متناسب با متن زیر، یک عنوان انتخاب کرده و آن را خلاصه کنید

متن: پیاده‌سازی فناوری soi یکی از استراتژی‌های معمول تولیدی است که به منظور کاهش افزاره‌های میروالکترونیک به کار گرفته شده‌است، به صورت محاوره‌ای با عنوان «گسترش قانون مور» (یا «مور بیشتر» به اختصار mm) اشاره می‌شود. مزایا و فواید گزارش شده فناوری soi مرتبط با پردازش سیلیکونی معمولی (بدنه cmos) شامل موارد زیر است. اختلال پارازیتی کمتر در ظرفیت خازنی به دلیل ایزوله بودن و دوری از بدنه سیلیکون معمولی، که باعث بهبود در نحوه مصرف توان در عملکرد مشابه می‌شود. مقاوم بودن در برابر latchup (اتصال کوتاه در مدارهای مجتمع) به دلیل ایزوله بودن کامل در ساختارهای n و p. عملکرد بهتر در vdd (ولتاژ مثبت منبع در fetها). توانایی کار در vdd کمتر. کاهش وابستگی دمایی بعلت کاهش غلظت. بازده بهتر با توجه به غلظت و تراکم زیاد، همچنین استفاده بهتر از ویفر. کاهش مسائل مربوط به آنتن. بدون نیاز به بدنه. جریان‌های نشتی کمتر به علت ایزوله بودن در نتیجه کارایی در توان مصرفی بهتر. سخت شدن پرتوزایی ذاتی (مقاومت در برابر خطاهای کوچک)، بنابراین نیاز به انحصار کاهش میاب از دید تولید، زیربناهای soi با بیشتر فرایندهای ساخت متعارف مطابقت دارند. در حالت کلی، یک فرایند پایه‌گذاری شده بر روی soi ممکن است بدون تجهیزات خاص یا بازسازی مناسب یک کارخانه موجود اجرا شود. در بین چالش‌های منحصر به soi، درخواست‌های مترولوژی جدید برای حسابداری لایه اکسید دفن شده و نگرانی‌ها در مورد تنش دیفرانسیل در لایه سیلیکونی بالاتر است. ولتاژ آستانه ترانزیستور بستگی به تاریخچه عملیات و ولتاژ اعمال‌شده بر روی آن دارد، بنابراین مدل‌سازی سخت‌تر می‌شود. مانع اولیه در اجرای soi، افزایش قابل توجهی در هزینه زیر لایه است که تخمین زده می‌شود باعث ۱۰ تا ۱۵ درصد افزایش به کل هزینه‌های تولید می‌شود. یک mosfet soi یک دستگاه نیمه‌هادی (mosfet) است که در آن یک‌لایه نیمه‌هادی مانند سیلیکون یا ژرمانیوم روی یک‌لایه عایق قرار داده شده‌است که ممکن است یک‌لایه اکسید خاکی (box) در زیرلایه یک‌نیمه هادی قرار گرفته باشد. دستگاه‌های mosfet soi برای استفاده در صنعت رایانه مطابقت داده شده‌اند. یک‌لایه اکسید خاکی می‌تواند در طراحی حافظه sram استفاده شود. دو نوع افزاره soi وجود دارد: pdsoi mosfet (از نوع soi تقریبا خالی‌شده) و fdsoi mosfet (از نوع soi کاملا خالی‌شده). برای یک pdsoi mosfet …
جواب:
"سیلیکون بر روی عایق" میتواند عنوان مناسب و "فناوری سیلیکون بر روی عایق (soi) به استفاده از یک لایه سیلیکون-عایق بر روی سیلیکون به جای استفاده از لایه سیلیکون معمولی در تولید نیمه هادی‌ها ، علی‌الخصوص در میکرو الکترونیک برای کاهش ظرفیت پارازیت دستگاه منسوب می‌کند ، در نتیجه عملکرد بهبود پیدا می‌کند . لایهٔ عایق و لایهٔ بالایی سیلیکونی نیز کاربردهای بسیار زیادی را شامل می‌شود ." میتواند خلاصه ی مناسبی برای این متن باشد