale pompsnelheid van meer dan 0,6 m3 per uur, of vacuümpompen met door de fabrikant opgegeven maximale pompsnelheid van meer dan 5 m3 per uur bij standaardtemperatuur (273 K (0 °C)) en druk (101,3 kPa), en voor gebruik in dergelijke pompen ontworpen omhulsels (pomphuizen), voorgevormde binnenbekledingen, schoepen, vleugelraderen of straalpompverdeelstukken, waarvan alle oppervlakken die in direct contact komen met de chemicaliën die worden verwerkt, gemaakt zijn van een of meer van de volgende materialen: 1. 2. 3. 4. legeringen met meer dan 25 gewichtspercenten nikkel en meer dan 20 gewichtspercenten chroom; keramiek; ferrosilicium; fluorpolymeren; L 74/82 NL Publicatieblad van de Europese Unie 13. 3. 2006 2B350 i. (vervolg) 5. 6. glas, met inbegrip van verglaasde of geëmailleerde lagen of glasbekleding («lining»); grafiet of ΄΄koolstofgrafiet΄΄; 7. nikkel of legeringen die meer dan 40 gewichtspercenten nikkel bevatten; 8. 9. tantaal of tantaallegeringen; titaan of titaanlegeringen; of 10. zirkonium of zirkoniumlegeringen; j. verbrandingsovens ontworpen om chemicaliën bedoeld in 1C350 te vernietigen, met speciaal ontwor- pen afvaltoevoersystemen en speciale transportfaciliteiten en een gemiddelde verbrandingskamertempe- ratuur van meer dan 1 273 K (1 000 oC), waarvan alle oppervlakken van het afvaltoevoersysteem die in direct contact komen met de afvalproducten, gemaakt zijn van of bekleed zijn met een of meer van de volgende materialen: 1. legeringen met meer dan 25 gewichtspercenten nikkel en meer dan 20 gewichtspercenten chroom; 2. keramiek; of 3. nikkel of legeringen die meer dan 40 gewichtspercenten nikkel bevatten. Technische noot: ΄΄Koolstofgrafiet΄΄ is een composiet bestaande uit amorf koolstof en grafiet, met 8 of meer gewichtspercenten grafiet. 2B351 Controleapparatuur voor giftige gassen, als hieronder, vermeld en speciaal daarvoor ontworpen detectoren: a. geschikt om in continubedrijf chemische strijdgassen of chemische stoffen als bedoeld in 1C350 waar te nemen bij concentraties van minder dan 0,3 milligram per m3 lucht, of b. geschikt om cholinesteraseremmende werking waar te nemen. 2B352 Uitrusting, geschikt voor het manipuleren van biologische stoffen, als hieronder: a. complete installaties met fysische inperking van de klassen P3 en P4; Technische noot: P3- en P4- (BL3, BL4, L3, L4) inperkingsniveaus zijn gespecificeerd in de WHO Laboratory Biosafety Manual (2e editie, Genève 1993). b. fermentoren, geschikt voor het kweken van pathogene ΄΄micro-organismen΄΄ of virussen of de productie van ΄΄toxinen΄΄, zonder aërosolvorming, met een totale capaciteit van 20 liter of meer; Technische noot: Fermentoren omvatten bioreactoren, chemostaten en continustroomsystemen. c.  centrifuges, geschikt voor continu scheiden zonder aërosolvorming, met alle volgende kenmerken: 1. een doorstroomsnelheid van meer dan 100 liter per uur; 2. met componenten gemaakt van gepolijst roestvrij staal of titaan; 3. met een of meer koppelingen binnen het met stoom steriliseerbare compartiment; en 4. geschikt voor in-situ-stoomsterilisatie in afgesloten toestand; Technische noot: Met centrifuges zijn ook bedoeld decanteerflessen. d. dwars- (tangentiële) stroomfiltratieapparatuur en onderdelen, als hieronder: 1. dwars- (tangentiële) stroomfiltratieapparatuur geschikt voor het scheiden van pathogene micro-or- ganismen, virussen, toxines of celculturen zonder aërosolvorming, met beide volgende kenmerken: a. een totaal filteroppervlak van 1 m2 of meer; en b. in-situ gesteriliseerd of gedesinfecteerd kunnen worden; Technische noot: In 2B352. d. 1. b. slaat gesteriliseerd op het verwijderen van alle levensvatbare bacteriën uit de apparatuur door middel van fysieke (bv. stoom) of chemische agentia. Gedesinfecteerd betekent dat iedere mogelijke bacteriële infectiviteit in de apparatuur door middel van chemische agentia met een kiemdodende werking volledig is uitgeschakeld. Desinfectie en sterilisatie zijn te onderscheiden van reiniging, waarmee schoon- maakprocédés worden bedoeld die het bacteriële gehalte van de apparatuur verminderen zonder de bacteriële infectiviteit of levensvatbaarheid noodzakelijkerwijze volledig uit te schakelen. 13. 3. 2006 NL Publicatieblad van de Europese Unie L 74/83 2B352 d. (vervolg) 2. Onderdelen van dwars- (tangentiële) stroomfiltratieapparatuur (bv. modules, elementen, cassettes, patronen, eenheden of platen) met een filteroppervlak van 0,2 m2 of meer voor ieder onderdeel en bedoeld voor gebruik in de in 2B352 vermelde dwars- (tangentiële) stroomfiltratieapparatuur. Noot: In 2B352. d wordt niet bedoeld apparatuur voor omgekeerde osmose, zoals gespecificeerd door de fabrikant. e. vriesdroogapparatuur, geschikt voor stoomsterilisatie en met een condensorcapaciteit van meer dan 10 kg ijs per 24 uur en minder dan 1 000 kg ijs per 24 uur; f. beschermings- of insluitingsmiddelen, als hieronder: 1. pakken van het type waarbij het lichaam geheel of half wordt omsloten, of van een externe lucht- toevoer afhankelijke getuide, onder positieve druk werkende afzuigkappen Noot: Pakken die zijn ontworpen om met onafhankelijke ademhalingsapparatuur te worden gedragen, vallen niet onder 2B352. f. 1. 2. biologische veiligheidskasten van klasse III of isolerende systemen met soortgelijke werkingsnormen; Noot: De isolerende systemen in 2B352. f. 2 omvatten flexibele isolatoren, droge kasten, anaërobe kamers, handschoenkasten en afzuigkappen met laminaire stroming (gesloten met verticale stroming). g. aërosol-inhalatiekamers ontworpen voor immuniteitsonderzoek met ΄΄micro-organismen΄΄, virussen of ΄΄toxinen΄΄ met een capaciteit van 1 m3 of meer. L 74/84 NL Publicatieblad van de Europese Unie 13. 3.  2006 2C Materialen Geen. 13. 3. 2006 NL Publicatieblad van de Europese Unie L 74/85 2D 2D001 2D002 2D101 2D201 2D202 Programmatuur ΄΄Programmatuur΄΄ die verschilt van de in 2D002 bedoelde programmatuur, speciaal ontworpen of aan- gepast voor de ΄΄ontwikkeling΄΄, de ΄΄productie΄΄ of het ΄΄gebruik΄΄ van apparatuur, bedoeld in 2A001 of 2B001 t/m 2B009. ΄΄Programmatuur΄΄ voor elektronische toestellen, ook wanneer geïntegreerd in een elektronisch toestel of systeem, waardoor dergelijke toestellen of systemen kunnen functioneren als ΄΄numerieke besturings΄΄- eenheid, en geschikt om meer dan vier assen gelijktijdig te laten samenwerken voor ΄΄contourbesturen΄΄. Noot 1: 2D002 is niet van toepassing op ΄΄programmatuur΄΄ die speciaal is ontworpen of aangepast voor de bediening van werktuigmachines die niet zijn vermeld in categorie 2. Noot 2: 2D002 is niet van toepassing op ΄΄programmatuur΄΄ voor goederen die zijn vermeld in 2B002. Zie 2D001 voor programmatuur voor goederen vermeld in 2B002. ΄΄Programmatuur΄΄ speciaal ontworpen of aangepast voor het ΄΄gebruik΄΄ van apparatuur, bedoeld in 2B104, 2B105, 2B109, 2B116, 2B117 of 2B119 tot en met 2B122. Opmerking: ZIE OOK 9D004 ΄΄Programmatuur΄΄ speciaal ontworpen voor het ΄΄gebruik΄΄ van apparatuur, bedoeld in 2B204, 2B206, 2B207, 2B209, 2B219 of 2B227. ΄΄Programmatuur΄΄ speciaal ontworpen of aangepast voor de ΄΄ontwikkeling΄΄, de ΄΄productie΄΄ of het ΄΄gebruik΄΄ van apparatuur, bedoeld in 2B201. L 74/86 NL Publicatieblad van de Europese Unie 13. 3. 2006 2E 2E001 2E002 2E003 Technologie ΄΄Technologie΄΄ volgens de algemene technologienoot voor de ΄΄ontwikkeling΄΄ van apparatuur of ΄΄pro- grammatuur΄΄, bedoeld in 2A, 2B of 2D. ΄΄Technologie΄΄ volgens de algemene technologienoot voor de ΄΄productie΄΄ van apparatuur, bedoeld in 2A of 2B. Andere ΄΄technologie΄΄, als hieronder: a. ΄΄technologie΄΄ voor de ΄΄ontwikkeling΄΄ van interactieve grafische modellen als geïntegreerd onderdeel in ΄΄numerieke besturings΄΄-eenheden voor het maken of wijzigen van werkstukprogramma's; b. ΄΄technologie΄΄ voor fabricageprocessen door middel van metaalbewerking, als hieronder: 1. technologie voor het ontwerpen van gereedschappen, matrijzen en klemmen, speciaal ontworpen voor de volgende processen: a. ΄΄superplastisch vormen΄΄; b. ΄΄diffusielassen΄΄; of c. ΄΄direct hydraulisch persen΄΄; 2. technische gegevens bestaande uit procesmethoden of procesparameters als hieronder opgesomd, welke worden gebruikt voor het regelen van: a. ΄΄superplastisch vormen΄΄ van aluminium-, titaan- en ΄΄superlegeringen΄΄: 1. oppervlaktevoorbehandeling; 2. reksnelheid; 3. temperatuur; 4. druk; b. ΄΄diffusielassen΄΄ van ΄΄superlegeringen΄΄ en titaanlegeringen: 1. oppervlaktevoorbehandeling; 2. temperatuur; 3. druk; c. ΄΄direct hydraulisch persen΄΄ van aluminium en titaanlegeringen: 1. druk; 2. cyclustijd; d. ΄΄heet isostatisch verdichten΄΄ van titaan- , aluminium- en ΄΄superlegeringen΄΄: 1. temperatuur; 2. druk; 3. cyclustijd; c.  ΄΄technologie΄΄ voor de ΄΄ontwikkeling΄΄ of ΄΄productie΄΄ van machines voor hydraulisch strekvormen en matrijzen daarvoor, voor de fabricage van vliegtuigconstructies; d. ΄΄technologie΄΄ voor de ΄΄ontwikkeling΄΄ van generatoren van instructies voor werktuigmachines (bv. werkstukprogramma's) op basis van ontwerpgegevens welke aanwezig zijn in ΄΄numerieke besturings΄΄- eenheden; e. ΄΄technologie΄΄ voor de ΄΄ontwikkeling΄΄ van integratie-΄΄programmatuur΄΄ voor het inbouwen van expertsystemen in ΄΄numerieke besturings΄΄-eenheden ten behoeve van geavanceerde beslissingsonder- steuning voor verrichtingen op de werkvloer; f. ΄΄technologie΄΄ voor het aanbrengen van anorganische deklagen of deklagen door anorganische modi- ficatie van het oppervlak, omschreven in kolom 3 van onderstaande tabel, op nieţ-elektronische sub- straten, gespecificeerd in kolom 2 van onderstaande tabel, door middel van procédés als omschreven in kolom 1 van onderstaande tabel en als gedefinieerd in de technische noten. Noot: De tabel en de technische noot zijn opgenomen na punt 2E301. 2E101 2E201 2E301 ΄΄Technologie΄΄ volgens de algemene technologienoot voor het ΄΄gebruik΄΄ van apparatuur of ΄΄program- matuur΄΄, bedoeld in 2B004, 2B009, 2B104, 2B109, 2B116 2B119 tot en met 2B122 of 2D101. ΄΄Technologie΄΄ volgens de algemene technologienoot voor het ΄΄gebruik΄΄ van apparatuur of ΄΄program- matuur΄΄, bedoeld in 2A225, 2A226, 2B001, 2B006, 2B007. b, 2B007. c, 2B008, 2B009, 2B201, 2B204, 2B206, 2B207, 2B209, 2B225 t/m 2B232, 2D201 of 2D202. ΄΄Technologie΄΄ volgens de algemene technologienoot voor het ΄΄gebruik΄΄ van goederen bedoeld, 2B350 t/m 2B352. in 13. 3. 2006 NL Publicatieblad van de Europese Unie L 74/87 Tabel Afzettingstechnieken 1. Bekledingsprocédé (1) (*) 2. Substraat 3. Resulterende deklaag A. Chemische afzetting uit de damp- fase (CVD) ΄΄superlegeringen΄΄ aluminiden voor inwendige kanalen keramische materialen (19) en glazen een lage uitzettingscoëfficiënt met (14) siliciden carbiden ΄΄composieten΄΄ met een koolstof- koolstof-, keramische of metaal ΄΄ma- trix΄΄ diëlektrische lagen (15) diamant diamantachtige koolstof (17) siliciden carbiden vuurvaste metalen mengsels daarvan (4) diëlektrische lagen (15) aluminiden gelegeerde aluminiden (2) boriumnitride gecementeerde wolfraamcarbide (16) carbiden siliciumcarbide (18) wolfraam mengsels daarvan (4) diëlektrische lagen (15) molybdeen en molybdeenlegeringen diëlektrische lagen (15) beryllium en berylliumlegeringen diëlektrische lagen (15) diamant diamantachtige koolstof (17) sensorvenstermaterialen (9) diëlektrische lagen (15) diamant diamantachtige koolstof (17) B. Thermische verdampingsafzetting (TE-PVD) (opdampen) B. 1. Elektronenstraalverdampen ΄΄superlegeringen΄΄ (EB-PVD) gelegeerde siliciden gelegeerde aluminiden (2) McrAlX (5) gemodificeerd zirkoniumoxide (12) siliciden aluminiden mengsels daarvan (4) L 74/88 NL Publicatieblad van de Europese Unie 13. 3. 2006 1. Bekledingsprocédé (1) (*) 2. Substraat 3. Resulterende deklaag B. 1.  (vervolg) keramische materialen (19) en glazen met een lage uitzettingscoëfficiënt (14) diëlektrische lagen (15) roestwerend staal (7) McrAlX (5) gemodificeerd zirkoniumoxide (12) mengsels daarvan (4) ΄΄composieten΄΄ met koolstof- ΄΄matrix΄΄ een koolstof- , keramische of metaal siliciden carbiden vuurvaste metalen mengsels daarvan (4) diëlektrische lagen (15) boriumnitride gecementeerde wolfraamcarbide (16) carbiden siliciumcarbide (18) wolfraam mengsels daarvan (4) diëlektrische lagen (15) molybdeen en molybdeenlegeringen diëlektrische lagen (15) beryllium en berylliumlegeringen diëlektrische lagen (15) boriden beryllium sensorvenstermaterialen (9) diëlektrische lagen (15) titaanlegeringen (13) boriden nitriden B. 2. Afzetting uit de dampfase: ion-plating keramische materialen (19) en glazen met een lage uitzettingscoëfficiënt (14) siliciden diëlektrische lagen (15) diamantachtige koolstof (17) ΄΄composieten΄΄ met een koolstof- koolstof-, keramische of metaal ΄΄ma- trix΄΄ diëlektrische lagen (15) gecementeerde wolfraamcarbide (16) siliciumcarbide diëlektrische lagen (15) molybdeen en molybdeenlegeringen diëlektrische lagen (15) beryllium en berylliumlegeringen diëlektrische lagen (15) 13. 3. 2006 NL Publicatieblad van de Europese Unie L 74/89 1. Bekledingsprocédé (1) (*) 2. Substraat 3. Resulterende deklaag B. 2. (vervolg) sensorvenstermaterialen (9) diëlektrische lagen (15) diamantachtige kodstof koolstof (17) B. 3. Afzetting uit de dampfase: ΄΄laser΄΄-verdamping keramische materialen (19) en glazen met een lage uitzettingscoëfficiënt (14) siliciden diëlektrische lagen (15) diamantachtige koolstof (17) ΄΄composieten΄΄ met een koolstof- koolstof-, keramische of metaal ΄΄ma- trix΄΄ diëlektrische lagen (15) gecementeerde wolfraamcarbide (16) siliciumcarbide diëlektrische lagen (15) molybdeen en molybdeenlegeringen diëlektrische lagen (15) beryllium en berylliumlegeringen diëlektrische lagen (15) sensorvenstermaterialen (9) diëlektrische lagen (15) B. 4. Afzetting uit de dampfase: boog- ΄΄superlegeringen΄΄ verdampen diamantachtige koolstof (17) gelegeerde siliciden gelegeerde aluminiden (2) McrAlX (5) polymeren (11) en ΄΄composieten΄΄ met een organische ΄΄matrix΄΄ boriden carbiden nitriden C. «Pack» cementering (zie A hierbo- ven voor «out-of-pack» cemente- ring (10) ΄΄composieten΄΄ met een koolstof- koolstof-, keramische of metaal ΄΄ma- trix΄΄ titaanlegeringen (13) diamantachtige koolstof (17) siliciden carbiden mengsels daarvan (4) siliciden aluminiden gelegeerde aluminiden (2) vuurvaste metalen en legeringen (8) siliciden oxiden D. Plasmaspuiten ΄΄superlegeringen΄΄ McrAlX (5) gemodificeerd zirkoniumoxide (12) mengsels daarvan (4) slijtbaar nikkelgrafiet slijtbare materialen met Ni-Cr-Al slijtbaar Al-Si-polyester gelegeerde aluminiden (2) L 74/90 NL Publicatieblad van de Europese Unie 13. 3. 2006 1. Bekledingsprocédé (1) (*) 2. Substraat 3. Resulterende deklaag D. (vervolg) aluminiumlegeringen (6) McrAlX (5) gemodificeerd zirkoniumoxide (12) siliciden mengsels daarvan (4) vuurvaste metalen en legeringen (8) aluminiden siliciden carbiden roestwerend staal (7) MCrAIX (5) titaanlegeringen (13) gemodificeerd zirkoniumoxide (12) mengsels daarvan (4) carbiden aluminiden siliciden gelegeerde aluminiden (2) slijtbaar nikkelgrafiet slijtbare materialen met Ni-Cr-A1 slijtbaar A1-Si-polyester E.  Afzetting uit suspensie en legerin- vuurvaste metalen en legeringen (8) ineengesmolten siliciden gen ineengesmolten aluminiden met uit- zondering van weerstandsverhittings- elementen ΄΄composieten΄΄ met een koolstof- koolstof-, keramische of metaal ΄΄ma- trix΄΄ siliciden carbiden mengsels daarvan (4) F. Afzetting door middel van sputte- ΄΄superlegeringen΄΄ ren gelegeerde siliciden gelegeerde aluminiden (2) aluminiden gemodificeerd met edele metalen (3) MCrAlX (5) gemodificeerd zirkoniumoxide (12) platina mengsels daarvan (4) keramische materialen en glazen met een lage uitzettingscoëfficiënt (14) siliciden platina mengsels daarvan (4) diëlektrische lagen (15) diamantachtige koolstof (17) 13. 3. 2006 NL Publicatieblad van de Europese Unie L 74/91 1. Bekledingsprocédé (1) (*) 2. Substraat 3. Resulterende deklaag F. (vervolg) titaanlegeringen (13) ΄΄composieten΄΄ met een koolstof- koolstof-, keramische of metaal ΄΄ma- trix΄΄ boriden nitriden oxiden siliciden aluminiden gelegeerde aluminiden (2) carbiden siliciden carbiden vuurvaste metalen mengsels daarvan (4) diëlektrische lagen (15) boriumnitride gecementeerde wolfraamcarbide (16) carbiden siliciumcarbide (18) wolfraam mengsels daarvan (4) diëlektrische lagen (15) boriumnitride molybdeen en molybdeenlegeringen diëlektrische lagen (15) beryllium en berylliumlegeringen boriden diëlektrische lagen (15) beryllium sensorvenstermaterialen (9) diëlektrische lagen (15) diamantachtige koolstof (17) vuurvaste metalen en legeringen (8) aluminiden siliciden oxiden carbiden G. Ionenimplantatie hoge temperatuur lagerstaalsoorten toevoeging van chroom, tantaal of ni- obium (columbium) titaanlegeringen (13) boriden nitriden beryllium en berylliumlegeringen boriden gecementeerde wolfraamcarbide (16) carbiden nitriden (*) De nummers tussen haakjes verwijzen naar de noten na deze tabel. L 74/92 NL Publicatieblad van de Europese Unie 13. 3. 2006 Tabel — Afzettingstechnieken — noten 1. 2. ΄Bekledingsprocédé΄ behelst zowel het herstel en opknappen van de deklaag als het aanbrengen van een oor- spronkelijke deklaag. Eénfasige of meerfasebekledingen waarbij één of meer elementen worden afgezet vóór of tijdens het aanbrengen van de aluminidebekleding, worden, zelfs wanneer deze elementen door middel van een ander bekledingsprocédé worden afgezet, mede begrepen onder de term ΄bekleding met gelegeerde aluminide΄; daaronder wordt echter niet begrepen het meerdere malen toepassen van éénfasige «pack» cementeringsprocédés om gelegeerde aluminiden te verkrijgen. 3. Meerfase-bekleding waarbij het edele metaal of de edele metalen worden opgebracht door middel van een ander bekledingsprocédé voordat de aluminidebekleding wordt aangebracht, wordt mede begrepen onder de term ΄met edelmetaal gemodificeerde aluminide΄-bekleding. 4. Het begrip ΄mengsels daarvan΄ omvat geïnfiltreerd materiaal, samenstellingen met een verlopend gehalte, gelijk- tijdig afgezette materialen en afzettingen bestaande uit meerdere lagen en zij worden verkregen door middel van één of meer van de in de tabel vermelde bekledingsprocédés. 5.  Met MCrAlX wordt bedoeld een bekledingslegering waarbij M staat voor kobalt, ijzer, nikkel of combinaties daarvan en X staat voor hafnium, yttrium, silicium, tantaal in iedere hoeveelheid of voor andere opzettelijke toevoegingen van meer dan 0,01 gewichtspercent in verschillende verhoudingen en combinaties, met uitzondering van: a. CoCrAlY-bekledingen die minder dan 22 gewichtspercenten chroom bevatten, minder dan 7 gewichtspercenten aluminium en minder dan 2 gewichtspercenten yttrium; b. CoCrAlY-bekledingen die 22 tot 24 gewichtspercenten chroom bevatten, 10 tot 12 gewichtspercenten alumi- nium en 0,5 tot 0,7 gewichtspercent yttrium, of c. NiCrAlY-bekledingen die 21 tot 23 gewichtspercenten chroom bevatten, 10 tot 12 gewichtspercenten alumi- nium en 0,9 tot 1,1 gewichtspercent yttrium. 6. Met ΄aluminiumlegeringen΄ worden bedoeld legeringen met een treksterkte van 190 MPa of meer gemeten bij 293 K (20 °C). 7. Met ΄roestwerend staal΄ wordt bedoeld AISI (American Iron and Steel Institute) serie 300 of naar gelijkwaardige nationale normen geclassificeerde staalsoorten. 8. 9. ΄Vuurvaste metalen en legeringen΄ omvatten de volgende metalen en hun legeringen: niobium (columbium), molybdeen, wolfraam en tantaal. ΄΄Sensorvenstermaterialen΄΄, als hierna: aluminiumoxide, silicium, germanium, zinksulfide, zinkselenide, gallium- arsenide, diamant, galliumfosfide, saffier en de volgende metaalhaliden: sensorvenstermaterialen met een diameter groter dan 40 mm indien gemaakt van zirconiumfluoride en hafniumfluoride. 10. Technologie voor het in één fase «pack» cementeren van massieve aërodynamische vlakken wordt niet bedoeld in deze categorie. 11. ΄Polymeren΄, als hierna: polyimide, polyester, polysulfide, polycarbonaten en polyurethanen. 12. ΄Gemodificeerd zirkoniumoxide΄ verwijst naar toevoegingen van andere metaaloxiden, bv. calciumoxide, magne- siumoxide, yttriumoxide, hafniumoxide, zeldzame aardoxiden, enz. aan zirkoniumoxide teneinde bepaalde kristal- lografische fasen en fasesamenstellingen te stabiliseren. Warmtebarrièrebekledingen gemaakt van zirkoniumoxide, gemodificeerd met calciumoxide of magnesiumoxide door middel van mengen of versmelting worden niet be- doeld. 13. Met ΄titaanlegeringen΄ worden uitsluitend bedoeld ruimtevaartlegeringen met een treksterkte van 900 MPa of meer gemeten bij 293 K (20 °C). 14. Met ΄glazen met een lage thermische uitzettingscoëfficiënt΄ worden bedoeld glazen met een uitzettingscoëfficiënt van 1 × 10–7 K– 1 of minder gemeten bij 293 K (20 °C). 13. 3. 2006 NL Publicatieblad van de Europese Unie L 74/93 15. ΄Diëlektrische lagen΄ zijn bekledingen die zijn opgebouwd uit uit meerdere lagen bestaande isolatiematerialen waarbij gebruik wordt gemaakt van de interferentie-eigenschappen van een ontwerp dat is samengesteld uit materialen met uiteenlopende brekingsindexen voor de reflectie, transmissie of absorptie van verschillende golf- lengtebanden. Met diëlektrische lagen worden bedoeld meer dan vier diëlektrische lagen of ΄΄composiete΄΄ diëlek- trische/metaallagen. 16.  Materialen voor snij- en vormwerktuigen bestaande uit wolfraamcarbide/(met kobalt, nikkel), titaancarbide/(met kobalt, nikkel), chroomcarbide/(met nikkel, chroom) en chroomcarbide/(met nikkel) zijn niet mede begrepen onder de ΄gecementeerde wolfraamcarbide΄ in de tabel. 17. Niet bedoeld wordt ΄΄technologie΄΄ die speciaal is ontwikkeld voor het aanbrengen van diamantachtige koolstof op een van de volgende artikelen: magnetische diskdrives en koppen, apparatuur voor de vervaardiging van wegwerpartikelen, kleppen of tapkraan- tjes, akoestische membranen voor luidsprekers, automotoronderdelen, snijmachines, pons- en persmatrijzen, kan- toorautomatiseringsapparatuur, microfoons of medische apparatuur of uit legeringen met minder dan 5 % be- ryllium gemaakte matrijzen voor het gieten of vormen van plastic. 18. ΄Siliciumcarbide΄ omvat geen materiaal voor snij- of vormwerktuigen. 19. Keramische substraten, zoals onder dit nummer gebruikt, omvatten geen keramische materialen met 5 % of meer gewichtspercent klei- of cementinhoud, als afzonderlijke bestanddelen dan wel in combinatie. De definities van de in kolom 1 van de tabel vermelde procédés luiden als volgt: a. Chemische afzetting uit de dampfase (CVD) is een procédé voor deklaagbekleding of voor bekleding door modi- ficatie van het oppervlak waarbij een metaal, legering, ΄΄composiet΄΄, diëlektrisch of keramisch materiaal op een verhit substraat wordt afgezet. In de nabijheid van een substraat worden gasvormige reagentia ontleed of gecombi- neerd, wat leidt tot de afzetting van het gewenste materiaal, zijnde een element, legering of samengesteld materiaal, op het substraat. De energie voor dit proces van ontleding of chemische reactie kan worden geleverd door de hitte van het substraat, door een gloeiontladingsplasma of door ΄΄laser΄΄-bestraling. NB 1: CVD omvat de volgende procédés: «out-of-pack»-afzetting met gerichte gasstroom, pulserende CVD, thermische afzetting met beheerste kernenvorming (CNTD), met plasma versterkte of met plasma ondersteunde CVD-procédés. NB 2: «Pack» geeft aan dat een substraat is ingebed in een poedermengsel. NB 3: Het bij het «out-of-pack»-procédé gebruikte gasvormige materiaal wordt verkregen door toepassing van dezelfde basis- reacties en parameters als bij het «pack» cementeringsprocédé, behalve dat het te bekleden substraat niet in contact komt met het poedermengsel. b. Thermische verdampingsafzetting (TE-PVD) (opdampen) is een procédé voor deklaagbekleding in een vacuümkamer bij een druk van minder dan 0,1 Pa waarin gebruik wordt gemaakt van een thermische energiebron voor het verdampen van het bekledingsmateriaal. Dit leidt tot de neerslag, of afzetting, van de verdampte stoffen op een in een geschikte positie geplaatst substraat.  De toevoeging van gassen aan de vacuümkamer tijdens het bekledingsprocédé voor het opbouwen van een samen- gestelde bekleding is een gebruikelijke aanpassing van het procédé. Het gebruik van een ionen of elektronenstraal, of plasma, teneinde de afzetting van de bekleding te activeren of te ondersteunen is eveneens een gebruikelijke aanpassing in deze techniek. Ook kunnen tijdens deze procédés moni- toren worden gebruikt voor het tijdens het proces meten van de optische kenmerken en de dikte van de bekle- dingslaag. Specifieke TE-PVD-procédés verlopen als volgt: 1. bij elektronenstraalverdampen (EB-PVD) wordt gebruik gemaakt van een elektronenstraal voor het verhitten en verdampen van het materiaal waaruit de deklaag wordt gevormd; 2. bij weerstandsverhittingsverdampen met ionen wordt gebruik gemaakt van elektrische weerstandsverwarmings- bronnen in combinatie met een of meer botsende ionenstralen die een beheerste en gelijkmatige stroom verdampt bekledingsmateriaal leveren; L 74/94 NL Publicatieblad van de Europese Unie 13. 3. 2006 3. bij ΄΄laser΄΄-verdamping wordt gebruik gemaakt van ofwel een pulserende ofwel een continue ΄΄laser΄΄-straal voor het verdampen van het materiaal waaruit de deklaag wordt gevormd; 4. Boogverdampen maakt gebruik van een uit het materiaal van de te vormen deklaag bestaande kathode welke opgebruikt wordt en waarbij een vonkoverslag op het oppervlak wordt gecreëerd door een kort aardcontact. De beheerste vlamboogbeweging erodeert het kathodeoppervlak waardoor een sterk geïoniseerd plasma ontstaat. De anode kan een kegel zijn die via een isolatie aan de rand van de kathode is bevestigd of de kamer wordt als anode gebruikt. Het aanleggen van een voorspanning op het substraat wordt gebruikt bij het uit de gezichtslijn opbrengen van deklagen. NB: Het aanbrengen van deklagen door middel van een niet beheerste vlamboog zonder een voorspanning op het substraat is niet begrepen in deze definitie. 5. «Ion-plating» is een speciale aanpassing van een algemeen TE-PVD-procédé waarbij een plasma of een ionenbron wordt gebruikt voor het ioniseren van de af te zetten stoffen, en waarbij een negatieve voorspanning wordt aangelegd op het substraat teneinde de stoffen gemakkelijker aan het plasma te kunnen onttrekken. Het toe- voegen van reactieve stoffen, de verdamping van vaste stoffen in de proceskamer en het gebruik van monitoren voor het tijdens het proces meten van de optische kenmerken en de dikte van de bekledingslaag zijn gebruike- lijke aanpassingen van het procédé. c. «Pack» cementering is een procédé voor bekleding door modificatie van het oppervlak of voor deklaagbekleding waarbij een substraat wordt ingebed in een poedermengsel, een zgn.  «pack», dat bestaat uit: 1. de metaalhoudende poeders die moeten worden afgezet (gewoonlijk aluminium, chroom, silicium of combinaties daarvan); 2. een activerende stof (gewoonlijk een halogenide zout), en 3. een inert stof, meestal aluminiumoxide. Het substraat en het poedermengsel bevinden zich in een retort die wordt verhit tot 1 030 K (757 °C) à 1 375 K (1 102 °) gedurende een tijd lang genoeg voor afzetting van de laag. d. Plasmaspuiten is een deklaagbekledingsprocédé waarbij een spuitpistool, dat een plasma produceert en reguleert, bekledingsmaterialen in poeder- of draadvorm krijgt toegevoerd, deze smelt en naar een substraat drijft, waarop zich een integraal gehechte laag vormt. Plasmaspuiten zoals hier bedoeld is ofwel plasmaspuiten bij lage druk ofwel plasmaspuiten met hoge snelheid. NB 1: Lage druk wil zeggen minder dan de atmosferische omgevingsdruk. NB 2: Met hoge snelheid wordt bedoeld een uitstroomsnelheid van het gas uit het mondstuk hoger dan 750 m/s bij 293 K (20 °C) en 0,1 MPa. e. Afzetting uit suspensie is een procédé voor bekleding door modificatie van het oppervlak of voor deklaagbekleding waarbij een metaalhoudend of keramisch poeder met een organische bindstof in suspensie wordt gebracht in een vloeistof en op een substraat wordt aangebracht door spuiten, dompelen of penselen; vervolgens droging aan de lucht of in een oven; en warmtebehandeling om de gewenste laag te verkrijgen. f. Afzetting door middel van sputteren is een deklaagbekledingsprocédé dat is gebaseerd op een verschijnsel van impulsoverdracht, waarbij positief geladen ionen worden versneld door een elektrisch veld naar het oppervlak van een trefplaat (deklaagmateriaal). De kinetische energie van de botsende ionen is voldoende om ervoor te zorgen dat atomen aan het oppervlak van de trefplaat vrijkomen en worden afgezet op een in een geschikte positie geplaatst substraat. NB 1: De tabel verwijst uitsluitend naar afzetting door sputteren met een triode, magnetron of naar reactief sputteren, welke methoden worden toegepast om de hechting van de bekleding en de afzetsnelheid te vergroten, en naar hoogfrequent (RF) versterkte afzetting door sputteren, wat wordt toegepast om de verdamping van niet-metaalhoudende bekledings- materialen mogelijk te maken. NB 2: Ionenstralen met lage energie (minder dan 5 keV) kunnen worden toegepast om de afzetting in gang te zetten. g. Ionenimplantatie is een procédé voor bekleding door modificatie van het oppervlak waarbij het te legeren element wordt geïoniseerd, wordt versneld door een potentiaalgradiënt en in het substraatoppervlak wordt geïmplanteerd.  De definitie omvat mede procédés waarbij tegelijk met de ionenimplantatie elektronenstraalverdamping of afzetting door middel van sputtering plaatsvindt. 13. 3. 2006 NL Publicatieblad van de Europese Unie L 74/95 CATEGORIE 3 ELEKTRONICA 13. 3. 2006 NL Publicatieblad van de Europese Unie L 74/97 3A Systemen, apparatuur en onderdelen Noot 1: De embargostatus van in 3A001 of 3A002 omschreven apparatuur en onderdelen, anders dan die welke zijn omschreven in 3A001. a. 3 t/m 3A001. a. 10 of 3A001. a. 12, die speciaal zijn ontworpen voor apparatuur waarvoor een uitvoervergunning vereist is, of die dezelfde functionele eigenschappen hebben, wordt bepaald door de embargostatus van die andere apparatuur. Noot 2: De embargostatus van geïntegreerde schakelingen als omschreven in 3A001. a. 3 t/m 3A001. a. 9 of 3A001. a. 12 die onveranderbaar zijn geprogrammeerd of ontworpen voor een specifieke functie, wordt eveneens bepaald door de embargostatus van die andere apparatuur. NB: Wanneer de fabrikant of de aanvrager de embargostatus van de andere apparatuur niet kan embargostatus bepaald op grond van 3A001. a. 3 t/m 3A001. a. 9 of bepalen, wordt de 3A001. a. 12. Indien de geïntegreerde schakeling een ΄΄microcomputermicroschakeling΄΄ of een microbesturings- microschakeling op basis van silicium is als omschreven in 3A001. a. 3 met een woordlengte van de ΄operand΄ (data) van 8 bit of minder, dan wordt de embargostatus van de geïntegreerde schakeling bepaald in 3A001. a. 3. 3A001 Elektronische onderdelen, als hieronder: a. Universele geïntegreerde schakelingen, als hieronder: Noot 1: De vraag of een uitvoervergunning is vereist voor (al dan niet afgewerkte) plakken («wafers») waarin de functie reeds is vastgelegd, dient te worden beoordeeld aan de hand van de parameters in 3A001. a. Noot 2: Geïntegreerde schakelingen omvatten de volgende typen: ΄΄monolithische geïntegreerde schakelingen΄΄; ΄΄hybride geïntegreerde schakelingen΄΄; ΄΄multichip geïntegreerde schakelingen΄΄; ΄΄geïntegreerde schakelingen van het filmtype΄΄ met inbegrip van geïntegreerde schakelingen van silicium op saffier; ΄΄optische geïntegreerde schakelingen΄΄. 1. geïntegreerde schakelingen, ontworpen of gespecificeerd als bestand tegen: a. een totale dosis ioniserende straling van 5 × 103 Gray (silicium) of meer, of b. storing bij een dosistempo van 5 × 106 Gray (silicium)/s of meer; c. een fluentie (geïntegreerde flux) van neutronen (gelijk aan 1 MeV) van 5 × 1013 n/cm2 of meer op silicium, of het equivalent daarvan voor andere materialen; Noot: Punt 3A001. a. 1. c is niet van toepassing op MIS-condensatoren (Metal Insulator Semiconductors). 2.  ΄΄microprocessormicroschakelingen΄΄, ΄΄microcomputermicroschakelingen΄΄, microbesturingmicro- schakelingen, geïntegreerde geheugenschakelingen vervaardigd van samengesteld halfgeleidermate- riaal, analoog/digitaal-omzetters, digitaal/analoog-omzetters, elektro-optische of ΄΄optisch geïnte- greerde schakelingen΄΄ voor ΄΄signaalverwerking΄΄, door de gebruiker te programmeren logische bouwstenen, geïntegreerde schakelingen voor neurale netwerken, op bestelling geïntegreerde scha- kelingen waarbij ofwel de functie ofwel de embargostatus van de apparatuur waarin de geïnte- greerde schakelingen zullen worden toegepast, niet bekend is, of FFT (΄΄Fast Fourier Transform΄΄)- processoren, elektrisch wisbare PROM’s (EEPROM's), flash-geheugens of statische RAM’s (SRAM's): a. gespecificeerd om te werken bij een omgevingstemperatuur hoger dan 398 K (125 °C); b. gespecificeerd om te werken bij een omgevingstemperatuur lager dan 218 K (– 55 °C); of c. gespecificeerd om te werken over het gehele omgevingstemperatuurbereik van 218 K (– 55 °C) tot 398 K (125 °C). Noot: 3A001. a. 2 is niet van toepassing op geïntegreerde schakelingen voor toepassingen in civiele auto- mobielen of treinen. L 74/98 NL Publicatieblad van de Europese Unie 13. 3. 2006 3A001 a. (vervolg) 3. ΄΄microprocessormicroschakelingen΄΄, ΄΄microcomputermicroschakelingen΄΄ en microbesturingmi- croschakelingen, gefabriceerd van een samengestelde halfgeleider en werkend met een klokfrequentie hoger dan 40 MHz; Noot: In 3A001. a. 3 worden mede bedoeld digitale signaalprocessoren, digitale «array»-processoren en digi- tale coprocessoren. 4. geïntegreerde geheugenschakelingen vervaardigd van samengesteld halfgeleidermateriaal; 5. geïntegreerde analoog/digitaal- en digitaal/analoog-omzetters, als hieronder: a. analoog/digitaal-omzetters met één of meer van de volgende kenmerken: NB: ZIE OOK 3A101 1. een scheidend vermogen van 8 bit of meer maar minder dan 10 bit, met een outputsnel- heid van meer dan 500 miljoen woorden per seconde; 2. een scheidend vermogen van 10 bit of meer maar minder dan 12 bit en een outputsnelheid van meer dan 200 miljoen woorden per seconde; 3. een scheidend vermogen van 12 bit en een outputsnelheid van meer dan 50 miljoen woorden per seconde, of 4. een scheidend vermogen van meer dan 12 bit maar niet meer dan 14 bit en een output- snelheid van meer dan 5 miljoen woorden per seconde; 5. een scheidend vermogen van meer dan 14 bit en een outputsnelheid van meer dan 1 miljoen woorden per seconde b. digitaal/analoog-omzetters met een scheidend vermogen van 12 bit of meer en een ΄΄stabilisa- tietijd΄΄ («settling time») van minder dan 10 ns; Technische noten: 1. Een scheidend vermogen van n bits komt overeen met een kwantisering van 2n niveaus. 2. Het aantal bits in het outputwoord komt overeen met het scheidend vermogen van de analoog/digitaal- omzetter; 3.  De outputsnelheid is de maximale outputsnelheid van de omzetter, ongeacht de architectuur of de overbemonstering. Verkopers kunnen de outputsnelheid ook omschrijven als de sampling rate, de bemon- steringssnelheid of de conversiesnelheid. Deze wordt vaak uitgedrukt in Megahertz (MHz) of megasamples per seconde (MSPS). 4. Voor de meting van de outputsnelheid komt één outputwoord per seconde overeen met één Hertz of één sample per seconde. 6. elektro-optische of ΄΄optische geïntegreerde schakelingen΄΄ voor ΄΄signaalverwerking΄΄ met alle vol- gende kenmerken: a. een of meer inwendige ΄΄laser΄΄-dioden, b. een of meer inwendige lichtdetectie-elementen, en c. optische golfgeleiders; 7. door de gebruiker te programmeren logische bouwstenen met één van beide volgende kenmerken: a. een bruikbare «gate count» equivalent aan meer dan 30 000 (twee ingangspoorten); b. een typische ΄΄voortplantingsvertragingstijd van de basispoort΄΄ van minder dan 0,1 ns; of c. een togglefrequentie hoger dan 133 MHz; Noot: 3A001. a. 7. omvat: Simple Programmable Logic Devices — eenvoudige programmeerbare logische bouwstenen (SPLD’s) 13. 3. 2006 NL Publicatieblad van de Europese Unie L 74/99 3A001 a. 7. c. (vervolg) Complex Programmable Logic Devices — complexe programmeerbare logische bouwstenen (CPLD’s) Field Programmable Gate Arrays — door de gebruiker te programmeren «gate arrays» (FPGA’s) Field Programmable Logic Arrays — door de gebruiker te programmeren «logic arrays» (FPLA’s) Field Programmable Interconnects — door de gebruiker te programmeren «interconnects» (FPIC’s) NB: Door de gebruiker te programmeren logische bouwstenen worden ook door de gebruiker te program- meren «gate arrays» of door de gebruiker te programmeren «logic arrays» genoemd. 8. niet gebruikt; 9. geïntegreerde schakelingen voor neurale netwerken; 10. op bestelling geïntegreerde schakelingen waarbij ofwel de functie ofwel de embargostatus van de apparatuur waarin de geïntegreerde schakelingen zullen worden toegepast, niet aan de fabrikant bekend is, met een of meer van de volgende kenmerken: a. meer dan 1 000 in/uitgangspunten; b. een typische ΄΄voortplantingsvertragingstijd van de basispoort΄΄ van minder dan 0,1 ns, of c. een werkfrequentie hoger dan 3 GHz; 11. digitale geïntegreerde schakelingen, anders dan als omschreven in 3A001. a. 3 t/m 3A001. a. 10 of 3A001. a. 12, die zijn gebaseerd op een samengestelde halfgeleider en met een van beide volgende kenmerken: a. een «gate count» equivalent aan meer dan 3 000 (twee ingangspoorten), of b. een «toggle»frequentie hoger dan 1,2 GHz; 12.  FFT (΄Fast Fourier Transform΄)-processoren met een nominale uitvoeringstijd, voor een N-punt complexe FFT van minder dan (N log2N)/20 480 ms, waarbij N het aantal punten is; Technische noot: Wanneer N gelijk is aan 1 024 punten, geeft de formule in 3A001. a. 12 een uitvoeringstijd van 500 microseconden. b. Microgolf- of millimetergolfelementen: 1. elektronische vacuümbuizen en kathoden, als hieronder: Noot 1: In 3A001. b. 1 worden niet bedoeld buizen die zijn ontworpen of gespecificeerd om te werken binnen een frequentieband met alle volgende kenmerken: a. niet meer dan 31,8 GHz; en b. door de ITU toegewezen voor radiocommunicatiediensten, maar niet voor radiodeterminatie. Noot 2: In 3A001. b. 1. worden niet bedoeld buizen niet ΄΄voor gebruik in de ruimte gekwalificeerd΄΄ met alle volgende kenmerken: a. een gemiddelde vermogensdichtheid aan de uitgang van 50 W of minder, en b. buizen die zijn ontworpen of gespecificeerd om te werken binnen een frequentieband met alle volgende kenmerken: 1. meer dan 31,8 GHz doch niet meer dan 43,5 GHz; en 2. door de ITU toegewezen voor radiocommunicatiediensten, maar niet voor radiodeterminatie. L 74/100 NL Publicatieblad van de Europese Unie 13. 3. 2006 3A001 b. 1. (vervolg) a. lopende golfbuizen, voor puls- of ongedempte golven, als hieronder: 1. werkend bij frequenties hoger dan 31,8 GHz; 2. met een kathodeverhittingselement dat in minder dan drie seconden het gespecificeerde RF- vermogen bereikt; 3. gekoppelde trilholtebuizen of afgeleiden daarvan, met een ΄΄fractionele bandbreedte΄΄ van meer dan 7 % of een piekvermogen van meer dan 2,5 kW; 4. spiraalbuizen of afgeleiden daarvan, met een of meer van de volgende kenmerken: a. een ΄΄momentele bandbreedte΄΄ van meer dan één octaaf, en een product van gemiddeld vermogen (in kW) en frequentie (in GHz) van meer dan 0,5; b. een ΄΄momentele bandbreedte΄΄ van een octaaf of minder, en een product van gemiddeld vermogen (in kW) en frequentie (in GHz) van meer dan 1, of c. ΄΄gekwalificeerd voor gebruik in de ruimte΄΄. b. dwarsveld («crossed field»)-versterkerbuizen met meer dan 17 dB versterking; c. geïmpregneerde kathoden, ontworpen voor elektronische buizen geschikt voor het voortbrengen van een continue emissiestroomdichtheid groter dan 5 A/cm2 bij gespecificeerde werkomstandig- heden; 2. monolithisch geïntegreerde microgolfschakelingen- (MMIC-)vermogensversterkers met een van de volgende kenmerken: a. gespecificeerd voor werkfrequenties hoger dan 3,2 GHz en tot en met 6 GHz en met een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 4 W (36 dBm) met een ΄΄fractionele bandbreedte΄΄ van meer dan 15 %; b.  gespecificeerd voor werkfrequenties hoger dan 6 GHz en tot en met 16 GHz en met een ge- middeld uitgangsvermogen van meer dan 1 W (30 dBm) met een ΄΄fractionele bandbreedte΄΄ van meer dan 10 %; c. gespecificeerd voor werkfrequenties hoger dan 16 GHz en tot en met 31,8 GHz en met een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 0,8 W (29 dBm) met een ΄΄fractionele bandbreedte΄΄ van meer dan 10 %; d. gespecificeerd voor werkfrequenties hoger dan 31,8 GHz en tot en met 37,5 GHz. e. gespecificeerd voor werkfrequenties hoger dan 37,5 GHz en tot en met 43,5 GHz en met een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 0,25 W (24 dBm) met een ΄΄fractionele band- breedte΄΄ van meer dan 10 %; of f. gespecificeerd voor werkfrequenties hoger dan 43,5 GHz. Noot 1: In 3A001. b. 2 wordt niet bedoeld apparatuur voor satellietuitzendingen die is ontworpen of ge- specificeerd voor een frequentiegebied van 40,5 GHz tot 42,5 GHz. Noot 2: De embargostatus van MMIC's waarvan de gespecificeerde werkfrequentie frequenties in meer dan één frequentiegebied omvat, als omschreven in 3A001. b. 2. a tot 3A001. b. 2. f, wordt bepaald door het laagste gemiddelde uitgangsvermogen waarvoor een embargo geldt. Noot 3: De noten 1 en 2 in de aanhef van categorie 3 houden in dat in 3A001. b. 2. niet worden bedoeld MMIC's die speciaal zijn ontworpen voor andere toepassingen zoals telecommunicatie, radars en motorvoertuigen. 13. 3. 2006 NL Publicatieblad van de Europese Unie L 74/101 3A001 b. (vervolg) 3. discrete microgolftransistors, met een van de volgende eigenschappen: a. gespecificeerd voor werkfrequenties hoger dan 3,2 GHz en tot en met 6 GHz en met een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 60 W (47,8 dBm); b. gespecificeerd voor werkfrequenties hoger dan 6 GHz en tot en met 31,8 GHz en met een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 20 W (43 dBm); c. gespecificeerd voor werkfrequenties hoger dan 31,8 GHz en tot en met 37,5 GHz en met een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 0,5 W (27 dBm); d. gespecificeerd voor werkfrequenties hoger dan 37,5 GHz en tot en met 43,5 GHz en met een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 1 W (30 dBm); of e. gespecificeerd voor werkfrequenties hoger dan 43,5 GHz; Noot: De embargostatus van een transistor waarvan de gespecificeerde werkfrequentie frequenties in meer dan één frequentiegebied omvat, als omschreven in 3A001. b. 3. a tot 3A001. b. 3.  e, wordt bepaald door het laagste gemiddelde uitgangsvermogen waarvoor een embargo geldt. 4. microgolfhalfgeleiderversterkers en microgolfassemblages/-modules die microgolfversterkers bevatten met een van de volgende kenmerken; a. gespecificeerd voor werkfrequenties hoger dan 3,2 GHz en tot en met 6 GHz en met een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 60 W (47,8 dBm) met een ΄΄fractionele band- breedte΄΄ van meer dan 15 %; b. gespecificeerd voor werkfrequenties hoger dan 6 GHz en tot en met 31,8 GHz en met een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 15 W (42 dBm) met een ΄΄fractionele bandbreedte΄΄ van meer dan 10 %; c. gespecificeerd voor werkfrequenties hoger dan 31,8 GHz en tot en met 37,5 GHz; d. gespecificeerd voor werkfrequenties hoger dan 37,5 GHz en tot en met 43,5 GHz en met een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 1 W (30 dBm) met een ΄΄fractionele bandbreedte΄΄ van meer dan 10 %; e. gespecificeerd voor werkfrequenties hoger dan 43,5 GHz; of f. gespecificeerd voor werkfrequenties hoger dan 3,2 GHz en met al de volgende kenmerken: 1. een gemiddeld uitgangsvermogen (in watt), P, groter dan 150 gedeeld door het kwadraat van de maximumwerkfrequentie (in GHz) [P>150 W*GHz2/fGHz 2]; 2. een fractionele bandbreedte van 5 % of meer; en 3. twee loodrecht op elkaar staande zijden met een lengte d (in cm) die kleiner is dan of gelijk is aan 15 gedeeld door de laagste werkfrequentie in GHz [d ≤ 15cm*GHz/ fGHz]. Technische noot: 3,2 GHz moet gebruikt worden als de laagste werkfrequentie (fGHz) in de formule in 3A001. b. 4. f. 3. voor versterkers die een gespecificeerde werkfrequentie hebben van 3,2 GHz en lager [d= 15cm*GHz/3,2 GHz]. NB: MMIC-vermogenversterkers moeten worden beoordeeld aan de hand van de criteria in 3A001. b. 2. Noot 1: In 3A001. b. 4. wordt niet bedoeld apparatuur voor satellietuitzendingen die is ontworpen of ge- specificeerd voor het frequentiegebied 40,5-42,5 GHz. Noot 2: De embargostatus van een object waarvan de gespecificeerde werkfrequentie frequenties in meer dan één frequentiegebied omvat, als omschreven in 3A001. b. 4. a tot 3A001. b. 4. e, wordt bepaald door het laagste gemiddelde uitgangsvermogen waarvoor een embargo geldt. L 74/102 NL Publicatieblad van de Europese Unie 13. 3. 2006 3A001 b. (vervolg) 5. elektronisch of magnetisch afstembare banddoorlaat- of bandsperfilters met meer dan vijf afstembare resonatoren, geschikt om af te stemmen over een frequentieband van 1,5:1 (fmax/fmin) in minder dan tien microseconden bij: a.  een banddoorlaatbandbreedte van meer dan 0,5 % van de centrale frequentie, of b. een bandsperbandbreedte van minder dan 0,5 % van de centrale frequentie; 6. Niet gebruikt; 7. mixers en converters, ontworpen voor het vergroten van het frequentiebereik van apparatuur als beschreven in 3A002. c, 3A002. e of 3A002. f boven de daarin aangegeven grenzen; 8. microgolfvermogensversterkers die buizen als omschreven in 3A001. b bevatten en alle volgende eigenschappen bezitten: a. werkfrequenties hoger dan 3 GHz; b. een gemiddelde vermogensdichtheid aan de uitgang van meer dan 80 W/kg; en c. een volume van minder dan 400 cm3. Noot: In 3A001. b. 8 wordt niet bedoeld apparatuur die is ontworpen of gespecificeerd voor een frequentieband die ΄΄door de ITU toegewezen΄΄ is voor radiocommunicatiediensten, maar niet voor radiodeterminatie. c. Elementen waarbij gebruik wordt gemaakt van akoestische golven, als hieronder, en speciaal ontworpen onderdelen daarvoor: 1. elementen waarbij gebruik wordt gemaakt van akoestische oppervlaktegolven en van akoestische golven die langs de oppervlakte scheren («surface wave») (d. w. z. ΄΄signaalverwerkende΄΄ elementen die gebruikmaken van elastische golven in materialen), met een of meer van de volgende kenmerken: a. een draaggolffrequentie groter dan 2,5 GHz; b. een draaggolffrequentie groter dan 1 GHz, doch kleiner dan 2,5 GHz, en 1. een onderdrukking van de zijlobben groter dan 55 dB; 2. een product van de maximale vertragingstijd (in microseconden) en de bandbreedte (in MHz) groter dan 100; of 3. een bandbreedte van meer dan 250 MHz; of 4. een dispersieve vertraging groter dan 10 microseconden; of c. een draaggolffrequentie van 1 GHz of lager, en met een of meer van de volgende kenmerken: 1. een product van de maximale vertragingstijd (in microseconden) en de bandbreedte (in MHz) groter dan 100; 2. een dispersieve vertraging groter dan 10 microseconden; of 3. een onderdrukking van de zijlobben groter dan 55 dB en een bandbreedte van meer dan 50 MHz; 2. elementen waarbij gebruik wordt gemaakt van akoestische golven in de gehele massa van het materiaal («bulk wave») (d. w. z. ΄΄signaalverwerkende΄΄ elementen die gebruikmaken van elastische golven) en die geschikt zijn voor directe verwerking van signalen met frequenties hoger dan 1 GHz; 13. 3. 2006 NL Publicatieblad van de Europese Unie L 74/103 3A001 c. (vervolg) 3.  akoestisch-optische ΄΄signaalverwerkende΄΄ elementen die gebruikmaken van een wisselwerking tus- sen akoestische golven («bulk wave» of «surface wave») en lichtgolven en die geschikt zijn voor directe verwerking van signalen of beelden, met inbegrip van, doch niet beperkt tot, spectrale analyse, correlatie of convolutie. d. Elektronische elementen of schakelingen die onderdelen bevatten vervaardigd van ΄΄supergeleidende΄΄ materialen die speciaal zijn ontworpen om te werken bij temperaturen beneden de ΄΄kritische tempera- tuur΄΄ van ten minste een van de ΄΄supergeleidende΄΄ bestanddelen en met een of meer van de volgende functies: 1. stroomschakelen voor digitale schakelingen die gebruikmaken van ΄΄supergeleidende΄΄ poorten waarbij het product van de vertragingstijd per poort (in seconden) en het energieverlies per poort (in watt) kleiner is dan 10– 14 J, of 2. frequentieselectie bij alle frequenties met toepassing van afstemkringen met een Q-waarde hoger dan 10 000. e. Hoge-energiecomponenten, als hieronder: 1. batterijen en fotovoltaïsche arrays, als hieronder: Noot: In 3A001. e. 1 worden niet bedoeld batterijen met een inhoud gelijk aan of kleiner dan 27 cm3 (bv. standaard-C-cellen of R14-batterijen). a. primaire cellen en batterijen met een ΄energiedichtheid΄ groter dan 480 Wh/kg en gespecificeerd om te werken in het temperatuurgebied van lager dan 243 K (– 30 °C) tot hoger dan 343 K (70 °C); b. herlaadbare cellen en batterijen met een ΄energiedichtheid΄ groter dan 150 Wh/kg na 75 cy- clussen van laden en ontladen bij een ontlaadstroom gelijk aan C/5 uur (waarbij C de nominale capaciteit is in ampère-uren) en wanneer deze werken in het temperatuurgebied van lager dan 253 K (– 20 °C) tot hoger dan 333 K (60 °C); Technische noot: De ΄energiedichtheid΄ wordt bepaald door het gemiddelde vermogen in watt (gemiddelde spanning in volt maal gemiddelde stroomsterkte in ampère) te vermenigvuldigen met de tijd (in uur), nodig om te ontladen tot 75 % van de onbelaste beginspanning, gedeeld door de totale massa van de cel (of batterij) uitgedrukt in kilogram. c. stralingsbestendige fotovoltaïsche «arrays» die zijn ΄΄gekwalificeerd voor gebruik in de ruimte΄΄, met een specifiek vermogen groter dan 160 W/m2 gemeten bij een werktemperatuur van 301 K (28 °C) onder belichting met 1 kW/m2 afkomstig van een wolfraamdraad bij 2 800 K (2 527 °C); 2. condensatoren geschikt voor hoge-energieopslag, als hieronder: NB: ZIE OOK 3A201. a a. condensatoren met een herhalingssnelheid van minder dan 10 Hz («single shot»-condensatoren) met alle volgende kenmerken: 1. een toelaatbare spanning gelijk aan of hoger dan 5 kV; 2.  een energiedichtheid gelijk aan of hoger dan 250 J/kg, en 3. een totale energie gelijk aan of groter dan 25 kJ; L 74/104 NL Publicatieblad van de Europese Unie 13. 3. 2006 3A001 e. 2. (vervolg) b. condensatoren met een herhalingssnelheid van 10 Hz of meer («repetition-rated»-condensatoren) met alle volgende kenmerken: 1. een toelaatbare spanning gelijk aan of hoger dan 5 kV; 2. een energiedichtheid gelijk aan of groter dan 50 J/kg; 3. een totale energie gelijk aan of meer dan 100 J, en 4. een levensduur gelijk aan of langer dan 10 000 cyclussen van laden en ontladen; 3. ΄΄supergeleidende΄΄ elektromagneten en solenoïden die speciaal zijn ontworpen voor volledig op- laden of ontladen in minder dan een seconde, met alle volgende kenmerken: NB: ZIE OOK 3A201. b Noot: In 3A001. e. 3 zijn niet bedoeld ΄΄supergeleidende΄΄ elektromagneten of solenoïden die speciaal zijn ontworpen voor medische apparatuur voor beeldvorming door middel van magnetische resonantie (Magnetic Resonance Imaging — MRI). a. de in de eerste seconde tijdens de ontlading geleverde energie is meer dan 10 kJ; b. de binnendiameter van de stroomvoerende wikkelingen is groter dan 250 mm, en c. de apparatuur heeft een nominale magnetische inductie van meer dan 8 T of een nominale ΄΄totale stroomdichtheid΄΄ in de wikkeling hoger dan 300 A/mm2. f. Absolute positiecodeerapparaten van het type met roterende as met één van beide volgende kenmerken: 1. een scheidend vermogen beter dan 1:265 000 van de volle schaalwaarde (18 bit resolutie), of 2. een nauwkeurigheid beter dan ± 2,5 boogseconden. 3A002 Universele elektronische apparatuur, als hieronder: a. Opnameapparatuur, als hieronder, en speciaal daarvoor ontworpen testband: 1. analoge magneetbandinstrumentatierecorders, met inbegrip van recorders waarmee digitale signalen kunnen worden geregistreerd (bv. met gebruik van een HDDR-moduul (digitaal registratiemoduul met hoge dichtheid) met een of meer van de volgende kenmerken: a. een bandbreedte per elektronisch kanaal of spoor groter dan 4 MHz; b. een bandbreedte per elektronisch kanaal of spoor groter dan 2 MHz en met meer dan 42 sporen, of c. met een tijdverschuivingsfout van minder dan 0,1 microseconde gemeten in overeenstemming met de van toepassing zijnde IRIG (Inter Range Instrumentation Group)- of EIA (Electronic Industries Association) documenten; Noot: Analoge magneetbandrecorders die speciaal zijn ontworpen voor civiele videotoepassingen worden niet beschouwd als instrumentatierecorders. 2. digitale magneetbandvideorecorders met een maximale digitale overbrengsnelheid van de interface groter dan 360 Mbits/s; Noot: In 3A002. a. 2.  worden niet bedoeld digitale magneetbandvideorecorders die speciaal zijn ontworpen voor televisieopnamen in een (al dan niet gecomprimeerd) signaalformaat in overeenstemming met de standaarden of aanbevelingen van de ITU, de IEC, de SMPTE, de ERU, het ETSI of het IEEE voor civiele televisietoepassingen; 13. 3. 2006 NL Publicatieblad van de Europese Unie L 74/105 3A002 a. (vervolg) 3. digitale magneetbandinstrumentatierecorders voor het vastleggen van gegevens gebruikmakend van helical scan of vaste kop techniek, met een of meer van de volgende kenmerken: a. een maximale digitale overbrengsnelheid van de interface groter dan 175 Mbits/s; of b. ΄΄gekwalificeerd voor gebruik in de ruimte΄΄; Noot: In 3A002. a. 3 worden niet bedoeld analoge magneetbandrecorders uitgerust met HDDR conversie- elektronica en geconfigureerd voor registratie van uitsluitend digitale gegevens. 4. apparatuur met een maximale digitale overbrengsnelheid van de interface groter dan 175 Mbit/s, ontworpen voor het ombouwen van digitale magneetbandvideorecorders voor gebruik als digitale instrumentatiegegevensrecorders; 5. waveform digitisers en recorders voor registratie van kortstondige verschijnselen (΄transient recor- ders΄) met beide volgende kenmerken: a. digitaliseringssnelheid van 200 miljoen monsters per seconde en een scheidend vermogen van 10 bit of meer, en b. een continue verwerkingscapaciteit van 2 Gbit/s of meer. Technische noot: Bij instrumenten met een parallelle busarchitectuur is de continue verwerkingscapaciteit het product van de hoogste ΄word rate΄ en het aantal bit in een woord. Continue verwerkingscapaciteit betekent de grootste snelheid waarmee het instrument gegevens kan uitsturen naar het massageheugen zonder verlies van informatie terwijl de bemonsteringssnelheid en analoog/digitaal- omzetting niet worden onderbroken. 6. digitale instrumentatierecorders, gebruikmakend van magneetschijfgeheugentechniek, met beide volgende kenmerken: a. digitaliseringssnelheid van 100 miljoen monsters per seconde en een scheidend vermogen van 8 bit of meer, en b. een continue verwerkingscapaciteit van 1 Gbit/s of meer. b. ΄΄Samenstellingen΄΄ van ΄΄frequentiesynthesizers΄΄ met een ΄΄frequentiewisseltijd΄΄ van de ene gekozen frequentie naar de andere van minder dan 1 ms. c. Radiofrequentie-΄΄signaalanalysatoren΄΄, als hieronder: 1. ΄΄signaalanalysatoren΄΄ geschikt voor het analyseren van frequenties hoger dan 31,8 GHz, maar niet hoger dan 37,5 GHz, en met een 3 dB resolutiebandbreedte hoger dan 10 MHz; 2. ΄΄signaalanalysatoren΄΄ geschikt voor het analyseren van frequenties hoger dan 43. 5 GHz; 3. ΄΄dynamische signaalanalysatoren΄΄ met een ΄΄tijdgebonden bandbreedte΄΄ groter dan 25,6 kHz. Noot: In 3A002. c. 3 worden niet bedoeld dynamische signaalanalysatoren die uitsluitend gebruikmaken van bandbreedtefilters met constant percentage (ook wel octaaf- of deeloctaaffilters genoemd). d.  «Synthesized» signaalgeneratoren die uitgangsfrequenties afgeven waarvan de nauwkeurigheid en stabi- liteit op korte of lange termijn wordt bepaald door, afgeleid van, of beheerst door de inwendige referentiestandaard en met een of meer van de volgende kenmerken: 1. een maximale «synthesized» uitgangsfrequentie hoger dan 31,8 GHz maar niet hoger dan 43,5 GHz en gespecificeerd voor een pulsduur van minder dan 100 ns; 2. Een maximale «synthesized» uitgangsfrequentie hoger dan 43,5 GHz; L 74/106 NL Publicatieblad van de Europese Unie 13. 3. 2006 3A002 d. (vervolg) 3. een ΄΄frequentiewisseltijd΄΄ van de ene gekozen frequentie naar de andere van minder dan 1 ms; of 4. een enkel zijband (SSB)-faseruis, beter dan –(126 + 20 log10F – 20 log10f) in dBc/Hz, waarin F de verschuiving van de werkfrequentie is in Hz en f de werkfrequentie in MHz. Technische noot: In 3A002. d. 1. wordt onder ΄΄pulsduur΄΄ verstaan het tijdsinterval tussen het moment waarop het pulsfront 90 % van de piekwaarde bereikt en het moment waarop het pulsdal 10 % van de piekwaarde bereikt. Noot: In 3A002. d wordt niet bedoeld apparatuur waarbij de uitgangsfrequentie wordt verkregen door het optellen of aftrekken van twee of meer kristaloscillatorfrequenties, waarna de uitkomst eventueel wordt vermenig- vuldigd. e. Netwerkanalysatoren met een maximale werkfrequentie hoger dan 43,5 GHz. f. Microgolftestontvangers met beide volgende kenmerken: 1. een maximale werkfrequentie hoger dan 43,5 GHz; en 2. geschikt voor het gelijktijdig meten van amplitude en fase. g. Atomaire frequentiestandaarden met een van beide volgende kenmerken: 1. stabiliteit (΄aging΄) minder (beter) dan 1 × 10– 11/maand, of 2. ΄΄gekwalificeerd voor gebruik in de ruimte΄΄. Noot: In 3A002. g. 1 worden niet bedoeld rubidiumstandaarden die niet ΄΄gekwalificeerd voor gebruik in de ruimte΄΄ zijn. 3A003 Temperatuurregelingssystemen met nevelkoeling die gebruik maken van apparatuur met een gesloten vloeistofcirculatie en -reconditioneringscircuit in een lucht- en waterdicht omhulsel waarin met speciaal daartoe ontworpen spuitmonden een diëlektrische vloeistof op elektronische componenten wordt verne- veld om deze binnen de gebruikstemperatuur te houden, en speciaal hiervoor ontworpen onderdelen. 3A101 Elektronische uitrusting, elementen en onderdelen, anders dan vermeld in 3A001, als hieronder: a. b. analoog/digitaal-omzetters, geschikt voor gebruik in ΄΄raketten΄΄ en gespecificeerd om te voldoen aan de militaire specificaties voor ruw gebruik voor apparatuur; versnellers waarmee elektromagnetische straling kan worden geproduceerd in de vorm van remstraling afkomstig van versnelde elektronen met een energie van 2 MeV of meer en systemen die deze versnellers bevatten. Noot: In 3A101. 